JPS62252543A - 光学的記録用媒体 - Google Patents
光学的記録用媒体Info
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- JPS62252543A JPS62252543A JP61095264A JP9526486A JPS62252543A JP S62252543 A JPS62252543 A JP S62252543A JP 61095264 A JP61095264 A JP 61095264A JP 9526486 A JP9526486 A JP 9526486A JP S62252543 A JPS62252543 A JP S62252543A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光学的記録用媒体に存する。詳しくは、レーザ
ービームを照射して局部的に加熱し、その加熱部に穴も
しくは凹部な形成することによって記録する光学的記録
用媒体に関するものである。
ービームを照射して局部的に加熱し、その加熱部に穴も
しくは凹部な形成することによって記録する光学的記録
用媒体に関するものである。
〔従来の技術]
基板上に形成された薄膜にレーザービームを照射して、
孔を形成するようにした光学的記録媒体として、従来よ
l) Teを使用することが知られている。’reは低
融点、低熱伝導度を有するために上記方法による記録に
おいて高い感度を示す。しかしTeは酸化され易く酸化
されると透明になシ記録できなくなるという問題がある
。
孔を形成するようにした光学的記録媒体として、従来よ
l) Teを使用することが知られている。’reは低
融点、低熱伝導度を有するために上記方法による記録に
おいて高い感度を示す。しかしTeは酸化され易く酸化
されると透明になシ記録できなくなるという問題がある
。
上記問題点を改良したものとして、Teを合金化したも
のTeの低酸化物、’reを有機薄膜中に分散させたも
の等がある。(例えば特開昭t j −3/10ダ公報
、特開!♂−j4tJ3♂公報、特開昭!7−2/39
Z公報)。
のTeの低酸化物、’reを有機薄膜中に分散させたも
の等がある。(例えば特開昭t j −3/10ダ公報
、特開!♂−j4tJ3♂公報、特開昭!7−2/39
Z公報)。
本発明者らは、特に、Te −Be合金系記録媒体を、
Te−8e合金をターゲットとしArガスを用いてスパ
ッタリングすることによシ堆積せしめ、その特性につい
て検討した結果これらの媒体には、膜全面に数千Xから
7μmの径を有する結晶粒が存在することを発見し、こ
れが、信号再生時のノイズの一因となり、C2ハ比(C
arrier to noiSe ratio )を低
下させる事実を確認した。
Te−8e合金をターゲットとしArガスを用いてスパ
ッタリングすることによシ堆積せしめ、その特性につい
て検討した結果これらの媒体には、膜全面に数千Xから
7μmの径を有する結晶粒が存在することを発見し、こ
れが、信号再生時のノイズの一因となり、C2ハ比(C
arrier to noiSe ratio )を低
下させる事実を確認した。
本発明者らは、この様な結果をふまえて更に種々検討し
た結果Arガスに、Be16等のフッ化セレンガスを混
入してターゲット?スパッタする事によシ、非晶質構造
を有し、従って結晶粒及び結晶粒界が存在しないため、
感度、ピット形状共に良好で、しかも、経時安定性に優
れた光学的記録用媒体が得られる事を見込出し、本発明
を完成した。
た結果Arガスに、Be16等のフッ化セレンガスを混
入してターゲット?スパッタする事によシ、非晶質構造
を有し、従って結晶粒及び結晶粒界が存在しないため、
感度、ピット形状共に良好で、しかも、経時安定性に優
れた光学的記録用媒体が得られる事を見込出し、本発明
を完成した。
一方、記録感度及びピット形状の改善のためには、基板
と記録媒体との間に下引き層を設けることも有効である
。下引き層材料としては、C82、フッ化炭素ガス等各
種モノマーのプラズマ重合膜(特開J−7−//7/3
9、!9−9θ29≦公報)ポリテトラフルオロエチレ
ン’fB 脂等tD y。
と記録媒体との間に下引き層を設けることも有効である
。下引き層材料としては、C82、フッ化炭素ガス等各
種モノマーのプラズマ重合膜(特開J−7−//7/3
9、!9−9θ29≦公報)ポリテトラフルオロエチレ
ン’fB 脂等tD y。
バッタ膜(特開!ター902’11..!♂−!θ、l
’9を公報)等がある。本発明者らは、特にフルオロカ
ーボンの重合膜またはスパッタ膜に注目し7、該フルオ
ロカーボン薄膜の改善及び上記Te及びSeを含むスパ
ッタ膜からなる、記録媒体との組合せについて、鋭意検
討した結果、Te又はTeを含む合金をターゲット材と
して、特に、フッ化セレンガスとArガスとの混合ガス
中において、反応性スパッタリングを行い、フルオロカ
ーボン薄膜層を被着した基板上に、Te及びSsを含む
スパッタ膜を形成することにより、経時安定性に優れ、
高C7N比(Carrier t。
’9を公報)等がある。本発明者らは、特にフルオロカ
ーボンの重合膜またはスパッタ膜に注目し7、該フルオ
ロカーボン薄膜の改善及び上記Te及びSeを含むスパ
ッタ膜からなる、記録媒体との組合せについて、鋭意検
討した結果、Te又はTeを含む合金をターゲット材と
して、特に、フッ化セレンガスとArガスとの混合ガス
中において、反応性スパッタリングを行い、フルオロカ
ーボン薄膜層を被着した基板上に、Te及びSsを含む
スパッタ膜を形成することにより、経時安定性に優れ、
高C7N比(Carrier t。
noiSe ratio ) 、高感度を有する光学的
記録媒体が得られることを見い出しだ。
記録媒体が得られることを見い出しだ。
以下図面を参照して、本発明の詳細な説明する。第1図
は、本発明の光学的記録用媒体の具体的構造の一例を示
す模式図であって、(1)は基板、(2)は基板(1)
上に配置したフルオロカーボンのプラズマ重合膜あるー
はポリフルオロカーボンのバッタ膜、(3)は膜(2)
上に反応性スパッタリングにより形成したTo及びSe
を含む記録層(4)はトラックサーボ用の溝である。第
1図の例では、基板(1)は射出成形等によってトラッ
クサーボ用の案内溝を設けたポリメチルメタクリレート
樹脂や、ポリカーボネ−1・樹脂が用込られる。
は、本発明の光学的記録用媒体の具体的構造の一例を示
す模式図であって、(1)は基板、(2)は基板(1)
上に配置したフルオロカーボンのプラズマ重合膜あるー
はポリフルオロカーボンのバッタ膜、(3)は膜(2)
上に反応性スパッタリングにより形成したTo及びSe
を含む記録層(4)はトラックサーボ用の溝である。第
1図の例では、基板(1)は射出成形等によってトラッ
クサーボ用の案内溝を設けたポリメチルメタクリレート
樹脂や、ポリカーボネ−1・樹脂が用込られる。
基板(1)上にフルオロカーボンのプラズマ重合膜、す
るじは、ポリフルオロカーホンノスパッタ膜(2)を形
成するにあたり、フルオロカーポントシテハ、OF、
、 C,、F、などのパーフルオロアルカン、OF’3
0FOF2などのパーフルオロアルケン又ハ、パーフル
オロヘキサン、パーフルオロベンゼン等、常温で気体、
ある因は液体であっても蒸気圧が十分高く、真空容器に
該フルオロカーボンの蒸気を/θ−3Torr以上満た
し、グロー放電が可能となるもので、フッ素の置換度が
高いものが望ましい。これらフッ化炭素をモノマーとし
て容量式あるいは誘導式放電を用いることによシプラズ
マ重合膜を形成する。ポリフルオロカーボンとしては、
ポリテトラフルオロエチレン樹脂、テトラフルオロエチ
レン−ヘキサフルオロプロピレン共重合樹脂、テトラフ
ルオロエチレン−パーフルオロアルコキシエチレン共重
合樹脂などを周込、これらをターゲットとして、Arな
どの不活性ガス、あるいは、不活性ガスと前記モノマー
の混合ガスでスパッタすることにより、スパッタ膜を形
成する。このプラズマ重合膜またはスパッタ膜の膜厚は
、20〜さらに、上記フルオロカーボン下引き層(2)
の上に、Te及びSeを含む記録層(3)を反応性スバ
ツメリング法によって、jOA〜/μm程度、好ましく
は、=00〜1000A程度の厚さに堆積する。この反
応性スパッタリング法に用いるターゲット材としては、
Teあるいは、Toを母材としてSe、 Pb、 Bi
、 Sb、 Sn、 Ge、 As 等を含む合金が挙
げられる。一方Ajガスに混合すベフツ化セレンガスの
比率は/〜よ0%(体積比)の範囲に選ばれる。Te及
びSeを含む堆積膜からなる記録層3におけるSeの含
有率(この日eはフッ化セレンガスに由来するもの及び
Te −Be合金を用いた場合の該合金に由来するもの
を含む)は原子比(atomic%)で!〜2!チで選
ばれる。これは膜中のSe含有量が原子比でタチ未満で
あると、経時安定性が悪化し、2!チ以上であると、感
度、ビット形状が悪化するためである。他の第3成分等
を含む場合、その量は通常、Teに対し、原子比で7〜
20%程度が好適に用いられる。
るじは、ポリフルオロカーホンノスパッタ膜(2)を形
成するにあたり、フルオロカーポントシテハ、OF、
、 C,、F、などのパーフルオロアルカン、OF’3
0FOF2などのパーフルオロアルケン又ハ、パーフル
オロヘキサン、パーフルオロベンゼン等、常温で気体、
ある因は液体であっても蒸気圧が十分高く、真空容器に
該フルオロカーボンの蒸気を/θ−3Torr以上満た
し、グロー放電が可能となるもので、フッ素の置換度が
高いものが望ましい。これらフッ化炭素をモノマーとし
て容量式あるいは誘導式放電を用いることによシプラズ
マ重合膜を形成する。ポリフルオロカーボンとしては、
ポリテトラフルオロエチレン樹脂、テトラフルオロエチ
レン−ヘキサフルオロプロピレン共重合樹脂、テトラフ
ルオロエチレン−パーフルオロアルコキシエチレン共重
合樹脂などを周込、これらをターゲットとして、Arな
どの不活性ガス、あるいは、不活性ガスと前記モノマー
の混合ガスでスパッタすることにより、スパッタ膜を形
成する。このプラズマ重合膜またはスパッタ膜の膜厚は
、20〜さらに、上記フルオロカーボン下引き層(2)
の上に、Te及びSeを含む記録層(3)を反応性スバ
ツメリング法によって、jOA〜/μm程度、好ましく
は、=00〜1000A程度の厚さに堆積する。この反
応性スパッタリング法に用いるターゲット材としては、
Teあるいは、Toを母材としてSe、 Pb、 Bi
、 Sb、 Sn、 Ge、 As 等を含む合金が挙
げられる。一方Ajガスに混合すベフツ化セレンガスの
比率は/〜よ0%(体積比)の範囲に選ばれる。Te及
びSeを含む堆積膜からなる記録層3におけるSeの含
有率(この日eはフッ化セレンガスに由来するもの及び
Te −Be合金を用いた場合の該合金に由来するもの
を含む)は原子比(atomic%)で!〜2!チで選
ばれる。これは膜中のSe含有量が原子比でタチ未満で
あると、経時安定性が悪化し、2!チ以上であると、感
度、ビット形状が悪化するためである。他の第3成分等
を含む場合、その量は通常、Teに対し、原子比で7〜
20%程度が好適に用いられる。
以上のような構成を有する本発明光学的記録媒体は、フ
ッ化セレンガスに由来するSeを、含むために、記録層
が非晶質構造となり、感度、ビット形状に優れたものと
なる。またSeの働きとして記録層の経時安定性が極め
て良く、温度70 ’C1相対湿度?!チの加速試験を
3θ日間行った後でも、その反射率は全く変化しないと
云う効果もある。更に上記のような下引き層を用いるこ
とによシ、特に、形状が均一で明確なリムを有するビッ
トが形成され、従って高6/N比が達成され、かつ、高
感度な記録媒体を得ることができる。
ッ化セレンガスに由来するSeを、含むために、記録層
が非晶質構造となり、感度、ビット形状に優れたものと
なる。またSeの働きとして記録層の経時安定性が極め
て良く、温度70 ’C1相対湿度?!チの加速試験を
3θ日間行った後でも、その反射率は全く変化しないと
云う効果もある。更に上記のような下引き層を用いるこ
とによシ、特に、形状が均一で明確なリムを有するビッ
トが形成され、従って高6/N比が達成され、かつ、高
感度な記録媒体を得ることができる。
第2図は、本発明に係る光学的記録媒体の製造のための
装置の一例である。図中(1)は真空容器、(2)はポ
リテトラフルオロエチレン樹脂p−ゲット、(3)はT
e又はTeを含む合金ターゲット、(4)は基板(5)
を設置した対向電極、(6)はガス導入口、(7)はシ
ャッター、(8)は排気口、(9)はRF電源、QO)
は切り換えスイッチである。電極(4)は移動可能であ
って、ポリテトラフルオロエチレン樹脂ターゲット(2
)の直上に配置してフルオロカーボンのスパッタ膜から
なる下引き層を被着したのち、真空を破ることなくター
ゲット(3)の直上に移動せしめ、ひき続き記録層の形
成を行うことができる。第2図に示した装置の場合、ガ
ス導入口(6)よりArガスを導入してターゲット(2
)と電極(4)の間で高周波グロー放電を生じせしめて
、フルオロカーボンのスパッタ膜を基板(5)上に形成
し、ひき続きガス導入口よj5 arとフッ化セレンの
混合ガスを導入してTe又はTeを含む合金ターゲット
(3)と電極(4)の間でやはシ高周波グロー放電を生
せしめて、反応性スパッタリングを行い、Te及びSe
を含む堆積膜からなる記録層を形成する。記録層中のS
e含有量は、ターゲットにTe及びSeを含む合金を使
用する場合には、ターゲット中のSe含有量によっても
制御できるが、特に、フッ化セレンのグロー放電プラズ
マ中での分解によ)、気相中よシ膜中に混入するBBの
量については、フッ化セレンガスとArガスの混合比ま
たは、放電条件(放電電力、全圧力等)によっても制御
可能であシ、この場合、Se含有量を幅広く、かつ、連
続的に制御することができ、記録層薄膜中の深さ方向で
の組成に望みの分布を与えることも可能である。
装置の一例である。図中(1)は真空容器、(2)はポ
リテトラフルオロエチレン樹脂p−ゲット、(3)はT
e又はTeを含む合金ターゲット、(4)は基板(5)
を設置した対向電極、(6)はガス導入口、(7)はシ
ャッター、(8)は排気口、(9)はRF電源、QO)
は切り換えスイッチである。電極(4)は移動可能であ
って、ポリテトラフルオロエチレン樹脂ターゲット(2
)の直上に配置してフルオロカーボンのスパッタ膜から
なる下引き層を被着したのち、真空を破ることなくター
ゲット(3)の直上に移動せしめ、ひき続き記録層の形
成を行うことができる。第2図に示した装置の場合、ガ
ス導入口(6)よりArガスを導入してターゲット(2
)と電極(4)の間で高周波グロー放電を生じせしめて
、フルオロカーボンのスパッタ膜を基板(5)上に形成
し、ひき続きガス導入口よj5 arとフッ化セレンの
混合ガスを導入してTe又はTeを含む合金ターゲット
(3)と電極(4)の間でやはシ高周波グロー放電を生
せしめて、反応性スパッタリングを行い、Te及びSe
を含む堆積膜からなる記録層を形成する。記録層中のS
e含有量は、ターゲットにTe及びSeを含む合金を使
用する場合には、ターゲット中のSe含有量によっても
制御できるが、特に、フッ化セレンのグロー放電プラズ
マ中での分解によ)、気相中よシ膜中に混入するBBの
量については、フッ化セレンガスとArガスの混合比ま
たは、放電条件(放電電力、全圧力等)によっても制御
可能であシ、この場合、Se含有量を幅広く、かつ、連
続的に制御することができ、記録層薄膜中の深さ方向で
の組成に望みの分布を与えることも可能である。
以下実施例によシ、本発明を更に詳しく説明する。
真空容器をj X / 0−’ Torrまで排気した
後、Arガスを/ X 10” Torrまで導入し、
/3.jl。
後、Arガスを/ X 10” Torrまで導入し、
/3.jl。
MHzの高周波電力100Wでグロー放電を生ぜしめ、
ポリカーボネート樹脂基板上にポリテトラフルオロエチ
レンのスパッタ膜を約/ j nm堆積した。この後基
板側電極をTe22%、Be/2%の合金ターゲット直
上に移動し、グリスバッタを行った後SeF、ガスを体
積比にして/Q−程度導入し、全圧を! X / 0−
3Torrとした。
ポリカーボネート樹脂基板上にポリテトラフルオロエチ
レンのスパッタ膜を約/ j nm堆積した。この後基
板側電極をTe22%、Be/2%の合金ターゲット直
上に移動し、グリスバッタを行った後SeF、ガスを体
積比にして/Q−程度導入し、全圧を! X / 0−
3Torrとした。
やは9/3.jtMHzの高周波電力r0wでグロー放
電を生ぜしめ、Te Se堆積膜を約4t j nm堆
積させた。Se含有量は原子質量比(atomic%)
にして、72%であった。
電を生ぜしめ、Te Se堆積膜を約4t j nm堆
積させた。Se含有量は原子質量比(atomic%)
にして、72%であった。
ついで、この光学的記録媒体に波長?30nmのGa
AI As半導体レーザーで記録と再生を行ったところ
、C,ハ比j7dBが得られた。記録感度は一1記録媒
体上のレーザーパワーK mW 及(Jビーム逆L≦μ
mに対して、/1Orsaecであった。
AI As半導体レーザーで記録と再生を行ったところ
、C,ハ比j7dBが得られた。記録感度は一1記録媒
体上のレーザーパワーK mW 及(Jビーム逆L≦μ
mに対して、/1Orsaecであった。
テトラフルオロエチレンモノマー及ヒArヲArに対し
て較正されたマスプローコントローシーを通じて各々夕
OCOM、 / J−OCM流し、真空容器内を!
X 1O−3Torrの反応性ガスで満たした。容1式
結合を用いた高周波電極に73.jtMHS!−の高周
波電圧を印加し、放電電力10OWで!分間放電を行な
い、約700Aのプラズマ重合膜を形成した。この後実
施例/と同様にしてTo Be堆積膜を約4t j n
m堆積させた。
て較正されたマスプローコントローシーを通じて各々夕
OCOM、 / J−OCM流し、真空容器内を!
X 1O−3Torrの反応性ガスで満たした。容1式
結合を用いた高周波電極に73.jtMHS!−の高周
波電圧を印加し、放電電力10OWで!分間放電を行な
い、約700Aのプラズマ重合膜を形成した。この後実
施例/と同様にしてTo Be堆積膜を約4t j n
m堆積させた。
ついで、この光学的記録用媒体に実施例/と同様にして
記録と再生を行なったところ、O/N比j 、g dB
が得られた。記録感度は、/20nSecであった。
記録と再生を行なったところ、O/N比j 、g dB
が得られた。記録感度は、/20nSecであった。
フルオロカーボン下引き族を設けず、ポリカーボネート
樹脂基板上に直徽上記To Be堆積膜を形成した媒体
ではC/N比t 、2 dB Lか得られなかった。ま
た、記録感度はλ00 n5eCであった。
樹脂基板上に直徽上記To Be堆積膜を形成した媒体
ではC/N比t 、2 dB Lか得られなかった。ま
た、記録感度はλ00 n5eCであった。
一方、実施例/と同様にして形成したフルオロカーボン
のスパッタ膜からなる下引き層上に、Ar、/;rス(
7)ミでスパッタしてTo Be堆積膜な形成した場合
、C7N比’l j aB Lか得られなかった。また
、記録感度は230 ntiecであった。
のスパッタ膜からなる下引き層上に、Ar、/;rス(
7)ミでスパッタしてTo Be堆積膜な形成した場合
、C7N比’l j aB Lか得られなかった。また
、記録感度は230 ntiecであった。
本発明の光学的記録用媒体はフッ化セレンガスに由来す
るBeを含有することによシ記録層中に結晶粒及び結晶
粒界の存在しない均一な非晶質構造の記録層が得られ、
従って感度に優れ、ピット形状が良好な記録媒体が得ら
れる。またフルオロカーボンのプラズマ重合膜、または
ポリフルオロカーボンのスパッタ膜からなる下引層を設
ければ、この効果は一層向上する。
るBeを含有することによシ記録層中に結晶粒及び結晶
粒界の存在しない均一な非晶質構造の記録層が得られ、
従って感度に優れ、ピット形状が良好な記録媒体が得ら
れる。またフルオロカーボンのプラズマ重合膜、または
ポリフルオロカーボンのスパッタ膜からなる下引層を設
ければ、この効果は一層向上する。
第1図は、本発明記録媒体の実施例の構造を示す、模式
的断面図である。第2図は本発明に係る光学的記録媒体
の装置の一例を示す。 図中(11は基板、(2)はフルオロカーボン膜、(3
)は記録層をそれぞれ示す。
的断面図である。第2図は本発明に係る光学的記録媒体
の装置の一例を示す。 図中(11は基板、(2)はフルオロカーボン膜、(3
)は記録層をそれぞれ示す。
Claims (2)
- (1)Te又はTeを含む合金をターゲット材として、
フッ化セレンガスとArガスとの混合ガス中において反
応性スパッタリングすることにより、基板上にTe及び
Seを含む堆積膜を形成させてなる光学的記録用媒体。 - (2)基板とTe及びSeを含む堆積膜との間にフルオ
ロカーボンのプラズマ重合膜、またはポリフルオロカー
ボンのスパッタ膜からなる下引き層を設けたことを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の光学的記録用媒体。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61095264A JPS62252543A (ja) | 1986-04-24 | 1986-04-24 | 光学的記録用媒体 |
DE8787301046T DE3776386D1 (de) | 1986-04-24 | 1987-02-05 | Optisches aufzeichnungsmedium und verfahren zu dessen herstellung. |
KR1019870000966A KR910009072B1 (ko) | 1986-04-24 | 1987-02-05 | 광학기록매체와 그 제조방법 |
EP87301046A EP0242942B1 (en) | 1986-04-24 | 1987-02-05 | Optical recording medium and process for producing the same |
CA000529093A CA1258974A (en) | 1986-04-24 | 1987-02-05 | Optical recording medium and process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61095264A JPS62252543A (ja) | 1986-04-24 | 1986-04-24 | 光学的記録用媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62252543A true JPS62252543A (ja) | 1987-11-04 |
JPH0449175B2 JPH0449175B2 (ja) | 1992-08-10 |
Family
ID=14132904
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61095264A Granted JPS62252543A (ja) | 1986-04-24 | 1986-04-24 | 光学的記録用媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62252543A (ja) |
-
1986
- 1986-04-24 JP JP61095264A patent/JPS62252543A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0449175B2 (ja) | 1992-08-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |