JPS62243193A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPS62243193A JPS62243193A JP61086553A JP8655386A JPS62243193A JP S62243193 A JPS62243193 A JP S62243193A JP 61086553 A JP61086553 A JP 61086553A JP 8655386 A JP8655386 A JP 8655386A JP S62243193 A JPS62243193 A JP S62243193A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bit line
- line pair
- memory cell
- impedance
- level
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 206010065954 Stubbornness Diseases 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000009508 confectionery Nutrition 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
不発明は半導体記憶装置に関する。
従来の半導体記憶1f[の中でスタティックRAMの構
成図を第7図に示す。1〜4はメモリセル。
成図を第7図に示す。1〜4はメモリセル。
9〜12はビット線対14.15及び1/)、17を選
択する素子で、5〜Bで選択されたビット線対は、デー
タビット線対18.19に信号が与えられ、13υセン
スアンプにより、出力22を得る。20 e 21はそ
れぞれビット対選択信号。
択する素子で、5〜Bで選択されたビット線対は、デー
タビット線対18.19に信号が与えられ、13υセン
スアンプにより、出力22を得る。20 e 21はそ
れぞれビット対選択信号。
25.21はワード線選択信号である。従来の例での1
〜12の実際例を破線内に示してあり、1〜4υメモリ
エレメントの内部は、ここでは高抵抗33A〜D、54
A〜D、35A〜D、36A〜DViNch)ランジス
タで高抵抗負荷とでデータを記憶している。37AND
、38A〜INま。
〜12の実際例を破線内に示してあり、1〜4υメモリ
エレメントの内部は、ここでは高抵抗33A〜D、54
A〜D、35A〜D、36A〜DViNch)ランジス
タで高抵抗負荷とでデータを記憶している。37AND
、38A〜INま。
選択ワードH23,2aのいずれかの信号で制御される
Nchトランジスタで各記憶内容を2つのビット線対1
4.15.16.17に出力する。
Nchトランジスタで各記憶内容を2つのビット線対1
4.15.16.17に出力する。
こυ35A〜D、36A〜Dのトランジスタhgみ出し
時のみでなく、データ書込み時にも使用する。5〜8は
ビット線対14〜17VcgE位を与える負荷で通常時
1選択ワード@25.24で選択されたメモリセルにビ
ット線対からデータが書き込1れないように、ハイレベ
ル側にビット線対を維持するために使用される0又書き
込み時にはデ−タビットd対18.19のいずれか片方
をHレベル、他の一方をLレベルとし、ビット線対選択
信*2o、21により選択されたビット線対14゜15
又は’ 6 * 17 vいずれかのビット線対の片方
をHレベル、他の一方をLレベルとし、選択ワードh4
i25.24’りいずれかで選択されたメモリセルに、
ビット線対vLレベル側からデータを書き込む。
時のみでなく、データ書込み時にも使用する。5〜8は
ビット線対14〜17VcgE位を与える負荷で通常時
1選択ワード@25.24で選択されたメモリセルにビ
ット線対からデータが書き込1れないように、ハイレベ
ル側にビット線対を維持するために使用される0又書き
込み時にはデ−タビットd対18.19のいずれか片方
をHレベル、他の一方をLレベルとし、ビット線対選択
信*2o、21により選択されたビット線対14゜15
又は’ 6 * 17 vいずれかのビット線対の片方
をHレベル、他の一方をLレベルとし、選択ワードh4
i25.24’りいずれかで選択されたメモリセルに、
ビット線対vLレベル側からデータを書き込む。
〔発明が解決しようとする間頑点]
従来例第7図で読み出し時の場合を検討する。
例として1選択ワード’+1#23がHレベル、2a7
ysLレベル、ビット線対選択信号20がLレベル。
ysLレベル、ビット線対選択信号20がLレベル。
21がHレベルの4甘を考える。この場合、メモリセル
2が選択され、1,3.Aは非選択となっている。又1
1.12は導通状態、9・IQlj非導通状態、37A
、38A、37B、38Bは導通状態4137G 、3
80,37D、58Dは非導通状態である。ここで読み
出し動作に無関係である選択されていないビットd対1
4.15についてみてみると、37A、38Aが導通状
態であるため、メモリセル1の内部ノード39At−H
レベル、dOAをLレベルとした場合に、ビット線15
側に、十這源から、トランジスタ30.トランジスタ3
8A、トランジスタ56Aの経路導通り一側に電流が流
れてしまう。以下この電流をメモリセルα流とよぶ。メ
モリセル1の内部ノード39 A7j)i L レベル
、40AdiHレベルのi合り。
2が選択され、1,3.Aは非選択となっている。又1
1.12は導通状態、9・IQlj非導通状態、37A
、38A、37B、38Bは導通状態4137G 、3
80,37D、58Dは非導通状態である。ここで読み
出し動作に無関係である選択されていないビットd対1
4.15についてみてみると、37A、38Aが導通状
態であるため、メモリセル1の内部ノード39At−H
レベル、dOAをLレベルとした場合に、ビット線15
側に、十這源から、トランジスタ30.トランジスタ3
8A、トランジスタ56Aの経路導通り一側に電流が流
れてしまう。以下この電流をメモリセルα流とよぶ。メ
モリセル1の内部ノード39 A7j)i L レベル
、40AdiHレベルのi合り。
同様に29.37A、35Aを通り電流が流れてし1う
。このメモリセル電流による消費1流は第7Mではビッ
ト線対が2組であるが、実際では64組、1za@等メ
モリ容tが増えれば増オるほど増加する傾向があり、例
えば128組のビット線対を考えt場合、127組のメ
モリセル1流となり、全体の消費1流からみても無視で
きない状況となる。
。このメモリセル電流による消費1流は第7Mではビッ
ト線対が2組であるが、実際では64組、1za@等メ
モリ容tが増えれば増オるほど増加する傾向があり、例
えば128組のビット線対を考えt場合、127組のメ
モリセル1流となり、全体の消費1流からみても無視で
きない状況となる。
不発明は上記のメモリセル1!流を減少させることを目
的とする。
的とする。
不発明の機能ブロック図を第1図に示す。1〜4.9〜
24は従来例第7図と同様である。5N。
24は従来例第7図と同様である。5N。
6N 、7N 、8NFi従米例gX7図と異なる点で
、ビット線対選択信号20.21により、ビット線負荷
のインピーダンスを制御し、非選択ビット線対では、選
択ビット線対よりもハイインピーダンスとなるように制
御し、メモリセルα流による消費通流を減少ざぜること
を特徴とする。
、ビット線対選択信号20.21により、ビット線負荷
のインピーダンスを制御し、非選択ビット線対では、選
択ビット線対よりもハイインピーダンスとなるように制
御し、メモリセルα流による消費通流を減少ざぜること
を特徴とする。
不発明でV第1 p[5N〜8NCI)実際の具体的回
路し1を第2〜6図に示す。40〜51はNチャンネル
トランジスタ、52.53.54[P+ヤンネルトラン
ジスタ、55,561dインバータである。イノビーダ
ンス制御トランジスタは、それぞれ52.53.A6,
49,51.54であり。
路し1を第2〜6図に示す。40〜51はNチャンネル
トランジスタ、52.53.54[P+ヤンネルトラン
ジスタ、55,561dインバータである。イノビーダ
ンス制御トランジスタは、それぞれ52.53.A6,
49,51.54であり。
いずれV場合は、選択時導通状態、非選択時非導通状態
となる◇また。第ル図、第5図では制御トランジスタに
、ビット線対選択トランジスタ9〜12と同種りトラン
ジスタを使用しているため、インバータ55,56を使
用しているが、このインバータはビット線対に四カリに
必要ではなく、ビット一対選択信号20.21を、逆相
の対信号とすれば、素子数の減少が可能である6また第
6図3d、Nch)ランジスタ51のケノトに、ビット
線対選択信号を印加し、PQh)ランジスタ54にリー
ド時にレベルとなる信号を印加したf9!Jである。こ
のf46図の様な実施例では、ビット線対選択信号だけ
でなく、他の状態でもインピーダンスを高くしたい場+
にはPchトランジスタ54のケノトに独立して信号を
与えればよい。54はNch )ランジスタでも良く、
ビット線対選択信号との組会せは他にも可能である。ま
また、この実施列では、制(2)トラン・ジスタの導通
、非導通により、負荷インピーダンスt−fえているが
、ビット線対選択信号に対応して、制御トランジスタの
ゲート1位を制−する万云も考えられる。
となる◇また。第ル図、第5図では制御トランジスタに
、ビット線対選択トランジスタ9〜12と同種りトラン
ジスタを使用しているため、インバータ55,56を使
用しているが、このインバータはビット線対に四カリに
必要ではなく、ビット一対選択信号20.21を、逆相
の対信号とすれば、素子数の減少が可能である6また第
6図3d、Nch)ランジスタ51のケノトに、ビット
線対選択信号を印加し、PQh)ランジスタ54にリー
ド時にレベルとなる信号を印加したf9!Jである。こ
のf46図の様な実施例では、ビット線対選択信号だけ
でなく、他の状態でもインピーダンスを高くしたい場+
にはPchトランジスタ54のケノトに独立して信号を
与えればよい。54はNch )ランジスタでも良く、
ビット線対選択信号との組会せは他にも可能である。ま
また、この実施列では、制(2)トラン・ジスタの導通
、非導通により、負荷インピーダンスt−fえているが
、ビット線対選択信号に対応して、制御トランジスタの
ゲート1位を制−する万云も考えられる。
1友、不発明は、読み出し時のセル電流を減少させる方
法であるが、従来用られている書込み時りC自費!i流
を押えるために使用する書き込み時どット古負荷町変イ
ンピーダンス方式(8託エレクトロニクス19B6,2
.10 P−197)とt/、l組付せも可能である
。特に第6図の例が、制御する合成信誉を作る必要がな
く、使いやすいと思われる。また1%にアルミ2I−配
線プロセスを使用した場脅、ビット線選択トランジスタ
9〜12と、ビット線負荷5N〜8Nを、パター7配置
上メモリセルに対して同じ側に配′々することが容易に
可能である。
法であるが、従来用られている書込み時りC自費!i流
を押えるために使用する書き込み時どット古負荷町変イ
ンピーダンス方式(8託エレクトロニクス19B6,2
.10 P−197)とt/、l組付せも可能である
。特に第6図の例が、制御する合成信誉を作る必要がな
く、使いやすいと思われる。また1%にアルミ2I−配
線プロセスを使用した場脅、ビット線選択トランジスタ
9〜12と、ビット線負荷5N〜8Nを、パター7配置
上メモリセルに対して同じ側に配′々することが容易に
可能である。
[発明の効果]
本9を明は、実施例で説明した通り、非選択ビット線対
でのビット負荷インピーダンスを大キくスることにより
、読み出し時に必−決な選択されたビット線の負荷イン
ピーダンスを変更することなしに、非選択ビット線での
メモリセルm流を減らし消費電流を減らすことが可能で
ある。
でのビット負荷インピーダンスを大キくスることにより
、読み出し時に必−決な選択されたビット線の負荷イン
ピーダンスを変更することなしに、非選択ビット線での
メモリセルm流を減らし消費電流を減らすことが可能で
ある。
第1図は本発明の様相ブロック図。
第2図は不発明の具体的実施列を示す図OPg31A、
5.6図は本発明の他の具体的実施列を示す図。 第7図は従来の機能ブロック図◎ メ 1 口 晃2■ 輩31コ 算1小 A5巳 窩 6必 聞 7 口
5.6図は本発明の他の具体的実施列を示す図。 第7図は従来の機能ブロック図◎ メ 1 口 晃2■ 輩31コ 算1小 A5巳 窩 6必 聞 7 口
Claims (1)
- 複数の選択ワード線及び複数の直交配置されたビット線
対をもち、該複数のビット線対を選択しセンスアンプに
接続する構成を持つ半導体記憶装置において、選択され
ないビット線対に接続する負荷インピーダンスを選択さ
れたビット選対に接続する負荷インピーダンスよりも高
くすることを特徴とする半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61086553A JPS62243193A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61086553A JPS62243193A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62243193A true JPS62243193A (ja) | 1987-10-23 |
Family
ID=13890193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61086553A Pending JPS62243193A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62243193A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5706231A (en) * | 1996-06-27 | 1998-01-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device having a redundant memory cell |
-
1986
- 1986-04-15 JP JP61086553A patent/JPS62243193A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5706231A (en) * | 1996-06-27 | 1998-01-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device having a redundant memory cell |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4586163A (en) | Multi-bit-per-cell read only memory circuit | |
KR950007451B1 (ko) | 반도체 기억 장치에 사용되는 증폭기 | |
US3953839A (en) | Bit circuitry for enhance-deplete ram | |
JPS63276781A (ja) | 2進データを格納する半導体メモリ | |
US5539691A (en) | Semiconductor memory device and method for reading and writing data therein | |
KR900000904A (ko) | 반도체기억장치와 이것을 이용한 데이터패스(data path) | |
KR19980080153A (ko) | 고속 기입 회복을 하는 메모리 장치 및 고속 기입회복 방법 | |
EP0166540A2 (en) | A semiconductor memory device | |
US5003542A (en) | Semiconductor memory device having error correcting circuit and method for correcting error | |
JPH01503030A (ja) | 電流検出差動増幅器 | |
KR930006729A (ko) | 반도체 메모리의 판독회로 | |
KR940007888A (ko) | 반도체 기억장치 | |
US5022003A (en) | Semiconductor memory device | |
KR850003045A (ko) | 라인 절환 회로 및 그를 사용한 반도체 메모리 | |
JPS5979487A (ja) | デコ−ダ回路 | |
KR870002585A (ko) | 반도체 메모리 장치 | |
KR0155986B1 (ko) | 반도체 기억장치 | |
KR920001520A (ko) | 반도체 메모리 셀 | |
KR960026783A (ko) | 반도체 집적 회로 | |
JPS62243193A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPS63205890A (ja) | 半導体メモリ装置 | |
JPS62298092A (ja) | 半導体メモリセルおよび半導体メモリ回路 | |
JP3176985B2 (ja) | 半導体メモリ | |
US7057955B2 (en) | Dynamically unbalanced sense amplifier | |
JPH0432093A (ja) | 半導体メモリ |