JPS62236800A

JPS62236800A - 飾り部品

Info

Publication number: JPS62236800A
Application number: JP7962486A
Authority: JP
Inventors: 武宏中村
Original assignee: Nippon Soken Inc
Current assignee: Soken Inc
Priority date: 1986-04-07
Filing date: 1986-04-07
Publication date: 1987-10-16

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は飾り部品に関し、特に車両のエンブレム等に使
用して好適な飾り部品に関する。

［従来の技術］近年は車両に高級感やファツション性が要求されるよう
になっており、飾り部品にも様々な工夫が凝らされてい
る。

［発明が解決しようとする問題点］本発明はかかる背景に鑑み、簡単な構造で美観に優れた
飾り部品を提供することを目的とする。

［問題点を解決するための手段］本発明の構成を第１図ないし第３図で説明する。

飾り部品１（第３図）には表面に文字部２が形成しであ
る。文字部２は文字や図形等からなり、可視光の波長付
近の大きさの凹部２１および凸部２２を繰り返し形成し
た光反射面で構成しておる（第１図、第２図）。

［作用、効果］上記文字部２に可視光が入射すると、凹部２１および凸
部２２でそれぞれ反射された光の間に行路差による位相
差が生じ、文字部２を見る角度により異なる波長の反射
光が強められて文字部２は紅色に輝く。

かくして、極く簡単な構造により意匠性に優れた飾り部
品を得ることができる。

［実施例］第３図には車両用エンブレムを示し、長方形状の基板１
の表面に文字部２が形成しである。文字部２の拡大断面
図および拡大平面図をそれぞれ第１図、第２図に示す。

図において、基板表面には矩形格子状に凹部２１が形成
してあり、該凹部２１の深さは０１幅はｇないしｍであ
る。また、凹部２１に囲まれた凸部２２の多片はａ、ｂ
としである。これら各寸法ａ、ｂ、ｄ、Ｍ　、ｍはいず
れも可視光の波長付近としてあり、詳しくは０．０５μ
ｍ〜１０μｍである。

上記基板１としては例えばシリコン（Ｓ　ｉ　）ウェハ
が使用でき、これを使用した場合の文字部２の形成方法
を第４図に示す。

第４図（１）において、鏡面研磨した３ｉウエハ１上に
スピンナによりレジスト３を塗布する。

続いてフォトマスクを用いたフォトリソグラフィ等によ
りレジスト３を上記幅ｇ、ｍの格子状に除去する（第４
図（２））。

この後、フッ化水素！　（ＨＦ）系のエツチング液によ
り３ｉウエハ１を深ざｄでエツチングしく第４図（３）
）、残余のレジスト３を除去して文字部２を得る（第４
図（４））。

かかる構造の文字部２に可視光Ｌ１、Ｌ２が入射すると
、凹部２１で反射された光Ｌ１と凸部２２で反射された
光Ｌ２では行路差による位相差を生じ、文字部２を見る
角度により異なる波長の反射光が強められて文字部２は
虹色に輝く。

このようにして、意匠性に優れたエンブレムを得ること
ができる。

上記３ｉウエハ１に所望の色を着色して更に意匠性を向
上せしめることもできる。例えば、５ｉウエハ１の表面
を熱酸化して０．１μｍ〜１μｍの酸化薄膜を形成する
と、光干渉により膜厚に応じた地色となり、その上に上
記文字部２の虹色が重なる。

上記酸化膜に代えて、Ｓｉウェハ１上に蒸着ヤスバッタ
により窒化膜、Ａｌ２Ｏ３膜、Ｔａ２０５膜、Ｔ　ｉ　
Ｏ２膜、ＩＴＯ膜等、Ｓｉと屈折率の異なる透光性薄膜
を形成しても同様の効果が得られ、ざらにはＡｕ膜の如
きそれ自体に色を有する膜を形成しても良い。

３ｉウエハ１のエツチングにはＡｒガスやＣＦ４ガスに
よるドライエツチングが使用できる。また、レジスト３
を文字形成部にのみ塗布するために、文字形成部以外を
必らかしめテープ等でマスキングし、塗布後テープ等を
はがすようにしても良い。レジスト３としてはポジレジ
ストを使用することももちろんできる。この場合には、
３ｉウ工ハ１全面にレジストを塗布して文字形成部以外
を露光除去し、残った文字形成部のレジストに格子状の
マスクで露光、現像して格子模様を形成する。

形成する凹凸の大きざに応じて電子ビームリソグラフイ
ヤホログラフィックリソグラフィを使用する。

ざらに、基板としては、３ｉウエハ以外に鏡面研磨した
ＳＵＳ等の金属板やプラスチック等の樹脂板を使用でき
る。

第５図には本発明の他の実施例を示す。本実施例では基
板１としてガラス板を使用し、鏡面研磨したガラス板１
の裏面に上記実施例と同様にリソグラフィとエツチング
で凹部２１および凸部２２を形成する。そして、これら
凹部２１と凸部２２の表面に光反射面としてＡ、＋！　
、Ｎ　１−Ｏｒ、　Ａｕ等の金属膜４を付着せしめる。

かかる構造によっても、ガラス板１の表面より入射し反
射される光Ｌ１、Ｌ２には位相差を生じ、前出の実施例
と同様の効果がある。

本実施例において、ガラス板１仝体に着色を施すには、
例えば第６図に示す如く、金属膜４との間にＴｉＯ２膜
、ｌ！２　ｏ３膜等の光干渉薄膜５を所定厚で形成する
。

本実施例は文字部２を基板１の裏面に形成したから、汚
損等の影響を受けないという利点がある。

上記各実施例において、凹部２１はかならずしも格子状
に形成する必要はなく、例えばいずれかの方向に平行状
としても良いが、この場合には虹色に視認できる角度が
限られる。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第４図は本発明の一実施例を示し、第１図
は文字部の拡大断面図で、第２図のＩ−Ｉ線に沿う断面
図、第２図は文字部の拡大平面図で、第３図のＡ部拡大
図、第３図は車両エンブレムの全体平面図、第４図は文
字部の形成工程を説明する断面図、第５図は本発明の他
の実施例を示す拡大断面図、第６図は本発明の更に他の
実施例を示す拡大断面図である。１・・・・・・基板　　　　　２・・・・・・文字部２
１・・・・・・凹部　　　　２２・・・・・・凸部３・
・・・・・レジスト　　　４・・・・・・金属膜５・・
・・・・光干渉薄膜第３図　　　０第４図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）基板面に文字部を形成してなる飾り部品において
、上記文字部を、可視光の波長付近の大きさの凹凸を繰
り返し形成した光反射面で構成したことを特徴とする飾
り部品。
（２）上記凹部を基板面に矩形格子状に形成し、残部を
凸部となした特許請求の範囲第１項記載の飾り部品。
（３）上記基板を鏡面研磨したシリコン（Ｓｉ）ウェハ
で構成し、上記凹凸をリソグラフィとエッチングで形成
した特許請求の範囲第１項記載の飾り部品。
（４）上記凹凸の大きさを０．０５μｍ〜１０μｍの間
で選択した特許請求の範囲第１項記載の飾り部品。
（５）上記凹凸をガラス基板の裏面に形成し、凹凸の表
面に光を反射する金属膜を付着せしめた特許請求の範囲
第１項記載の飾り部品。
（６）上記文字部を含む基板面に所定厚の光干渉薄膜を
形成した特許請求の範囲第１項記載の飾り部品。