JPS62228086A - セフエム化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は優れた抗菌作用を有する新規なセフェム化合物
およびその製造法ならびに医薬組成物に関するものであ
る。

（従来の技術） 従来より、３位に含窒素縮合複素環チオメチル基、７位
に２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−まノニは
２−（５−アミノル１，２．４−チアジアゾール−３−
イル）−２−ヒドロキン（または置換ヒドロキシ）イミ
ノアセトアミド基をあわせ持つセフェム化合物またはそ
の誘導体が合成された例は数少なく、なかでも、３位の
含窒素縮合複素環チオメチル基の含窒素縮合複素環がト
リアゾール環に他の複素環が縮合した環であるものはわ
ずかに日本国公開特許公報昭６０−１．４２９８７に見
られるだけである。

（発明か解決しようとする問題点） セフェム系抗生物質（１人お３］−び動物の病原性細菌
により生ずる疾病の治療に広く使用されており、たとえ
ばペニシリン系抗生物質に抵抗性を示す細菌に起因する
疾病の治療、１３よびペニシリン感受性患者の治療に特
に有用である。その場合ダラム陽性菌およびダラム陰性
菌の両各に対して活性を示すセフェム系抗生物質を用い
ることが望ましく、この理由から広い抗菌スペクトルを
持つセフェム系抗生物質の研究が盛んに行なわれてきた
。また、かつてペニシリンにおいて経験されたと同様の
耐性菌、いわゆるセファロスポリン耐性菌に対して活性
を示すセフェム系抗生物質が求められ、既知のセファロ
スポリン類に耐性を示した一部のエンエリヒア・コリ菌
、一部のシトロバクタ−属および大部分のインドール陽
性のプロテウス属、エンテロ属、セラデア属あるいはノ
コウドモナス属などに分類される病原性細菌に対して臨
床的に使用が可能な程度の抗菌力を発現するセフェム系
抗生物質の探索も盛んに行なイっれてきた。これらの研
究の中から、３位に含窒素縮合複素環ヂオメチル基。

７位に前記のアミノデアゾリル（またはアミノチアジア
ゾリル）オギンイミノアセトアミド類をあわせ持つセフ
ェム化合物がさらに優れた抗菌作用と独特な抗菌スペク
トルを有することが示唆され、その系統の化合物が種々
合成されてきた。

（発明を解決するための手段） 本発明は一般式 １式中、Ｒ，は保護されていてもよいアミノ基を、Ｑは
窒素原子または（、−Ｒ，で表わされる基を、Ｒ７は水
素原子またはハロゲン原子を、Ｒ３は水素原子または置
換されていてもよい炭化水素残基を、Ａは置換されてい
てもよいトリアゾロピリジニル基、トリアゾロピリダン
ニル基またはトリアゾロピランニル基を、それぞれ示す
って表わされるセフェム化合物またはその薬学的に受容
される塩もしくはエステル、およびその製造法ならびに
医薬組成物に関するものである。

７一 本明細書におけるセフェム化合物は「ザ・ジャーナル・
オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソザイエティ」第８
４巻３４００頁（１，９６２年）に記載されている「セ
ファム」に基づいて命名された化合物群であり、セフェ
ム化合物はセファム化合物のうち３゜４−位に二重結合
を有する化合物を意味する。

従来の技術の項で述べたように３位に含窒素縮合複素環
ヂオメチル基、７位にアミノデアゾリル（またはアミノ
デアジアゾリル）オキシイミノアセトアミＦ類をあわせ
もつセフェム化合物またはその誘導体が合成された例は
少なく、特に本発明の３位がトリアゾロピリジニルヂオ
メチル基、トリアゾロピリダジニルヂオメチル基または
トリアゾロピラジニルヂオメチル基で７位が２−（２−
アミノデアゾール−４−イル）−，２−（２−アミノ−
５−ハロゲノチアゾール−４−イル）−または２−（５
−アミノ−Ｉ、２．４−デアジアゾール−３−イル）−
２−ヒドロキシ（または置換ヒドロキシ）イミノアセト
アミド基であるセフェム化合物については全く合成が行
なわれていない。本発明者ら一８＝ はこのような化学構造上の特徴を持つ一般式［１］で表
わされる化合物を合成することに成功するとともに、そ
れらの化合物の抗菌活性と抗菌スペクトルを調べた結果
、化合物［１］が各種の細菌に対して強い抗菌作用を有
することを見出して本発明を完成した。化合物［１］の
ある種のものは前述のセファロスポリン耐性菌に対する
強い抗菌作用をあわせ持っている。

上記セフェム化合物［Ｉ］において置換基Ｒ，は保護さ
れていてもよいアミノ基、すなわちアミノ基または保護
されたアミノ基を表わす。β−ラクタムおよびペプチド
合成の分野ではアミノ基の保護基は充分に研究されてい
てその保護法はすでに確立されており、本発明において
もアミノ基の保護基としてはそれら公知のものが適宜に
採用されうる。アミノ基の保護基として＋ＪたとえばＣ
６，。

アリール−アシル基、Ｃ，、アルカノイルＭｉ、Ｃ３−
５アルケノイル基、Ｃ８−１０アリールスルホニル基、
Ｃ１−５゜アルキルスルホニル基、置換オギ７カルポニ
ル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、Ｃ，、□
。アリール−メチル基、ＣＯ＋Ｏアリール−メチレン基
、Ｃｅ−＋ｏアリールヂオ基、置換ンリル基、２−Ｃ。

−、アルクギシーカルボニル−１−メヂル−１−エチニ
ル基などがあげられる。Ｃ＋１−１ｆ＋アリ−ルーアツ
ル基としては具体的に（Ｊベンゾイル、ナフトイル、フ
タロイルなどがあげられ、これらの芳香環はＣ１−４ア
ルギル、Ｃ１−。アルコギシ、ハロゲン、ニトロなどで
置換されていてらよい。置換されたアリール−アシル基
としては具体的にはｐ−ｈルオイル、ｒ）−１ｅｒｔ−
ブチルベンゾイル。ｐ−メトギンベンゾイル、ｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシベンゾイル、ｐ−クロロベンゾイル、ｐ
−二トロベンゾイルなどがあげられる。Ｃｌ−５アルカ
ノイル基として（Ｊ具体的にはホルミル、アセデル、プ
ロピオニル、ブチリル、バレリル、ピバロイル、ザクエ
シル。グルタリルなとがあげられ、これらのアルカノイ
ル基はさらにｃｌ−８アルコキシ、ハロゲン、Ｃ６−Ｉ
ｏアリール、Ｃｏ、。アリールオギシ、　Ｃｅ□。アリ
ールヂオなどで置換されていてもよい。置換されたアル
カノイル基としては具体的に（」モノクロロアセデル、
ジクロロアセデル、トリクロロアセデル、モノブロモア
セデル。

モノフルオロアセデル、ジフルオロアセチル、　ｌ−リ
フルオロアセデル、モノヨードアセデル、アセトアセチ
ル、３−オキソブヂリル、４−クロロー３−オギソブヂ
リル、フェニルアセデル、ｐ−クロロフェニルアセデル
、フェノキシアセデル、ｐ−クロロフェノキンアセデル
などがあげられる。Ｃ３−５アルケノイル基としては具
体的にはアクリロイル、クロトノイル、マレオイルなど
があげられ、これらのアルケノイル基はざらにＣａ−＋
Ｏアリールなどで置換されていてもよい。置換されたア
ルケノイル基としては具体的にはシンナモイルなどがあ
げられろ。ＣＩ＋−１８アリールスルホニル基としては
具体的にはベンゼンスルホニル、ナフタレンスルボニル
などがあげられ、これらの芳香環＋；ｔ：Ｃ，，アルギ
ル、ＣＩ−ｅアルコキン、ハロゲン、ニトロなどで置換
されていてもよい。置換されたアリールスルボニル基と
しては具体的にはｐ−トルエンスルボニル。

ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンスルホニル、ｐ−メトキ
ンベンゼンスルボニル、ｐ−クロロベンゼンスルホニル
、ｐ−ニトロベンゼンスルボニルなどがあげられる。Ｃ
ｌ−１（＋アルギルスルボニル基としては具体的にはメ
タンスルボニル、エタンスルボニル、カンファースルホ
ニルなどがあげられ、これらのアルキルスルボニル基は
Ｃ６−１ｏアリール＋Ｃｆ１ｌ。アリールオギシ、ハロ
ゲンなどで置換されていてもよい。置換オキシカルボニ
ル基としてはたとえばメトギシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、イソプロボキソツＪルボニル、　ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニル、イソボルニルオキシカルボニルな
どのＣＩ−８アルコギシ−カルボニル基、たとえばフェ
ノキンカルボニル、ナフヂルオキンカルボニルなどの０
６．ｏアリールオギン−カルボニル基、たとえばベンジ
ルオキシカルボニルなどの０７□、アラルギルオキシカ
ルボニル基などがあげられる。ｃｌ−８アルコキン−カ
ルボニル基はさらにＣ１−。アルコキノ、Ｃ３−５アル
カノイル、置換シリル＋Ｃ１１アルキルスルホニル、ハ
ロゲン、シアノなどで置換されていてもよい。置換され
たアルコギシーカルポニル基としてはたとえばメトギシ
メチルオキソカルボニル。

アセデルメチルオキシカルボニル、２−トリメチルソリ
ルエトキンカルボニル、２−メタンスルボニルエトキン
カルボニル、２，２．２−　）リクロロエトキシカルポ
ニル、２−シアノエトキシカルボニルなどがあげられる
。Ｃ１ｌ＋。アリールオキシカルボニル基およびＣ７□
。アラルギルオキシカルボニル基の芳香環はｃｌ−４ア
ルキル、Ｃ１ｆｌアルコキシ、ハロゲン、ニトロなどで
置換されていてもよい。置換されたアリールオキシカル
ボニル基としては具体的にはｐ−メチルフェノギシヵル
ボニル、ｐ−メトギシフエノキシヵルボニル、ｐ−クロ
ロフェノキシカルボニルなどがあげられる。置換された
アラルギルオキシカルボニル基としては具体的にはｐ−
メチルベンジルオキンカルボニル、ｐ−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、ｐ−クロロペンジルオキンカルボ
ニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルなどがあげ
られる。またＣ？−１０アラルキルオキシ−カルボニル
基のアルギル基はｃ、−８゜アリール、ハロゲンなどで
置換されていてもよく、具体的にはペンズヒドリルオキ
シカルボニルなどがあげられる。カルバモイル基は置換
されていてもよい。置換されたカルバモイル基としては
具体的にはＮ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバ
モイル、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニル
カルバモイル、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）カルバモ
イルなどがあげられる。ヂオカルバモイル基も同様に置
換されていてもよい。置換されたヂオカルバモイル基と
しては具体的にはＮ−メチルヂオカルハモイルなどがあ
げられる。Ｃ６−１ｏアリール−メチル基としては具体
的にはベンジル、ナフチルメチルなどがあげられ、これ
らの芳香環ｉ；ｌ：Ｃ，，アルギル、Ｃ１〜６アルコギ
ノ、ハロゲン、二Ｉ・口などで置換されていてもよい。

置換されたアリールメチル基として（Ｊ具体的にｉｊ：
　ｐ−メチルベンジル。ｐ−メトギンペンシル１ｐ−ク
ロロヘンシル、ｐ−ニトロベンジルなどかあげられろ。

またアリールメチル基のメチル基はらう１〜２個のＣｏ
−＋ｏアリール基で置換されていてしよく、具体的には
ベンズヒドリル、トリチルなどがあげられる。Ｃｅ−＋
ｏアリールーメヂレン基としては具体的にはベンジリデ
ンなどがあげられ、これらの芳香環はＣ１−４アルキル
、Ｃ，、アルコキノ、ハロゲン。

ニトロなどで置換されていてもよい。置換されたアリー
ルアミノ基としては具体的にはｐ−メチルベンジリデン
、ｐ−クロロベンジリデンなどがあげられる。Ｃ６−１
ｏアリールヂオ基としては具体的には０−二ｌ・ロフェ
ニルチオなどがあげられる。

置換ノリル基は保護されろアミノ是とあわざって一般式
ＲｏＲ，＋ＲｇｓｉＮＨ，（ＲｏＲ７ＲａＳｉ）２ＮＲ
？　、　Ｒｅ　、　Ｒ！ｌ　、　Ｒ＋　ｏ　、　Ｒｓ　
’　、Ｒ＋　ｏ　’はそれぞれたとえばメチル、エチル
、Ｉｅｒｔ−ブチルｌＪ゛どのｃ、−４アルギル基もし
くはたとえばフェニルなどのＣｌ１ｌ−１６アリール基
を示し、それぞれ同一または異なっていてもよい。また
Ｚ′はたとえばメヂレン、エヂレンなどのＣ，、アルキ
レン基を示ず］で表わされるようなノリル基を意味し、
具体的にはトリメヂルンリル、ｔｅｒｔ−ブチルンメチ
ルンリル、　−Ｓ　ｉ（ＣＲ３）２ＣＨ、ｃ　Ｉ−１２
Ｓ　］（ＣＲ３）２−などがあげられる。２−Ｃ，，ア
ルコキソーカルポニルー１−メチル−１−エチニル基の
０１−８アルコキン基として目たとえばメトキン、エト
キシ、　ｔｅｒｔ−ブトギシなどがあげられる。

」１記セフェム化合物［１］において記号Ｑは窒素原子
またはＣ−Ｒ７で表わされる基を、置換基Ｒ２は水素原
子またはハロゲン原子を表イつず。ハロゲン原子として
はフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などがあげられ、好まし
くは塩素である。

上記セフェム化合物［１］において置換基Ｒ３は水素原
子または置換されていてもよい炭化水素残基を表わす。

炭化水素残基としてはたとえばＣ１−６アルキル基、Ｃ
７−６アルケニル基、Ｃ３−ａンクロアルキル基などが
あげられ、Ｃ３−３アルキル基（たとえばメチル、エチ
ル、プロピルなど）または置換されたＣ１−３アルキル
基が特に好ましい。Ｃｌ−１ｌアルギル基としては具体
的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ペンチル、ヘキシルなどがあげられる。Ｃ２−６アルケ
ニル基としては具体的にはビニル、アリル、イソプロペ
ニル、メタリル、１，１−ツメデルアリル、２−ブテニ
ル、３−ブテニルなどがあげられる。Ｃ３−６ソクロア
ルキル基としては具体的にはンクロプロピル、シクロブ
チル、ソクロペンヂル、シクロヘギシルなどがあげられ
る。

これらの炭化水素残基の置換基としてはたとえば水酸基
、ＣＱ−８ンクロアルキル基、Ｃ，−６アルコキン基、
Ｃ３，−８シクロアルキルオギソ基＋　ＣＧ−１０アリ
ールオギシ基、Ｃ７−１２アラルキルオギシ基、メルカ
プト基＋ＣＩＢアルギルヂオ基、Ｃ３−［１ンクロアル
ギルヂオ基、Ｃ６−＋ｏアリールヂオ基、Ｃ７−１２ア
ラルギルチオ基、アミノ基、モノＣＩ−４アルキルアミ
ノ基、ジＣ１−４アルキルアミノ基＋０３Ｇシクロアル
ギルアミノ基、Ｃ，、。アリールアミノ基、Ｃ？−１２
アラルキルアミノ基、環状アミノ基、アジド基、ニトロ
基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボギンル基、Ｃ，，
アルコキシ−カルボニル基、Ｃ８，ｏアリールオギシー
カルポ゛ニル基、Ｃ３−ｅシクロアルギルオギシ−カル
ボニル基、Ｃ？−１２アラルキルオギシーカルボニル基
、Ｃｏ−ＩＱアリール−アシル基＋　０１５アルカノイ
ル基、Ｃ３−５アルケノイル基、ｃｏ□。アリールーア
ンルオキシ基、Ｃ２−５アルカノイルオギソｆＬ　、　
Ｃ３−５アルケノイルオギン基、カルバモイル基、置換
カルバモイル基、ヂオカルバモイル基、置換ヂオカルバ
モイル基、カルバモイルオキシ基、置換カルバモイルオ
キシ基、フタルイミド基、Ｃ２ｆｉアルカノイルアミド
基、Ｃ１１−ｌｏアリール〜アシルアミド基、ＣＩ−４
アルコキシ−カルボニルアミノ基、ｃｅ＋。アリールオ
キシ−カルボニルアミノ基＋ｃ７１２アラルキルオギシ
−力ルポニルアミノ基、複素環基などがあげられる。具
体的にはＣ３−Ｇシクロアルギル基はシクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンデル。

シクロヘキシルなどを、Ｃ，、アルコキノ基ｉ；、１メ
）・ギン、エトキシ、プロポギン、イソプロポギン、ブ
トキシ、　ｔｅｒｔ−ブトキシなどを、Ｃ３−６シクロ
アルギルオキン基はシクロプロピルオギシ、シクロへキ
シルアミノなどを、Ｃ，、ｏアリールオキシ基はフェノ
ギシ、ナフチルオギンなどを、Ｃ，、、、アラルキルオ
キシ基はペンンルオギシ、２−フェニルエヂルオギノな
どを、ＣＩ−ａ”ｊ’ルギルチオ基はメチルヂオ、エチ
ルチオ、プロピルヂオ、ブチルチオなどを、Ｃ３−６シ
クロアルキルチオ話はノクロプロピルヂオ、シクロへキ
シルチオなどを、Ｇｏ−＋ａアリールヂオ基はフェニル
チオなどを、Ｃ７，−１，アラルキルチオ基はペンジル
チオなどを、モノＣ＋−４アルキルアミノ基はメチルア
ミノ、エチルアミノ。

プロピルアミノ、ブチルアミノなどを、ジＣ１−４アル
キルアミノ基はジメチルアミノ、ンエチルアミノ、メチ
ルエヂルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブデルアミノな
どを、Ｃ３−６シクロアルギニルアミノ基はシクロプロ
ピルアミノ、シクロへキシルアミノなどを、Ｃｅ−＋ｏ
アリールアミノ基はアニリノなどを、Ｃ７□、アラルギ
ルアミノ基はベンジルアミノ、２−フェニルエヂルアミ
ノなどを、環状アミノ基はピロリジノ、ピペリジノ、ピ
ペラジノ、モルホリノ、Ｉ−ピロリル、１−イミダゾリ
ル、１−ピラゾリルなどを、ハロゲン原子はフッ素、塩
素、臭素などを、Ｃ＋−ｅアルコギシーカルボニル基は
メトギシカルボニル、エトギンカルボニル、プロポキシ
カルボニル、イソプロボギシカルボニル、ブトキンカル
ボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、イソボルニル
オキシカルボニルなどを、Ｃ［１−１ｏアリールオキシ
−カルボニル基はフェノギンカルボニルなどを、Ｃ３−
６シクロアルキルオギシーカルボニル乱（Ｊシクロプロ
ビルオキシカルボニル、シクロへキシルオギシ力ルボニ
ルなどを、Ｃ７−１２アラルギルオギシ−カルボニル基
はペンジルオキシカルボニルなどを、ＣＧ−１０アリ−
ルーアツル基はベンゾイル、フタロイル、フェニルアセ
チルなどを、Ｃ，−、アルカノイル基はホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、ピバロイル
なとをＣ１−。

アルケノイル基はアクリロイル、クロトノイル、マレオ
イルなどを、Ｃｏ−＋ｏアリールーアシルオキシ基はペ
ンソイルオキシなどを、Ｃ２−５アルカノイルオギシ基
はアセトキン、ブ［７ピオニルオギシ、プチリルオギシ
、ピバロイルオギソなどを、Ｃ３−５アルケノイルオギ
シ基はアクリロイルオギンなどを、置換カルバモイル基
はＮ−メチルカルバモイル。

Ｎ　、　Ｎ−−ジメチルカルバモイル、Ｎ−エチルカル
バモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、ピ〔１リッツカ
ー２〇− ルボニル、ピペリジノカルボニル、ピベラジノカルポニ
ル１モルポリノカルボニルなどを、置換チオカルバモイ
ル基はＮ−メチルヂオ力ルバモイルなどを、置換力ルバ
モイルオギシ基はＮ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ、
Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチルカルバモ
イルオキシなどを、Ｃ２−５アルカノイルアミド基はア
セトアミド、プロピオンアミドなどを、ＣＧ＋。アリー
ルアンルアミド基はベンズアミドなどを、０．４アルコ
ギシー力ルポニルアミノ基はメトギルカルボニルアミノ
。

エトギノカルポニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブトギシカルボ
ニルアミノなどを、Ｃ１１−１０アリールオキシ−カル
ボニルアミノ基ｉＪフェノギシカルポニルアミノなどを
、Ｃ７−１２アラルギルオキノーカルボニルアミノ基は
ベンジルオキシカルボニルアミノなどを、複素環基は２
−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、Ｎ−オキシ
ド−２−ピリジル、Ｎ−オキシド−３−ピリジル、Ｎ−
オキノド−４−ピリンル、２−ピペリノニル、３−ピペ
リジニル、４−ピペリジニル、ピペラジニル、２−ピラ
ジニル、２−ビリミシェル、４−ピリミジニル、５−ピ
リミンニル、３−ピリダノニル、４−ピリダノニル、２
−ピラニル。

３−ピラニル、４−ピラニル１２−チオピラニル。

３−チオピラニル。４−チオピラニル、３１イーインド
ール−２−イル、３１１−インドール−３−イル。

１．２．３−デアジアゾール−４−イル、］、］２．４
−チアジアゾールー５−イルＩ、２，４−デアジアゾー
ル−３−イル、Ｉ、３．４−デアジアゾリル。

１．２．５−デアジアゾリル、ｌ、２．３−トリアゾリ
ル、］、］２．４−トリアゾリル１■［−テトラゾリル
、ベンゾピラニル、２−フリル、３−フリル、２−チェ
ニル。３−チェニル、２−オギザゾリル、４−オキザゾ
リル、５−オキザゾリル、２−デアゾリル１４−デアゾ
リル、５−チアゾリル、３−イソギザゾリル、４−イソ
ギザゾリル、５−イソギザゾリル。

３−イソデアゾリル、４−イソデアゾリル、５−イソチ
アゾリル、２−ピロリル、３−ピロリル１２−ピロリジ
ニル、３−ピロリジニル、２−イミダゾリル、／Ｉ−イ
ミダゾリル１５−イミダゾリル、３−ピラゾリル、７Ｉ
−ピラゾリル、５−ピラゾリルなどの窒素原子（オギン
ド化されていてもよい）、酸素原子、硫黄原子などのへ
テロ原子を１〜数個含む５〜８員環またはその縮合環で
炭素原子に結合手を有するものを、それぞれ表わす。ま
た」二ａ己のアラルキルオキシ基、アラルギルチオ基、
アラルキルアミノ基、アラルギルオキシカルボニル基お
よびアラルギルオキシカルボニルアミノ基のアラルキル
基を構成するアルキル基はもう１個のＣ６−１゜アリー
ル基で置換されていてもよく、具体的にはペンズヒドリ
ルオギン、ペンズヒドリルチオ、ベンズヒドリルアミノ
、ペンズヒドリルオキシカルボニル。

ベンズヒドリルオキシカルボニルアミノなどがあげられ
る。」二足した炭化水素残基の置換基は１個に限定され
ず、同一または異なって複数個（２ないし４個）あって
もよい。ＣＩ［＋アルキル基のα位に置換した２個の置
換基があわさって複素環を形成しているものも含まれる
。置換された炭化水素残基としてはハロゲン原子、水酸
基、アミノ基、０１→アルコキシ基、カルボキシル基、
　ＣＩ−８アルコキノ−カルボニル基、ンアノ基などで
置換されたＣ１一３アルキル基がより好ましい。置換さ
れた炭化水素残基を具体的にあげると、メトキンメチル
、ｌ−メトギノエチル、■−エトキシエチル、２−ヒド
ロキシエチル、２−アミノエチル、２−フルオロエチル
、２−クロロエチル、２−プロモエチｌし、プＪルボギ
シメチル、シアノメチル、１−カルボキン−１−メチル
エチル、１−カルボキシシクロプロピル。

メトギシカルボニルメチル、エトキン力ルポニルメチル
、１−メトギシカルボニルンクロプロピフレ。

ｔｅｒｔ−ブトギシカルボニルメチル２１−メトキシカ
ルボニル−１−メチルエチル、ｌ−エトキノカルボニル
−１−メチルエチル、　Ｉ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニル−１−メチルエチル、１−ベンジフレオキシカルボ
ニル−１−メチルエチル、１−ピノくロイルオキシカル
ボニル−１−メザーＪレエチル、２−（ピラゾリル）エ
チル、２−（イミダゾリル）エチル、２−（２−オキソ
ピロリジン−３−イフレ）エチル、２−アミノ−４−ま
たは５−チアゾリルメチル、５−アミノ−１，２，４−
チアジアンア゛ブール−３−イルメチル、ｌ−カルボキ
シ−Ｉ−（２，３゜４−トリヒドロキシフェニル）メチ
ル、２−オキソー３−ピロリノルなどのほか多くのもの
があげられる。また本明細書においてＯＲ３基はすべて
ソン配位（Ｚ配位）である。

」二足セフェム化合物［１］において置換基Δは置換さ
れていてもよいトリアゾロピリジニル基、トリアゾロピ
リダジニル基またはトリアゾロピラジニル基を表わす。

これらのトリアゾロピリンニル基、トリアゾロピリダジ
ニル基、　ｌ−リアゾロピラジニル基はＣ−Ｎ結合を共
有してトリアゾール環と、それぞれピリンン環、ピリダ
ジン環、ピラジン環が縮合した環の環構成炭素原子に結
合した水素原子を１個とりのぞいてできる基をいう。ト
リアゾロピリジニル基を構成するトリアゾロピリジニル
環は具体的には があげられる。トリアゾロピリダジニル基を構成するト
リアゾロピリダジン環は具体的にはがあげられる。トリ
アゾロピランニル基を構成するｌ・リアゾロピラジン環
は具体的にはがあげられる。置換基Δは」１記の縮合環
のいずれかの炭素原子に結合手を有する基である。また
」１記の縮合環基（Ａ）の結合手を有する炭素原子以外
の炭素原子」二の水素原子は他の置換基で置換されてい
てもよい。このような置換基として（Ｊたとえば水酸基
、０１〜４ヒドロギシアルギル基、Ｃ，、アルギル基、
Ｃ３−ｅアルケニル基＋Ｃ７ｎフルギニル基１Ｃ４ｆｉ
アルカンエニル基、Ｃ３Ｇノクロアルギル基。

Ｃ３−８シクロアルケニル基、Ｃ３，ツクＤアルギルー
Ｃ，，アルギル基、Ｃ８，。アリール括、Ｃ１−１２ア
ラルキル基、複素環基、　Ｃ＋−Ｂアルコギノ基、Ｃ１
〜６アルコキンーＣ１−。アルギル基、Ｃａ−ａノクロ
アルキルオキシ基、Ｃｏ−＋ｏアリールオキシ展、ｃ７
−１２アラルキルオキシ基、メルカプト基、Ｃｌ−４メ
ルカプトアルギル基、スルホ基、Ｃ＋−ａスルポアルギ
ル基。

Ｃｌ−６アルキルヂオ基、Ｃ，、アルキルチオーｃ１−
４アルキル基、Ｃ３［１ノクロアルギルチオ基、Ｃ［１
−１０アリールヂオ基、Ｃ７，、アラルギルチオ基、Ｃ
９−４シアノアルキルチオ基、アミノ基、Ｃ，、アミノ
アルキル基、モノＣ＋−４アルキルアミノ基、ジｃ１−
４アルキルアミノ基、モノｃ、−４アルキルアミノ−Ｃ
ｌ−４アルギル基、ジＣ１−４アルキルアミノ−Ｃ１−
４アルキルＪｌ　、　Ｃ３−ｅシクロアルギルアミノ基
、Ｃ８，ｏアリールアミノ基、Ｃ７□、アラルギルアミ
ノ基、環状アミノ基、環状アミノ−Ｃ，−４アルギル基
、環状アミノ−Ｃ３−４アルギルアミノ基、アジド基、
二１・ロ基、ハロゲン原子、Ｃ，，ハロゲノアルギル基
、シアノ基、ノアノーＣ＋−４アルキル基、カルボキシ
ル基。

カルボキシ−Ｃ，−、アルキル基、Ｃｌ−８アルコキシ
−カルボニル基、Ｃ４−。アル：１キン−カルボニル−
Ｃ１−４アルギル基、Ｃｅ＋。アリールオギンーカルボ
ニル基、Ｃ３−ｃシクロアルキルオギン−力ルポニル−
２７＝ 基、０７〜ｌ、アラルギルオギンーカルボニル基、　Ｃ
ａ−４゜アリール−アシル基、Ｃ１ｆｉアルカノイル基
、Ｃ２−５アルカノイル−０１−４アルギル基、Ｃ３，
アルケノイル基、Ｃｏ−＋ｏアリールーアシルオキシ基
、Ｃ９−、アミノアルキル基、Ｃ２ｆｉアルカノイルオ
オキ−Ｃ５−４アルキル基、Ｃ３−５アルケノイル才ギ
ン基、カルバモイル基、カルバモイル−ＣＩ−４アルキ
ル基、置換カルバモイル基、チオカルバモイル基。

置換チオカルバモイル基、カルバモイルオキノ基。

カルバモイルオキノーＣ３−４アルキル基、置換力ルバ
モイルオキソ基、フタルイミド基、Ｃ１２５アルカノイ
ルアミド基、Ｃｏ−＋ｏアリールーアノルアミド基、ス
ルホンアミド基、２−アミノ−２−カルボキシエチル基
＋ＣＩ４アルコギシー力ルポニルアミノ基、　Ｃｅ□。

アリールオギンープＪルポニールアミノ塙。

Ｃ７，、アラルキルオキシー力ルポニルアミノ基などが
あげられる。具体的にはＣ１−４ヒドロキンアルギル基
はヒドロキシメチル、２−ヒドロギンエヂルなどを、Ｃ
，−、アルギル基はメチル１エチル。

プロピル、イソブ〔１ピル２ブヂル、イソゾヂル、ｓｅ
ｃ一ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルな
どを、Ｃ２−６アルケニル基はビニル、アリル、イソプ
ロペニル、メタリル、Ｉ、Ｉ−ジメチルアリル、　Ｉ　
−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニルなどを、Ｃ２
−ａアルキニル基はエヂニル、Ｉ−プロピニル、２−プ
ロピニル、プロパルギルなどを、Ｃ４−ａアルカジェニ
ル基は１．３−ブタジェニルなどを、０３−６シクロア
ルキル基はシクロプロピル、ツクロブデル、シクロペン
チル、シクロヘギソルなどを、Ｃ３−。ツクａアルケニ
ル基は１−シクロペンテニル、２−シクロペンテニル、
３−シクロペンテニル、１−シクロへギセニル、２−ノ
クロへギセニル、３−ンクロへキセニル、１．４−シク
ロへキザジエニルなどを、Ｃ３−８シクロアルキル−Ｃ
２−。アルキル基はンクロペンチルメチル、シクロヘキ
ノルメチルなどを、Ｃｅ−ｔｏアリール基はフェニル、
ナフチルなどを、Ｃ７，？アラルキル基はベンジル、フ
ェネチルなどを、複素環基は２−ピリジル、３−ピリン
ル、４−ピリンル、Ｎ−オキシド−２−ピリジル１Ｎ−
オキシドー３−ピリジル、Ｎ−才キソドー４−ピリノル
、２−ピペリジニル、３−ピペリンニル１４−ピペリノ
ニル、ピペランニル、２−ピラジニル。

２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニ
ル、３−ピリダジニル、４−ピリタジニル、２−ピラニ
ル、３−ピラニル１４−ピラニル、２−チオピラニル、
３−ヂオピラニル、４−チオピラニル。

３　Ｈ−インドール−２−イル、　３１−ｒ−インドー
ル−３−イル、Ｉ、２．３−デアジアゾール−４−イル
、］、］２．ｄ−チアジアゾールー５−イルＩ、２゜４
−チアジアゾール−３−イル、１．３．４−デアジアゾ
リル、Ｉ、２．５−デアジアゾリル、］、］２．３−ト
リアゾリル　］　、　２　、４−、−　）リアゾリル、
　］　ｉ−ｒ　−テトラゾリル、ベンゾピラニル、２−
フリル、３−フリル、２−ヂエニル、３−チェニル、２
−オギザゾリル、４−オギザゾリル、５−オギザゾリル
１２−デアゾリル、４−デアゾリル、５−デアゾリル。

３−イソギザゾリル、４−イソキサゾリル。５−イソギ
ザゾリル、３−イソデアゾリル、７Ｉ−イソデアゾリル
、５−イソデアゾリル、２−ピロリル、３−ピロリル、
２−ピロリジニル、３−ピロリノニル。

ｌ−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリ
ル、５−イミダゾリル２１−ピラゾリル、３−ピラゾリ
ル、４−ピラゾリル、５−ピラゾリルなどの窒素原子（
オキノド化されていてもよい）、酸素原子、硫黄原子な
どのへテロ原丘を１〜数個含む５〜８員環またはその縮
合環で炭素原子に結合手を有するものを、Ｃ１ａアルコ
ギン基はメトキシ。

エトキン、プ［１ボギン、イソプロボギノ、ブトギシ。

ｔｅｒｔ−ブトギンなどを、Ｃｌ−６アルコギンー　Ｃ
、−。

アルキル基はメ）・ギシメチル、上トギシメチル、２−
メトキシエチルなどをＣ３−ａシクロアルギルオキシ基
はシクロプロピルオキシ、シクロへギンルオキンなどを
、Ｃｏ、。アリールオキシ基はフェノギノ、ナフヂルオ
ギンなどを、Ｃ７□、アラルギルオキン基はヘンジルオ
キシ、■−フェニルエチルオキシ、２−フェニルエチル
オキシなどを、０１−４メルカプトアルギル基はメルカ
プトメチル、２−メルカプ１−エチルなどを、Ｃ１，−
４スルポーアルギル基はスルポメチル、２−スルポエチ
ルなどを、Ｃｌ−６アルキルチオ基はメチルチオ、エチ
ルチオ、プロー３１〜 ピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオなどを、ｃｌ
−ｅアルキルチオ−Ｃ，、アルギル基はメチルチオメチ
ル、２−メヂルチオエチルなどを、Ｃ３−６ンクロアル
キルヂオ基はノクロプロピルチオ、ンクロへキシルチオ
などを、Ｃ，、、アリールチオ基はフェニルチオなどを
、Ｃ７−１２アラルギルヂオ基はベンジルチオなどを、
ＣＩ−、ンアノアルキルチオ基はシアノメチルチオ、シ
アノエチルチオなどを、Ｃ８−４アミノアルキル基はア
ミツメデル、２−アミノエチルなどを、モノＣＩ４アル
ギルアミノ基はメチルアミノ１エヂルアミノ、プロピル
アミノ、ブヂルアミノなどを、ジＣ，−４アルギルアミ
ノ基はジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチル
アミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノなどを、モ
ノＣｌ−４アルギルアミノ−Ｃ，、アルギル基はメチル
アミツメデル、エチルアミノメチル、２−（Ｎ−メチル
アミノ）エチル、３−（Ｎ−メチルアミノ）プロピルな
どを、ジＣ，−４アルキルアミノ−Ｇ　１−４アルキル
乱はＮ、Ｎ−ジメチルアミノメチル、Ｎ。

Ｎ−ンエチルアミノメチル、２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミノ）エチル、２−（Ｎ、Ｎ−ンエヂルアミノ）エチル
、３−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルなどを、Ｃ
３−８シクロアルキルアミノ基はシクロプロピルアミノ
、ンクロへキンルアミノなどを、Ｃ１１−１０アリール
アミノ基はアニリノ、Ｎ−メチルアニリノなどを、Ｃ？
＋２アラルキルアミノ基はベンジルアミノ、ｌ−フェニ
ルエチルアミノ、２−フェニルエヂルアミノなどを、環
状アミノ基はピロリジノ１ピペリジノ、ピペラジノメチ
ルホリノ、［−ピロリルなどを、環状アミノＣ２□４ア
ルギル基はピロリジノメチル、ピペリジノメチル、ピペ
ラジノメチル、モルポリツメデル、２−（モルホリノ）
エチル。

ｌ−イミダゾリルメチル、１−イミダゾリルエチルなど
を、環状アミノＣ１□４アルギルアミノ基はピロリジノ
メチルアミノ、ピペリジノメチルアミノ、ピペラジノメ
チルアミノ１モルポリツメデルアミノなどを、ハロゲン
原子はフッ素、塩素、臭素などを、ｃｌ−＋ハロゲノア
ルキル基はモノフル才ロメヂル、ジフルオロメチル、！
・リフルオ［ツメデル。

１−フルオロエチル、２−フルオ〔１エヂル１モノクロ
ロメチル、シクロロメチル、トリクロ［エステル。

１−クロロエチル、２−クロロエチル、プロモメチル、
ヨートメデルなどを、シアノ−０１−４アルギル基はン
アノメチル、２−ンアノエヂルなどを、カルボキシ−Ｃ
１−４アルキル基はカルボキシメチル。

１−カルポキシエチル２２−カルポギソエチルなどを、
ｃｌＩｌアルコキノ−カルボニル基はメトキノカルボニ
ル、工ｌ・キシカルボニル、プロポキシカルボニル、イ
ソプロボギシカルボニル１ブトギシカルポニル、ｔｅｒ
ｔ−ブトギシカルボニル、イソボルニルオキシカルポニ
ルなどを、Ｃｌ−８アルコキシ−カルボニル−ＣＩ□ア
ルギル基はメトギシカルポニルメチル、エトキンカルボ
ニルメチル、ｔｅｒｔ−ブ）・ギシカルポニルメチルな
どを、Ｃ６−Ｉｏアリールオキソ−カルボニル基はフェ
ノギンカルボニルなどを、０３Ｇシクロアルギル才ギシ
−カルボニル基はシクロプロピルオキン力ルポニル、ソ
クロへキシルオギンカルボニルなどを、Ｃ９ｒ−１２ア
ラルギルオキンーカルポニル基はヘンジルオキシカルボ
ニルなどを、Ｃ６，、アリールーアンル基はベンゾイル
、フタロイル、フェニルアセチルなどを、Ｃ，−５アル
カノイル基はポルミル、アセデル、プロピオニル、ブチ
リル１バレリル、ピバロイルなどを、Ｃ３−５アルカノ
イル−Ｃ３−４アルギル基はアセヂルメチル、■−アセ
チルエチル１２−アセチルエチルなどを、Ｃ３−５アル
ケノイル基はアクリロイル、クロトノイル、マレオイル
などを、（／＋１−１０アーリールーアソルオギシ基は
ペンゾイルオキンなどを、Ｃ２−、アルカノイルオキシ
基はアセトキン、ブロピオニルオギン、ブヂリル才ギソ
、ピバロイルオキシなどを、Ｃ２−５アルカノイルオキ
ンーＣ５−４アルギル基はアセトギシメチル、１−アセ
トキシエヂル、２−アセトギシエチルなどを、Ｃ３５ア
ルケノイルオギシ基はアクリロイルオキシなどを、カル
バモイル−ＣＩ−４アルキル基はカルバモイルオキシな
どを、置換カルバモイル基はＮ−メチルツＪルバモイル
、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモ
イル、Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカ
ルバモイル１ピペリジノカルボニル、ピペラジノカルボ
ニル、モルホリノカルボニルなどを、カルバモイルオキ
シ−ＣＩ”４アルギル基はカルバモイルオキツメデルな
どを、置換チオカルバモイル基はＮ−メチルチオカルバ
モイルなどを、置換カルバモイルオキシ基はＮ−メチル
カルバモイルオキシ、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオ
キシ。

Ｎ−エチルカルバモイルオギシなどを、Ｃ２−５アルカ
ノイルアミド基はアセトアミド１ブ（ノビオンアミドな
どを、Ｃ６−１ｏアリール−アンルアミド基はベンズア
ミドなどを、Ｃ１□アルコギシーカルボニルアミノ基は
メトキシカルボニルアミノ、エトギンカルボニルアミノ
、ｔｅｒｔ−ブトギシカルボニルアミノなどを、Ｃ６−
１ｏアリールオキンーカルボニルアミノ基はフェノギン
カルボニルアミノなどを１．Ｃ？−１２アラルキルオキ
シ−カルボニルアミノ基はペンジルオキンカルボニルア
ミノなどを表わす。また」二足の０７１？アラルギル基
、Ｃ７−１２アラルキルオギン基、Ｃ？−１２アラルキ
ルチオ括、Ｃ７−１、アラルキルアミノ基、Ｄｗ−１２
アラルギルオキシ−カルボニル基およびＣ７−１２アラ
ルギルオキノーカルボニルアミノ基などのアラルキル基
を構成す＝３６− るアルギル基はもう１個の０６−８゜アリール基で置換
されていてもよく、具体的にはベンズヒドリル。

ペンズヒドリルオキン、ベンズヒドリルチオ、ベンズヒ
ドリルアミノ、ペンズヒドリルオキシカルボニル、ベン
ズヒドリルオキシカルボニルアミノなどがあげられる。

上記の置換基は１個に限定されず、同一または異なって
複数個（２ないし４個）置換されていてもよい。またピ
リンン環、ピリダジン環またはピラジン環上の隣接する
２つの置換基があわさって脂環５芳香族環または複素環
を形成していてもよい。

セフェム化合物［１］は塩もしくはエステルであっても
よい化合物［Ｉ］の塩のうら、特に薬学的に受容される
塩は化合物［１］を抗菌剤として使用する際に用いられ
る塩であり、その他の塩は合成中間体として利用できる
塩である。化合物［１］の塩としては無機塩基塩、アン
モニウム塩、有機塩基塩。

無機酸付加塩、有機酸付加塩、塩基性アミノ酸塩などが
あげられる。無機塩基塩を生成させうる無機塩基として
はアルカリ金属（たとえばすトリウム。

カリウムなど）、アルカリ土類金属（たとえばカルシウ
ムなど）などが、有機塩基塩を生成させうる有機塩基と
してはたとえばプ［１カイン、２−フェニルエチルベン
ノルアミン、ンベンジルエヂレンジアミン、エタノール
アミン、ジェタノールアミン。

トリスヒド口ギソメヂルアミノメタン、ポリヒドロキン
アルギルアミン、Ｎ〜メメチクルコザミン。

１．１．１−トリス（ヒドロキシメチル）メチルアミン
などが、無機酸付加塩を生成さ什うる無機酸としてはた
とえば塩酸２臭化水素酸１硫酸、硝酸、リン酸などが、
有機酸付加塩を生成させうる有機酸としてはたとえばｐ
−）ルエンスルポン酸、メタンスルポン酸、ギ酸、トリ
フルオロ酢酸、マレイン酸、コハク酸、エチルコハク酸
などが、塩基性アミノ酸塩を生成させうる塩基性アミノ
酸としてはたとえばリジン、アルギニン、オルニヂン、
ヒスチジンなどがあげられる。これらの塩のうち塩基塩
（すなわち無機塩基塩、アンモニウム塩、有機塩基塩、
塩基性アミノ酸塩）は化合物［１］の４位のカルボキシ
ル基において形成しうる塩基塩ｔｐＬ＜ｉｊ：、化合物
［１’ｌｌの置換基Ｒ３中もしくは置換基Ａ上にカルボ
キンル基１スルポ基などの酸性基が存在する場合に形成
しうる塩基塩を意味し、酸付加塩（すなわち無機酸付加
塩、有機酸付加塩）は化合物［口の置換基Ｒ３中もしく
は置換基Ａ上にアミノ基、モノアルキルアミノ基、ジア
ルキルアミノ基、シクロアルギルアミノ基、アリールア
ミノ基、アラルギルアミノ基、環状アミノ基、含窒素複
素環基などの塩基性基が存在する場合に形成しうる酸付
加塩を意味する。

化合物［Ｉ］のエステル誘導体は分子中に含まれるカル
ボキシル基、なかんづく、４位のカルボキシル基をエス
テル化することにより生成されうるエステルを意味し、
合成中間体として利用できるエステルおよび代謝」二不
安定な無毒のエステルである。合成中間体として利用で
きるエステルとしてはＣ１−４アルキルエステル、　Ｃ
２−４アルケニルエステル、Ｃ３，シクロアルキルエス
テル、　Ｃ３−０シクロアルキル−Ｃ５−４アルキルエ
ステル、ｃｏ−１ｏアリールエステル、Ｃ７−＋ｐアラ
ルギルエステル、置換シー３９〜 ノルエステルなどがあげられ、これらはさらに置換され
ていてもよい。Ｃ５−４アルキルエステルを形成するア
ルギルとしては具体的にはメチル、エチル、プロピル、
ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどを、Ｃ２−４アルケニル
エステルを形成するアルケニルとしては具体的にはビニ
ル、アリル、イソプロペニルなどを、Ｃ３−６シクロア
ルキルエステルを形成するシクロアルギルとしては具体
的にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル
、シクロヘギンルなどを、Ｃ３−６シクロアルギルーＣ
ｌ−４アルキルエステルを形成するアルギルとしては具
体的にはシクロプロピルメチル、シクロアギルメチルな
どを、Ｃｏ−＋ｏアリールエステルを形成するアリール
としては具体的にはフェニルなどを、Ｃ７−１２アラル
ギルエステルを形成するアラルギルとしては具体的には
ベンジル、フェネチルなどを、置換シリルエステルを形
成する置換シリルとしては具体的には！・リメチルシリ
ル、ｔｅｒｔ−ヅチルジメチルンリルなどをそれぞれ表
わす。またアラルキルエステルを構成するアルキルはも
う１〜２個のＣａ　−４Ｏ− １ｏアリールで置換されていてもよく、具体的にはベン
ズヒドリルエステル、　ｌ−リヂルエステルなどがあげ
られる。

代謝上不安定な無毒のエステルは経口投与が可能なエス
テルを意味し、このようなエステルとしてはペニシリン
、セファロスポリンの分野ですでに確立されているもの
が本発明においても便宜に採用されうる。このような代
謝」二不安定な無毒のエステルとしては、たとえばＣ，
、アルツＪノイルオキシメチルエステル＋　ＣＩ−５ア
ルカノイルオキソエヂルエステル、Ｃ１，、−８アルコ
ギン−０１−、アルギルエステル＋　ＣＩ−０アルギル
ヂオー０１−４アルギルエステル、ｌ（Ｃ，−。アルコ
キシ力ルポニルオギソ）Ｃ＋−ｏアルギルエステルなど
があげられ、具体的にはアセトキシメチルエステル、１
−アセトギシエヂルエステル、１−アセトキノブチルエ
ステル、２−アセトキシエチルエステル１ピハロイルオ
キンメヂルエステル、メトギソメチルエステル、工Ｉ・
キンメチルエステル、イソプ〔ノボギンメチルエステル
、１−メトキシエチルエステル、１−工トキジエチルエ
ステル、メチルチオメチルエステル、エチルチオメチル
エステル、工トギンカルポニルオキシメチルエステル、
１−（工トギソカルポニルオキシ）エチルエステル、ｔ
ｅｒｔ−ブトギン力ルホニルオキノメチルエステル、　
Ｉ−（Ｌｅｒｔ−ブトギソカルボニルオキシ）エチルエ
ステル、Ｉ−（（２−メチル−２−メトギシプロピオニ
ルオキン）カルボニルオギン）エチルエステル、Ｉ−（
ノクロへギンルオギンカルポニルオキン）エチルエステ
ルなどがあげられる。本発明（Ｊ上記エステル誘導体の
（Ｊかに、生体内において化合物［Ｉ］に変換されうる
薬学的に受容しうる化合物も包含する。

本発明の化合物［Ｉ］はスペクトルの広い抗菌活性を有
し、人および動物にお（−ｊる病原性細菌により生ずる
種々の疾病、たとえば気道感染、尿路感染の予防ならび
に治療のために使用されうる。化合物［１］の抗菌スペ
クトルの特徴としてはつぎのような点があげられる。

（１）　　多種のダラム陰性菌に対して高い活性を示す
。

（２）クラム陽性菌（たとえばスタフィロコッカス・ア
ウレウス、コリネバクテリウム・ジフテリアエなど）に
対して高い活性を有している。

（３）通常のセファロスポリン系抗生物質による治療に
感受性でないンユウドモナス・エアルギンザに対して高
い活性を示す。

（４）多くのβ−ラクタマーゼ生生産性クラム陰性菌た
とえばエシェリヒア属。エンテロバクター属、セラチア
属、プロテウス属など）に対しても高い活性を有してい
る。

また本発明の化合物［１］は優れた安定性を有する、血
中濃度が高い、効果の持続時間が長い、組織移行性が顕
著であるなどの特徴をも有している。

本発明のセフェム化合物［■］、その塩またはエステル
の製造法を以下に詳しく述べる。化合物［Ｉ］は公知ま
たは自体公知の（１）〜（３）にあげた３通りの方法で
製造できる。すなわち （１）　　一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示ず］で表わされるセフ
ェム化合物またはその塩もしくはエステルと一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示ず］で表わされるカル
ボン酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを反応させ
るか、 （２）一般式 ［式中、ＲＩＩは水酸基、アシルオギン基１カルバモイ
ルオギン基１置換カルバモイルオキシ基またはハロゲン
原子を、その他の記号は前記と同意義を示す］で表わさ
れるセフェム化合物またはその塩もしくはエステルと一
般式Ａ　Ｓ　Ｈ［式中、Ａは前記と同意義を示ず］で表
わされるチオール化合物またはその塩とを反応させるか
、または（３）一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表４つされるセ
フェム化合物またはその塩もしくはエステルと一般式Ｒ
，’ＯＨ［式中、Ｒ３’は置換されていてもよい炭化水
素残基を示ず］で表わされる化合物またはその反応性誘
導体とを反応させるかしたのち要すれば保護基の除去を
行うことにより化合物［［］を製造することができる。

また化合物［１］のうちＱがＣ−Ｒ２基であるものは以
下に示す第４の製造法によっても製造することができる
。

（４）一般式 ［式中、Ｘはハロケン原子また１ＪＲｅｓＯ２ｏで表わ
される基を、Ｒ，ｉＪ低級アルキル基または置換されて
いてもよいフェニル基を、その他の記号は前記と同意義
を示す］で表わされるセフェム化合物またはその塩もし
くはエステルと−・般式［え。Ｃ（＝Ｓ　）　Ｎ　Ｉ（
２［式中、Ｒ１は前記と同意義を示す］で表わされる化
合物とを反応させるがしたのち要すれば保護基の除去を
行うことにより化合物［１］を製造することができる。

製造法（１）〜（４）、保護基除去法および化合物［１
］の精製法について順次説明を加える。

製造法（１）： 不法は７−アミン化合物［ｎ］をカルボン酸［ＩＴＪ］
またはその反応性誘導体でアシル化する方法である。こ
の方法においてカルボン酸［１１１］は遊離のままある
いはその塩もしくは反応性誘導体が７−アミノ化合物「
■」の７位アミノ基のアソル化剤として用いられる。す
なわち遊離酸［Ｉ１１］あるいは遊離酸［ＩＴＪ］の無
機塩、有機塩、酸ハライド、酸−アシト、酸無水物、混
合酸無水物、活性アミド、活性エステル。

活性チオエステルなどの反応性誘導体がアソル化反応に
供される。無機塩としてはアルカリ金属塩（たとえばす
トリウム塩、カリウム塩など）、アルカリ土類金属塩（
たとえばカルシウム塩など）などが、有機塩としてはた
とえばトリメデルアミン塩、トリエチルアミン塩、ｔｅ
ｒｔ−ブヂルンメチルアミン塩、ンベンジルメチルアミ
ン塩、ペンジルジメチルアミン塩、Ｎ、Ｎ−ンメチルア
ニリン塩、ピリジン塩、ギンリン塩などが、酸ハライド
としてはたとえば酸クロライド、酸ブロマイドなどが、
混合酸無水物としてはモノＣ１−４アルキル炭酸混合酸
無水物（たとえば遊離酸［Ｉ］とモノメチル炭酸、モノ
エチル炭酸、モノイソプロピル炭酸、モノイソブヂル炭
酸１モノｔｅｒｔ−ブヂル炭酸、モノヘンンル炭酸。

モノ（ｐ−二トロベンジル）炭酸、モノアリル炭酸など
との混合酸無水物）、Ｃ＋−８脂肪族力ルボン酸混合酸
無水物（たとえば遊離酸［Ｉ］と酢酸、シアノ酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸１イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピ
バル酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、アセト酢
酸などとの混合酸無水物）、Ｃ，、、、芳香族カルボン
酸混合酸無水物（たとえば遊離酸［ＩＩＴ］と安息香酸
、ｐ−トルイル酸、ｐ−クロロ安息香酸などとの混合酸
無水物）、有機スルポン酸混合酸無水物（たとえばメタ
ンスルホン酸、エタンスルポン酸。

ベンゼンスルホン酸、ｐ−）ルエンスルホン酸などとの
混合酸無水物）などが、活性アミドとしては含窒素複素
環化合物とのアミド（たとえば遊離酸［■コとピラゾー
ル、イミダゾール、ベンゾトリアゾールなどとの酸アミ
ドで、これらの含窒素複素環化合物はＣ１−４アルギル
＋Ｃ＋−Ｏアルコキシ、ハロケン原子、オキソ、チオキ
ソ、Ｃ１ｆｉアルギルヂチオどで置換されていてもよい
）などがあげられる。活性エステルとしてはβ−ラクタ
ムおよびペプヂド合成の分野でこの目的に用いられるも
のはすべて利用でき、たとえば有機リン酸エステル（た
とえばシェドキノリン酸エステル、ジフェノギンリン酸
エステルなど）のはかｐ−二トロフェニルエステル。

２．４−ジニトロフェニルエステル、ソアノメチルエス
テル、ペンタクロロフェニルエステル、Ｎ−ヒドロキシ
ザクシンイミドエステル、Ｎ−ヒドロギンフタルイミド
エステル、１−ヒドロギンベンゾトリアゾールエステル
、６−クロロ−１−ヒドロギンベンゾトリアゾールエス
テル、１−ヒドロキン−Ｉ　Ｈ−２−ピリドンエステル
などがあげられる。活性チオエステルとしては芳香族複
素環チオール化合物とのエステル（たとえば２−ピリジ
ルヂオールエステル、２−ペンゾヂアゾリルヂオールエ
ステルなどで、これらの複素環はＣ１−４アルキル、Ｃ
４−。アルコギシ、ハロゲン原子、Ｃ１ｆｌアルキルヂ
チオとで置換されていてもよい）があげられる。一方、
７−アミノ化合物［■」は遊離のまま、その塩あるいは
エステルとして用いられる。化合物［ＩＴ］の塩として
は無機塩基塩、アンモニウム塩。

有機塩基塩、無機酸付加塩、有機酸（−１加塩などがあ
げられる。無機塩基塩としてはアルカリ金属塩（たとえ
ばナトリウム塩、カリウ１２塩など）、アルカリ土類金
属塩（たとえばカルシウム塩など）などが、有機塩基塩
としてはたとえばトリメデルアミン塩。

トリエチルアミン塩、　ｔｅｒｔ−ブヂルジメチルアミ
ン塩２ンベンジルメヂルアミン塩１ベンノルジメヂルア
ミン塩、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン塩、ピリジン塩、キ
ノリン塩などが、無機酸イ・ｊ加塩としてはたとえば塩
酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩１硝酸塩、リン酸塩などが
、有機酸付加塩としてはギ酸塩、酢酸塩、トリフル才〔
１酢酸塩、メタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン
酸塩などがあげられる。化合物［ｒＪ］のエステルとし
ては化合物［’　Ｉ　］のエステル誘導体としてずでに
述べたエステルがここでもそのままあげられる。すなわ
ちＣ１−４アルギルエステル、Ｃ２−４アルケニルエス
テル、　Ｃ３−。シクロアルギルエステル、Ｃ３，ンク
ロアルギル−ＣＩ−４アルキルエステル、ＣＯ−＋。ア
リールエステル、Ｃ７−１２アラルギルエステル、Ｃｌ
−５アルカノイルオキツメデルエステル、Ｃ，、アルカ
ノイルオキジエチルエステルおよびこれらがさらに水酸
基、Ｃ，、アルコギシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シ
アノ基、メルカプト基、Ｃ０−。アルキルチオ基、オキ
ソ基、チオキソ基などで置換されたものなどがあげられ
る。原料物質［ＩＩ］その塩およびエステル、原料物質
［］］Ｔ］およびその反応性誘導体はいずれも公知の方
法またはそれに準する方法によって容易に製造できる。

化合物［１１１］の反応性誘導体は反応混合物から単離
された物質として、また（Ｊ単離前の化合物［［］の反
応性誘導体を含有する反応混合物をそのまま化合物［］
Ｔ］と反応させることができる。カルボン酸［■］を遊
離酸または塩の状態で使用する場合は適当な縮合剤を用
いる。縮合剤としてはたとえばＮ。

Ｎ′−ジシクロヘギソルカルポンイミドなどのＮ１Ｎ′
−ジ置換カルボジイミド類、たとえばＮ、Ｎ′−カルボ
ニルジイミダゾールなどのアゾライド類。

たとえばＮ−エトキシカルボニル−２−工トギシー１．
２−ジヒドロキノリン、オキシ塩化リン、アルコキシア
セチレンなどの脱水剤、たとえば２−クロロピリジニウ
ムメチルアイオダイド、２−フルオロピリジニウムメチ
ルアイオダイドなどの２−ハロゲノピリジニウム塩類な
どが用いられる。

これらの縮合剤を用いた場合、反応はカルボン酸［■］
の反応性誘導体を経て進行すると考えられる。

反応は一般に溶媒中で行われ、反応を阻害しない溶媒が
適宜に選択される。このような溶媒としてはたとえばノ
オギサン、テトラヒドロフランチルエーテル、　ｔｅｒ
ｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
エヂレングリコールンメチルエーテルなどのエーテル類
，たとえばギ酸エチル１酢酸エヂル，酢酸ブチルなどの
エステル類．たとえばジクロロメタン、クロ〔Ｊホルム
、四塩化炭素。

トリクレ：／，１．２−ノクロ［ノエタンなどのハロゲ
ン化炭化水素類，たとえばｎ−ヘギザン，ベンゼン。

トルエンなどの炭化水素類，たとえばポルムアミド、Ｎ
，Ｎ−ジメチルポルムアミド．Ｎ，Ｎージメヂルアセト
アミドなどのアミド類，たとえばアセトン、メチルエチ
ルケトン，メチルイソブヂルケトンなどのケトン類，た
とえばアセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリ
ル類などのほか、ジメチルスルホキシド，スルポラン、
ヘキザメチルホスポルアミド．水などが単独または混合
溶媒として用いられる。アシル化剤［１１１Ｔ］の使用
量は化合物［］Ｔ］１モルに対して通常１〜５モル、好
ましくは１〜２モルである。反応は一８０〜８０°Ｃ，
好ましくは一４０〜５０°Ｃ，最も好ましくは一３０〜
３０°Ｃの温度範囲で行われる。反応時間は化合物［Ｉ
Ｔ］および［１］の種類，溶媒の種類（混合溶媒の場合
はその混合比も）、反応温度などに依存し、通常１分〜
７２時間，好ましくは１５分〜３時間である。

アシル化剤として酸ハライドを用いた場合は放出される
ハロゲン化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤の存
在下に反応を行うことができる。このような脱酸剤とし
てはたとえば炭酸ナトリウム１炭酸カリウム、炭酸カル
ンウム、炭酸水素すトリウムなどの無機基剤、たとえば
トリエチルアミン１トリプロピルアミン、トリブヂル）
２ミン１シクロヘキシルジメヂルアミン、ピリジン、ル
チンン、γ−コリンン、Ｎ、Ｎ−ジメヂルアニリン、Ｎ
−メチルピペノリン、Ｎ−メチルピロリジン１Ｎ−メチ
ルモルホリンなどの第３級アミン、たとえばプロピレン
オキシド、エピクロルヒドリンなどのアルギレンオキン
ド類などがあげられる。

製造法（２）： 不法はセフェム化合物［ＩＶ］に対ｊ７てチオール化合
物Ａ　Ｓ　Ｈを反応させ、求核置換反応によりセフェム
化合物［１］を合成する方法である。化合物［ＩＶ］に
おいてＲ１１は水酸基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキン基、置換カルバモイルオキソ基またはハロゲン原
子を示す。ここでアシルオキシ基は置換されていてもよ
いＣ８−５アルカノイルオキシ基。

または０８−４゜アリールーアンルオキシ基を表４つじ
、置換されていてもよいＣ，、アルカノイルオキシ基と
しては具体的にはアセトギシ、クロロアセトキシ、プロ
ピオニルオキシ、ブヂリル才ギシ、ピバロイルオキシ１
３−オキソブヂリルオキシ、４−クロロ−３−オキソブ
ヂリルオキシ、３−カルポキンプロピオニルオキン、４
−カルポキンブヂリルオキン、３−エトギシ力ルバモイ
ルプロピオニルオギノなどが、置換されていてもよいＣ
６−４゜アリール−アシルオキシ基としては具体的には
。−カルボキシベンゾイルオギン、０−（エトギク力ル
ポニルカルハモイル）ベンゾイルオキシ、０−（エトキ
ンカルボニルスルファモイル）ベンゾイルオキシなどが
あげられる。置換カルバモイルオキシ基としては具体的
にはメチルカルバモイルオキン、Ｎ。

Ｎ−ジメチル力ルバモイルオキンなどがあげられ〜５５
＝ る。ハロゲン原子としては塩素、臭素、ヨウ素などがあ
げられる。化合物［］Ｖ］はＭ離のまま、その塩あるい
はエステルとして用いられる。化合物［ＩＶ］の塩、エ
ステルとしては製造法（１）において化合物［ＩＪ］の
塩、エステルとしてあげたものがここでもそのままあて
はめられる。化合物［］Ｖ］、その塩およびエステルな
らびにチオール化合物Ａ　Ｓ　Ｈまたはその塩はそれ自
体公知の方法またはそれに檗する方法によって容易に製
造できる。チオール化合物Ａ　Ｓ　Ｉ−１は塩としても
用いられる。チオール化合物Ａ　Ｓ　Ｉ−１の塩として
はたとえばアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩、カ
リウム塩など）、アルカリ土類金属塩（たとえばカルシ
ウム塩など）などがあげられる。

チオール化合物Ａ　Ｓ　Ｉ−１またはその塩による化合
物［ＩＶ］への本求核置換反応はそれ自体よく知られた
反応であって、通常溶媒中で行なわれる。この反応に用
いられる溶媒としては製造法（１）で使用されるエーテ
ル類、エステル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類
、アミド類、ケトン類、ニトリル類。

水などの溶媒がそのままあてはめられるが、これらのほ
かにたとえばメタノール、エタノール、プロパツール、
イソプロパツール、エヂレングリコール。

２−メトギシエタノールなどのアルコール類も用いられ
る。

（２−１）・Ｒ８１がアシルオキシ基１カルバモイルオ
ギシ基、置換カルバモイルオキン基の場合より好ましい
溶媒は水もしくは水と混合しうる有機溶媒と水との混合
溶媒で、水と混合しうる有機溶媒のうち、より好ましい
ものはアセトン１メヂルエヂルケトン、アセトニトリル
などである。

チオール化合物Ａ　Ｓ　Ｉ（またはその塩の使用量は化
合物［■］１モルに対して通常１〜５モル、好ましくは
１〜３モルである。反応は１０〜１００°Ｃ１好ましく
は３０〜８０℃の温度範囲で行なわれる。

反応時間は化合物［ＩＶ］および化合物Ａ　Ｓ　Ｈの種
類。

溶媒の種類（混合溶媒の場合はその混合比）９反応温度
などに依存し、通常１０分〜５日間、好ましくは１５分
〜５時間である。反応はＩ）ＩＩ２〜８．好ましくは中
性付近すなわちｐｏ　５〜８で行なうのが有利である。

（２−２）：Ｒ１１が水酸基の場合 たとえば日本国公開特許公報昭５８−４３９７９などに
記載された方法にしたがって有機リン化合物の存在下に
行う。ここで用いられる何機リン化合物としてはたとえ
ば０−フェニレンポスポロクロリゾエイ）−，０−フェ
ニレンホスホロフロリゾエイト１メチル０−フェニレン
ホスフェイト、エチル０−フエニレンポスフエイト、プ
ロピル　０−フェニレンポスフエイト、イソプロピル　
０−フェニレンポスフエイト、ブチル　０−フェニレン
ホスフェイト、イソブヂル　０−フェニレンポスフェイ
）−，５ＣＣ−ブヂル　０−フェニレンポスフェイト、
シクロヘキソル０−フェニレンポスフェイト、フェニル
　０−フェニレンホスフェイト、ｐ−クロロフェニル　
０−フェニレンポスフェイト、ｐ−アセデルフェニル　
○−フェニレンポスフェイト、２−クロロエチル　０−
フェニレンホスフェイＩ−、２、２、２−１−リクロロ
エチル　０−フエニレンポスフェイト、エトギン力ルポ
ニルメチル　０−フェニレンポスフェイト、カルバモイ
ルメチル　０−フェニレンホスフェイト。

２−シアノエチル　Ｏ−フェニレンホスフェイト。

２−メチルスルポニルエチル　０−フェニレンポスフェ
イト、ベンジル　Ｏ−フェニレンホスフェイ）　、　１
．　、　Ｉ−ジメチル−２−プロペニル　Ｏ−フエニレ
ンホスフェイｌ−、２−プロペニル　０−フェニレンホ
スフェイト、３−メチル−２−ブテニル　０−フエニレ
ンポスフェイト、２−ヂエニルメヂルＯ−フェニレンホ
スフェイト、２−フルフリルメチル　Ｏ−フェニレンポ
スフェイ）・、ビスー〇−フコーニレンピロポスフエイ
ト、２−フェニル−１，３゜２−ペンゾジオキザポスホ
ールー２−オギシド。

２−（ｐ−クロロフェニル）−１，３，２−ペンゾジオ
キザホスポールー２−オギシド、２−ブヂルー１．３．
２−ペンゾノオギザホスポールー２−オキシド、２−ア
ニリノ−１，３，２−ペンゾンオギザホスホールー２−
オギンド１２−フェニルチオ−！、３．２−ベンゾジオ
ギザポスホール−２〜オキシド、２−メトキシ−５−メ
チル−１，３，２−ペンゾジオキザポスホール−２−オ
キシド、２−りコロ−５−エトキシカルボニル−１，３
，２−ペンゾジオキザホスポールー２−オギシト、２−
メトギソー５−エトキシカルボニル−１，３，２−ベン
ゾジオギザポスホール−２−オギノド、５−工ｌ・キン
カルボニル−２−フェニル−１，３，２−ベンゾジオキ
サホスポール−２−オギノド１２，５−シクロロー１．
３．２−ペンゾンオギザホスポールー２−オキシド、４
−クロロ−２−メトキシ−１，３゜２−ベンゾジオギザ
ホスポール−２−オキシド。

２−メＩ・キン−４−メヂル−］　、］３．２−ペンゾ
ジオキザホスポール２−オキシｌ’　、　２　、３−ナ
フタレンメチルホスフェイｌ−、５，６−ジメヂルー　
２−メトキン−１，３，２−ベンゾジオギザポスポール
−２−オキシド、２，２−ンヒドロ−４，５，６，７−
チトラクロロー２．２．２−１−リメトギノ−１゜３．
２−ベンゾジオギザポスポール、２．２−ジヒドロ−４
，５，６，フーテＩ・シクロロー２．２．２−トリフエ
ノキシ−１，３，２−ベンゾジオキサホスポール、２．
２−ジヒドロ−２，２−エチレンジオキノー２−メトギ
ノー１．３．２−ｌ＼ンゾジオキザ＝６０− ホスポール、２．２−ジヒドロ−２−ヘンシル−２゜２
−ンメトギシー１，３．２−ペンゾジオキザホスホール
、２．２−ジヒドロ−４，５−ベンゾ−２，２゜２−ト
リメトキシ−１，３，２−ベンゾジオキサホスポール、
２．２−ジヒドロ−２，２，１−トリフエノキシ−１，
３，２−ベンゾジオキサポスポール。

２．２−ジヒドロ−２，２−（ｏ−フェニレンジオキシ
）−２−フェノキシ−１，３，２−ペンゾジオギサホス
ホール、２−クロロ−２，２−ジヒドロ−２゜２−（ｏ
−フェニレンジオキシ）−１，３，２−ベンゾジオキサ
ホスポール、２，２−ジヒドロ−２−メトキシ−２，２
−（ｏ−フェニレンジオキシ）−１゜３．２−ベンゾジ
オキサホスポール、２．２−ジヒドロ−２，２，２−）
リクロロー１．３．２−ペンゾンオキザホスホール、９
．１０−フェナンスレンノオキシトリメトギシホスポラ
ス、０−フエニレンホスホロクロリダイド、０−フエニ
レンホスポロブロミダイド、０−フェニレンホスポロフ
ロリダイド。

メチル　０−フェニレンポスファイト１ゾチル　Ｏ−フ
ェニレンホスファイト、メトギシカルポニルメチル　０
−フェニレンホスファイト、フェニル０−フェニレンポ
スファイｔ−，ｐ−クロロ（またはｐ−ニトロ）フェニ
ル　０−フェニレンホスファイト。

２−フェニル−１，３，２−ペンゾシオキザホスポール
、ビス−０−フェニレンピロポスファイト、２−メトキ
シ−５−メチル−１，３，２−ペンゾノオキザポスポー
ル、５−アセデル−２−フェノキシ−１，３，２−ベン
ゾジオギザポスポール、９．１０−フェナンスレンポス
ホロクロリダイト、２−クロロ−４−メチル−１，３，
２−ペンゾジオキザポスポール、５−エトギシ力ルボニ
ルー２−フェニル−！、３．２−ベンゾジオギザポスポ
ール−２−クロロ−２−チオギソー１．３．２−ベンゾ
ジオキサポスホール、２＝フェノギン−２−オギソー１
゜３．２−ベンゾジアザホスポール、２−フェノギン−
１，３，２−ペンジオキサアザポスポール、２，３−ジ
ヒドロ−２−オキソ−２−メトキシ−４，５−ジメチル
−１，３，２−ジオギザホスポール、２゜２−ジヒドロ
−２−ネギソー２−クロロ−４，５−ジメヂル−１，３
，２−ジオキサホスポール、２゜２−ジヒドロ−２−オ
キソ−２−（１−イミダゾリル）−４，５−ジメチル−
１，３，２−ジオキサホスポール、２．２−ジヒドロ−
２，２−エチレンジオキンー２−メトキシ−４，５−ジ
メチル−１，３゜２−ジオギザホスポール。２．２−ジ
ヒドロ−２゜２−ジメトキシ−２−フェノキン−４，５
−ジメチル−１，３，２−ノオキザポスポール、２，２
−ジヒドロ−２，２，２−）リフトキシ−４，５−ンメ
ヂル−１，３，２−ジオギザポスホール、２．２−ジヒ
ドロ−２，２，２−トリフェノキン−４，５−ジメチル
−１，３，２−ジオギザポスポール、２．２−ジヒドロ
−２，２，２−）リエトギシー４．５−ジフェニル−１
，３，２−ノオギザポスポール、２．２−ジヒドロ−２
，２，２−トリメトギン−４，５−ジフェニル−１，３
，２−ジオギザポスホール、２゜２−ジヒドロ−２−オ
キソ−２−メトキシ−４゜５−ジフェニル−１，３，２
−ジオキサホスポール。

２．２−ジヒドロ−２，２，２−１−ジメトキシ−１゜
３．２−ジオキサホスポール、２，２−ンヒドロー２．
２．２−）リフトキシ−４−フェニル−１，３゜２−ジ
オギザホスポール。２．２−ジヒドロ−２゜２．２−ト
リメトキシ−４−メヂルー１．３．２−ジオギザホスポ
ール。２．２−ジヒドロ−２，２，２−トリメトキシ−
４−メチル−５−フェニルカルバモイル−１，３，２−
ジオキサホスポール、２，２゜４．５，６．７−ヘキサ
ヒドロ−２，２，２−トリメトキシ−１，３，２−ベン
ゾジオギザポスホール。

２．２′−オキシビス（４，５−ジメチル−２，２−ジ
ヒドロ−１，３，２−ジオギザポスポール）、２゜２′
−オキシビス（４，５−ジメチル−２，２−ジヒドロ−
１，３，２−ジオキサポスポール−２−オキシド）など
があげられる。反応に用いる溶媒は反応を阻害しないも
のであればよく、好ましくは前記したエーテル類、エス
テル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、アミド類
、ケトン類、ニトリル類などが単独または混合溶媒とし
て用いられる。とりわけ、たとえばジクロロメタン、ア
セトニトリル、ポルムアミド、ポルムアミドとアセトニ
トリルの混合溶媒、ジクロロメタンとアセトニトリルの
混合溶媒などを使用すると好効果が得られる。チー、Ａ
４− オール化合物Ａ　Ｓ　Ｈまたはその塩、および有機リン
化合物の使用量は化合物［■］１モルに対してそれぞれ
１〜５モル、１−１０モル、より好ましくはそれぞれ１
〜３モル、１〜６モルである。反応は−８０〜５０°Ｃ
１好ましくは一４０〜４０℃の温度範囲で行なわれる。

反応時間は通常１分〜１５時間、好ましくは５分〜２時
間である。反応系に有機塩基を添加してもよい。このよ
うな有機塩基としてはたとえばトリエチルアミン、トリ
ブチルアミン、ジブチルアミン、ノイソブチルアミン、
ジ、　　シクロヘキソルアミン、２．６−ルチジンなど
のアミン類があげられる。塩基の添加量は化合物［ＩＶ
］１モルに対して１〜５モルがよい。

（２−３）：Ｒ，、がハロゲン原子の場合好ましい溶媒
は前記のエーテル類、エステル類１ハロゲン化炭化水素
類、炭化水素類、アミド類、ケトン類、ニトリル類、ア
ルコール類、水などである。

チオール化合物Ａ　Ｓ　Ｉ（またはその塩の使用ｈ１は
化合物［■］１モルに対して通常１〜５モル、好ましく
は１〜３モルである。反応は０〜８０℃、好ましくは２
０〜６０℃の温度範囲で行なイつれる。反応時間は通常
３０分〜１５時間、好ましくは１〜５時間である。反応
を促進するため脱ハロゲン剤の存在下に反応を行うこと
もできる。このような脱ハロゲン剤としては製造法（１
）の項で述べた無機塩基、第３級アミン、アルギレンオ
キント類などの脱酸剤がここでもあげられる。ＲＩＩで
示されるハロゲン原子は塩素、臭素、ヨウ素などである
が、好ましくはヨウ素である。ＲＩＩがヨウ素である化
合物［］’Ｖ］はたとえば日本国公開特許公報昭５８−
５７３９０に記載の方法またはそれに準じる方法などを
用いて容易に製造できる。

製造法（３）。

不法はヒドロキシイミノ化合物［Ｖ］に対して一般式Ｒ
，’ＯＨで示される化合物またはその反応性誘導体を反
応させて化合物［ｆ］を合成する方法であり、よく知ら
れたエーテル化反応である。Ｒ３’は置換されていても
よい炭化水素残基を示し、このような炭化水素残基とし
てはＲ３における置換されていてもよい炭化水素残基と
してずでにあげたものがここでもそのままあてはめられ
る。Ｒ３′ＯＨはそのままあるいはその反応性誘導体と
して用いられる。Ｒ，’ＯＨの反応性誘導体は化合物［
■コの水素原子とともに離脱する基を有するＲ３′０１
−１の誘導体、ずなわち一般式Ｒ，’Ｙで表わされる化
合物を意味する。ここで水素原子とともに離脱する基Ｙ
はハロゲン原子、スルホ基、モノ置換スルホニルオキシ
基などを示す。ハロゲン原子としては塩素、臭素、ヨウ
素などがあげられる。モノ置換スルホニルオキシ基とし
てはたとえばメタンスルボニルオキシ、エタンスルポニ
ルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンス
ルボニルオキソなどのＣ１−４アルキルスルボニルオキ
シ基、Ｃ６−Ｉ。

６フー アリールスルポニルオキシ基などがあげられる。

また特に化合物［Ｖ］のＣＩ−４アルキル工−テル体を
製造する場合には上記の反応性誘導体のほか、たとえば
ジアゾメタン、ジアゾエタンなどの０１−４ジアゾアル
カン、たとえばジメチル硫酸、ジメチル硫酸などのジＣ
１−４アルキル硫酸などら用いられる。

（３−１）：Ｒ３’ＯＨを使用する場合適当な脱水剤を
用いて化合物［Ｖ］と反応させ化合物［１］を合成する
。このような目的に使用される脱水剤としてはたとえば
オキシ塩化リン、塩化チオニル、アゾジカルボン酸シア
ルギル（通常、ボスフィンとの共存で使用される）、Ｎ
、Ｎ’−ジシクロヘキンルカルボジイミドなどがあげら
れ、好ましくはトリフェニルポスフィン共存下のアゾジ
カルボン酸ジエチルである。トリフェニルポスフィン共
存下でアゾジカルボン酸ジエチルを用いる反応は通常、
無水の溶媒中で行なわれ、前記のエーテル類、炭化水素
類などが使用される。化合物［Ｖ］１モルに対してＲ３
’ＯＨ，アゾジカルボン酸ジエー°唱８− デル、トリフェニルホスフィンはいずれも１〜１゜５モ
ル用いられる。０〜５０℃の温度範囲で１〜４日間を要
する。

（３−２）：Ｒ，’Ｙを使用する場合 Ｒ３’Ｙと化合物［Ｖ］との反応は通常のエーテル化反
応であって、溶媒中で行なわれる。溶媒としては製造法
（１）の項であげたエーテル類、エステル類、ハロゲン
化炭化水素類、炭化水素類、アミド類。

ケトン類、ニトリル類、アルコール類、水−などの溶媒
もしくは混合溶媒がここでもあげられ、好ましくは水と
混合しうる溶媒と水との混合溶媒（たとえば含水メタノ
ール、含水エタノール、含水アセトン、含水ジメチルス
ルホキシドなど）である。本反応は適当な塩基の存在下
に円滑に進行させることもできる。このような塩基とし
てはたとえば炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸カリウムなどのアルカリ金属塩、たとえば水酸化ナト
リウム。

水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物などの無機
塩基があげられる。また本反応を１）１１７．５〜８５
の緩衝溶液中で行なってもよい。原料化合物［■１１モ
ルに対して使用する試薬Ｒ３’Ｙおよび塩基のモル数は
それぞれ１〜５．１〜１０．好ましくはそれぞれ１〜３
．１〜５である。反応温度は−３０〜１００°Ｃ９好ま
しくは０〜８０°Ｃの範囲である。反応時間は１００〜
１５時間、好ましくは３０分〜５時間である。

（１−３）：Ｃ，、ジアゾアルカンを使用する場合反応
は通常溶媒中で行なわれる。溶媒としては前記のエーテ
ル類、炭化水素類などが用いられる。

化合物［Ｖ］を溶媒に溶解したのち、ジアゾアルカン化
合物の溶液を加えると反応は進行する。試薬は化合物［
Ｖ］１モルに対して１〜１０モル、好ましくは１〜５モ
ル使用する。反応は比較的低温で行なわれ−５０〜２０
°Ｃ１好ましくは一３０〜０°Ｃである。反応時間は１
分〜５時間、好ましくはＩＯ分〜１時間である。

（３−４）ニジＣ４−４アルキル硫酸を使用する場合反
応は通常、水もしくは水と混合しうる溶媒と水との混合
溶媒中で行なわれる。混合溶媒としては（３〜２）項で
あげた含水溶媒がここでもあげられる。この反応はたと
えば水酸化すｌ・リウム、水酸化カリウムなどのアルカ
リ金属水酸化物の存在下に行なわれる。試薬は化合物［
■］１モルに対して０５〜１０モル、好ましくは１〜２
モル使用する。

反応温度は２０〜１００°Ｃ１好ましくは５０〜１００
°Ｃの範囲である。反応時間はＩＯ分〜５時間、好まし
くは３０分〜３時間である。

製造法（４）・ 不法はセフェム化合物［Ｕと一般式Ｒ，Ｃ（−９）Ｎ　
Ｈ、で表わされるチオ尿素またはチオ尿素誘導体とを反
応させて目的化合物［Ｉ］（Ｑ＝Ｃ−Ｒ２）を合成する
方法である。化合物［ＶＩ］は遊離のまま、塩あるいは
エステルとして用いられる。化合物［■］におけるＸは
ハロケン原子またはＲＢＳＯ２０で表わされる基を示す
。ここでハロゲン原子はたとえば塩素、臭素、ヨウ素な
どを表イっず。またＲ６は低級アルキル基または置換さ
れていてもよいフェニル基を表わす。低級アルギル基と
してはたとえばメチル、エチル、プロピルなどの０１−
４アルギル基があげられる。置換されたフェニル基とし
てはたとえばｐ−メチルフェニル、ｐ−メトキンフェニ
ル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−ニトロフェニルナト力あ
げられる。［ＶＩ］の塩としては製造法（１）の項であ
げた化合物［１１］の塩（無機塩基塩、アンモニウム塩
、有機塩基塩、無機酸付加塩、有機酸付加塩など）がこ
こでもあてはめられる。［ＶＩ］のエステルとしては同
じく製造法（１）の項であげた化合物［ＩＩ］のエステ
ル（Ｃ＋−４アルキルエステル、Ｃ２−４アルケニルエ
ステル、　Ｃ３−８ンクロアルキルエステル、Ｃ３ｅシ
クロアルキル−Ｃ１−４アルキルエステル、ＣＢ−＋。

アリールエステル、Ｃ？−１２アラルキルエステル、Ｃ
１−５アルカノイルオキシメヂルエステル、Ｃ１−、ア
ルカノイルオキンエチルエステルおよびこれらにさらに
置換されたもの）がここでもあてはめられる。原料化合
物［ＶＩ］は一般式 Ｘ　ＣＨＣＯＣ−ＣＯＯＨ［式中の記号は前記と１″＼ Ｒ３ 同意義を示す］で表イっされる化合物またはその反応性
誘導体と前記の７−アミノ化合物［■］またはその塩あ
るいはエステルとを、製造法（１）で述べた方法と同様
の方法を用いて製造することかできる。一般式Ｘ　ＣＨ
ＣＯＣ−ＣＯＯＨテ表ゎＲ２Ｎ Ｒ３ される化合物またはその反応性誘導体はそれ自体公知の
方法またはそれに準する方法によって容易に製造できる
。化合物［ＶＩ］とＲ，Ｃ（−Ｓ）ＮＩ−Ｉ、との反応
は通常溶媒中で行なわれる。溶媒としてはたとえばジオ
キザン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなど゛
のエーテル類、ノニとえばメタノール、エタノール、プ
ロパツールなどのアルコール類。

ジメチルホルムアミド。ジメチルアセトアミドなどのア
ミド類、などが用いられる。チオ尿素またはその誘導体
Ｒ，Ｃ（−Ｓ）ＮＩ（２の使用量は化合物［ＶＩ］に対
して通常１〜５モル２好ましくは１〜３モルである。反
応は０〜Ｉ００’Ｃ，好ましく　ＬＪＩ　２０〜６０℃
の温度範囲で行なわれる３、反応時間は通常３０分〜１
５時間、好ましくは１〜５時間である。

上記した製造法０）〜（４）？こおいて化合物ＥＩΔが
ンン［Ｚ］−、アンチ［Ｅ］−異性体の混合物として得
られる場合がある。混合物から所望のンン異性体を分離
するには自体公知の方法またはそれに準する方法が適用
される。それらの方法としてはたとえば溶解性、結晶性
などの差を利用した分別法。

クロマトグラフィーによる分離、エステル誘導体の加水
分解速度の差を利用した分版法なとがあげられる。

保護基除去法、前記した通りβ−ラクタムおよびペプヂ
ド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分に研究されて
いてその保護法はすでに確立されている。また、アミノ
保護基の除去法も同様に確立されており、本発明におい
ても保護基の除去は従来の技術をそのまま利用できる。

た七えばモノハロゲノアセチル基（クロロアセデル、ブ
ロモアセデルなど）はチオ尿素により、アルコギンカル
ボニル基（メトキンカルボニル。エトギンカルボニル２
ｔｅｒｔ−ブトギシカルポニルなど）は酸（たとえば塩
酸など）により、アラルキルオキシカルポニル基（ヘン
シルオキシカルボニル、ｐ−メチルベンジルオキシカル
ホニル、ｐ−ニトロベンンルオキソカルポニルなど）は
接触還元により、２，２．２−１−リクロロエトキン力
ルボニルは亜鉛と酸（たとえば酢酸など）により除去す
ることができる。一方、合成中間体として化合物［＋］
がエステル化されている場合もそれ自体公知の方法また
はそれに亭する方法によってエステル残基金除去するこ
とができる。

たとえば２−メチルスルホニルエチルエステルはアルカ
リにより、アラルキルエステル（ペンシルエステル、ｐ
−メトギシヘンノルエステル、ｐ−ニトロベンジルエス
テルなど）（Ｊ酸（たとえばトリフルオロ酢酸など）ま
たは接触還元により、２，２．２−トリクロロエチルエ
ステルＩＪ：　ｊＨｊ鉛と酸（たとえば酢酸など）によ
り、シリルエステル（トリメデルシリルエステル、ｔｅ
ｒｔ−ブヂルジメチルシリルエステルなど）は水のみに
より除去するこ七ができる。

化合物［＋］の精製法、（１）〜（４）に詳記した各種
製造法により、また要すれば」二足の保護基除去法をつ
づいて行うことにより反応混合物中に生成した化合物［
Ｉ］は抽出法、カラムクロマトクラフィー、沈澱法、再
結晶法などの公知の処理手段によって単離精製すること
ができる。一方、単離された化合物Ｕｌ］を公知の方法
？こより所望の薬学的に受容される塩または代謝」二不
安定な無毒のエステルへと変換することもできる。

セフェム化合物［Ｉ］のスルホキシド（ｎ＝１）は化合
物［１］（ｎ＝ｏ）の酸化反応により得られる。

このような酸化反応はよく知られた反応である。

セフェム環中の硫黄原子の酸化に適しノコ酸化剤として
はたとえば酸素、過酸、ヒドロパーオキシド。

過酸化水素などがあげられ、過酸（」その場で酸と過酸
化物の混和によって製造することもできる。

過酸としては過酢酸、過安息香酸、ｐ−クロル過安息香
酸などが繁用される。反応は通常、溶媒中で行なわれる
。この反応に用いられる溶媒としてはたとえばジオキザ
ン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、）ことえば
ジクロロメタン、クロロポルム、クロロベンゼンなどの
ハロゲン化炭化水素類。

たとえばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸類
またとえばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドなどのアミＦ類などがあげられる。反応温度は一２０
〜８０℃の範囲で行なわれるが、なるべく低い温度、好
ましくは一２０〜２０’Ｃで行なわれる。ｎ＝０を示す
式［１］の化合物の酸化に際してはＳ−立体配位をもつ
スルホキシドが主に生成することが一般に知られている
。Ｒ−およびＳ−スルホキシドはそれらの異なる溶解性
およびクロマトグラフィー分離に際しての異なる移動速
度によって分離される。スルホキッドを得るための上記
の酸化反応は前記（１）〜（４）の反応の前？こ行なっ
てもよいし、また（１）〜（４）の反応の後に行なって
もよい。

（作用、効果） 本発明の化合物［１］は公知のペニシリン剤、セファロ
スポリン剤と同様に注射剤、カプセル剤１錠剤、顆粒剤
として非経口また（Ｊ経［１的に投与できる。投ｊ−ｊ
Ｎは前記したような病原性細菌に感染した人および動物
の体重１ｋｇあたり０．５〜８０ｍｇ／１、より好まし
くはＩ　〜２０　ｍｇ／　Ｉｆを１目３〜４回に分割し
て投与すればよい。注射剤として用いられる場合の担体
は、たとえば蒸留水、生理食塩水などが用いられ、カプ
セル剤１粉剤、顆粒剤１錠剤として用いられる場合は、
公知の薬学的に許容される賦形剤（たとえばデンプン、
乳糖、白糖、炭酸カルノウム、リン酸カルシウムなど）
、結合剤（たとえばデンプン、アラヒアゴム、ツノルポ
ギンメチルセルロース、ヒドロギンプロピルセルロース
、結晶セルロースなと）、滑沢剤（たとえばステアリン
酸マグネシウム、メルクなど）、崩壊剤（たとえばカル
ボギシメチルカルソウム、タルクなど）と混合して用い
られる。

化合物「Ｉ」また（Ｊその塩・エステルを含む医薬組成
物は公知の方法により製造ケることかできる。

該組成物は通常化合物［Ｉ］またはその薬学的に受容さ
れる塩もしくはエステルの少くとも１種以上と」二足の
担体、賦形剤などとを混合することにより製造される。

組成物全体に対ずろ化合物［Ｉ］の配合割合は通常５〜
１００重ｈ１％、好ましくはカプセル剤１錠剤、顆粒剤
などの固形製剤においては２０〜１００重量％、注射剤
などの液状製剤においては、５〜３０重量％である。

化合物［１］またはその塩・エステルはたとえば注射剤
として投与することによりエソエリヒア・コリ菌に起因
する尿路感染の治療に用いられる。

この場合の投与量は人および動物の体重１ｋｇあたり０
．５−８０ｍｇ／日、より好ましく（ま１〜２０ｍｇ７
日で、１日３〜４回に分割して投与する。該注射剤はた
とえば化合物［Ｉ］またはその塩、エステルを生理食塩
水に溶解もしくは懸濁することにより容易に製造するこ
とができる。

（参考例、実施例） 本発明はさらに下記の参考例、実施例で詳しく説明され
るが、これらの例は単なる実例であって本発明を限定す
るものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲で
変化させてもよい。

参考例、実施例のカラムクロマトグラフィーにお（」る
溶出はＴＬ　Ｃ（Ｔｈｉｎ　Ｌａｙｅｒ　Ｃ１＋ｒｏｍ
ａｔｏｇｒａｐｈｙ。

薄層クロマトグラフィー）による観察下に行なイっれた
。Ｔ　Ｌ　Ｃ観察においては、Ｔ　Ｉ、　Ｃブレー１・
としてメルク（Ｍｅｒｃｋ）社製の８０１？　２．、を
、展開溶媒としてはカラムクロマトグラフィーで溶出溶
媒として用いられた溶媒を、検出法としてｉＪ：　Ｕ　
Ｖ検出器を採用した。カラム用シリカゲルは同じくメル
ク社製のキーゼルゲル６０（２３０〜４００メツシコ）
を用いた。″セファデックス“はファルマシア・ファイ
ン・ケミカルズ社（Ｐｈａｒｍａｃｉａ　ＦｉｎｅＣｈ
ｅｍｉｃａｌｓ）製である。ＸＡＤ−ＩＴ樹脂はａ−１
ｘ・アンド・ハース社（Ｒｏｈｍ　＆　Ｈａａｓ　Ｃｏ
、）製である。

ＮＭＲスペクトルは内部または外部基準としてテトラメ
チルンランを用いてＸ　Ｌ−］、ＯＯＡ　（１，００Ｍ
　ＨＺ）、８Ｍ３９０（９０Ｍｌ（ｚ）またはＴ　６０
　（６０ＭＴ−ｒｚ）型スペクトロメーターで測定し、
全δ値をｐｐｍで示した。混合溶媒において（）内に示
した数値は各溶媒の容量混合比である。また溶液にお（
Ｊる％は溶液１００　ｍ　Ｉ中のｇ数を表わす。また参
考例、実施例中の記号は次のような意味である。

Ｓ　　・シングレット（ｓｉｎｇｌｅｔ）ｄ　　、ダブ
レット（ｄｏｕｂｌｅｔ）ｔ：ｌ−リプレッｔ・（ｔｒ
ｉｐｌｅｔ）ｑ　　：クワルテット（ｑｕａｒｔｅ［）
ＡＢｑ＋ＡＢ型クワルテッり（ＡＢ　　ｔｙｐｅ　ｑｕ
ａｒｔｅｔ）ｄｄ　：ダブル　ダブレット（ｄｏｕｂｌ
ｅ　ｄｏｕｂｌｅｔ）ｍ　　：マヂルプレッｔ−（ｍｕ
ｌｔｊｐｌｅｔ）ｂｒ、ブロード（ｂｒｏａｄ） 、■　　：カップリング定数（ｃｏｕｐｌｉｎｇ　ｃｏ
ｎｓｔａｎｔ）Ｈｚ　　ヘルツ（Ｉｌｅｒｚ） ｍｇ　　・ミリグラム（ｍｉ　ｌ　Ｉ　ｉｇｒａｍ）ｇ
　　°グラム（ｇｒａｍ） ｍｌ：ミリリーター（ｍｉｌｌｉｌｉｔｅｒ）ｐ　　　
リークー（ｌｉｔｅｒ） ％　　・″−セント（ｐｅｒｃｅｎｔ）ＤＭＳＯ：ジメ
チルスルポギシド （ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｕｌｆｏｘｉｄｅ）Ｄ、０８重水 ＣＤＣＬ：重クロロホルム 実施例１ ７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（ｓ−
トリアゾロ［４，３−ｂ］ピリタジン−３−イル）メチ
ルチオ］−３−セフェムー４−カルボン酸ナトリウム。

７β−［１−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブヂリルオギン）メチル−３−セフエム＝４−カル
ボン酸１．０ｇ、炭酸水素すトリウム３２８ｍｇ。

３−メルカプト−５−１−リアゾｏ［４，３−ｂ］ピリ
ダジン５００ｍｇ、水２０ｍ１の混合液を７０℃で３０
分間かきまぜる。反応後、Ｘ　Ａ　Ｄ−ＩＩカラムクロ
マトグラフィーに付し、水、１０％エタノールで順次展
開する。

該当分画を濃縮、ついで凍結乾燥して標記化合物０．５
ｇを得る。

元素分析：Ｃ１９Ｈ＋ｅＮ９０　ｓＳ　ｓＮａ　＋　２
　Ｈ２０として。

計算値・Ｃ，３７，６８，Ｈ，３，３３，Ｎ、２０．８
２゜実測値：Ｃ，３７，４８；　　Ｈ，３，５４，Ｎ、
２０．７３゜ＩＲスペクトルｖＫＢｒｃｍ−’：　１７
６０．１６８０．１６１０゜ａＸ １５３０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：　３．７５（
３１１，ｓ）、　４．４０（２１＋、ｓ）、　５．０３
（１，Ｈ，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、　５．６３（ｄ、ｄ、
Ｊ＝９１１Ｚと５Ｈｚ）、　　６．７３（］、Ｈ，ｓ）
、　　７．２３（２１＋、ｓ）、　　７Ｊ３（ｄ、ｄ。

Ｊ＝９肚と４．５１１ｚ）、　　８Ｊ３（ｄ、、ｄ、Ｊ
＝９Ｈｚと１．５Ｈｚ）、　　８゜６５（］、ｔ１．ｄ
、ｄ、Ｊ＝４．５１ｉｚと１．５１１ｚ）、　　９．６
６（１，１＋、ｄｊ＝９Ｈｚ）。

実施例２ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−１−［（ｓ−
トリアゾロ［４，３−ａ］ピリジン−３−イル）チオメ
チルヨー３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム。

７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−１（３−オキ
ソブチリルオキン）メチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸と３−メルカプ１−−ｓ−）リアゾロ［４，３−ａ
］ピリンンと用いて実施例１と同様に反応させると標記
化合物を得る。

元素分析：Ｃ２ｏＨ＋７ＮＩＩＯ５Ｓ３Ｎａ・３１（ｐ
ｏとして。

計算値・Ｃ，３８５８，Ｈ，３，７２，Ｎ、１８．００
゜実測値：Ｃ，３８，８３；　　Ｈ，３，８３，Ｎ、］
７．５９゜ＩＲスペク）・ルνＫＢｒｃｍ−’：　１７
６０．１６７５．１６］０゜ａＸ ＮＭＲスペクトル（ｄ８−ＤＭＳＯ）δ：　　３，９０
（３１１，ｓ）、　４゜１０と４．４０（ＡＢｑ、Ｊ＝
１２Ｈｚ）、　　５．００（ＩＨ，（］、Ｊ　＝５１１
ｚ）。

５．６：（（ｄ、ｄ、Ｊ＝９１１ｚと５１１ｚ）、　　
６．７０（Ｉｌｌ、ｓ）、　　７．００−７゜５０（６
１１，ｍ）、　７．８０（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）
、　８．４５（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ−６１１ｚ）、　　９．
５３（ｉｔ（、ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）。

実施例３ ７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ−
トリアゾロ［３，４＝ａ］フタラジンー３−イル）チオ
メチルヨー３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム。

７β−［１−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブヂリルオキシ）メチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸と３−メルカプト−ｓ−トリアゾロ［４，，３−
ａ］フタラジンとを用いて実施例１と同様に反応させる
と標記化合物を得る。

元素分析：Ｃ２３Ｈ＋５ＮｏＯｓＳ３Ｎａ・２．５Ｈ２
０とし計算値：Ｃ，４１，，５６；　　Ｈ，３，４９，
Ｎ、１８．９７゜実測値：Ｃ，４１，６４；　　ｒ（，
３，５７；　　Ｎ、１８．６８６ＩＲスペクトルｖＫＢ
ｒｃｍ−’：　１７６０．１６８０．１６００゜ａｘ １．５３０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：　　３．９６
（３１１，ｓ）、　４゜５３（２Ｈ，ｓ）、　５．１０
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、　５．７３（ｄ、ｄ、Ｊ
＝９Ｈｚと５Ｈｚ）、　　６．６６（ＩＨ，ｓ）、　　
７．３０（２１１，ｂ、ｓ）、　　７．９Ｏ−８６３（
４１１，ｍ）、　９．０３（Ｉｌｌ、ｓ）、　９．６０
（Ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）。

実施例４ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−−メトキシイミノアセトアミドｌ］−１−［（
６−モルポリノーｓ−）リアゾロ［４，、ｌｂ］ピリダ
ジン−３−イル）メチルチオ」−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ナトリウム。

７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキンイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブチリルオキン）メチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸と３−メルカプト−６−モルホリノ−５−）リア
ゾロ［４，，３−ｂ］ピリダジンとを用いて実施例１と
同様に反応させると標記化合物を得る。

元素分析：Ｃ２３Ｈ２３Ｎ＋ｏＯａＳ３Ｎａ’２．５Ｈ
２０として。

計算値：Ｃ，３９，４７，Ｈ，４，０３，Ｎ、２０．０
２゜実測値：Ｃ，３９，５７；　　Ｉ（，４，１１，Ｎ
、１９．７９゜ＩＲスペクトルｖＫＢｒｃｍ−’：　１
７６０．　］６７０．４６］０゜ａＸ ＝８７− ＮＭＲスペクトル（ｄ　ｏ−ＤＭＳＯ）δ：　　３．０
０−３．７０（１０１（。

ｍ）、　　３．７５（３Ｈ，ｓ）、　４．２３（２１１
，ｓｌ　４．９０（１，ｌ［、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　
５．５０（ｄ、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚと５Ｈｚ）、　　６．６
０（１，１１，ｓ）、　　７゜００（２ｔｌ、ｓ）、　
　７．２０（Ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝１０１１ｚ）、７．９０
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝］０１１ｚ）、　　９．３６（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

実施例５ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４＝イル）−２
（Ｚ）−メトキンイミノアセトアミド］−３−［６−フ
ェニル−８−トリアゾロ［４，３−ｂ］ピリダジン−３
−イル）チオメチル」−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム。

７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミドＬ−３−（３−オ
キソブヂリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸と３−メルカプト−６−フエニルーＳ−トリアゾ
ロ［４，３−ｂ］ピリダジンとから実施例１と同様に反
応させると標記化合物を得る。

元素分析：Ｃ２５Ｈ２ＯＮ９０　ａｓ　ｓＮａ　・２　
Ｈ２０として。

計算値：Ｃ，４４，０６，Ｉ−１，３，５５，Ｎ、１８
．５００実測値：Ｃ，４４，２５；　　Ｈ，３，６９，
Ｎ、］８．３７゜ＩＲスペクトルｖＫＢｒｃｍ−：　１
７６０．１６６０．１６００゜ａｘ １５２０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄｓ−ＤＭＳＯ）δ：　　３．８０
（３ｔｌ、ｓ）、　４゜４０（２Ｈ，ｓ）、　４．９５
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、　５．６０：（ＩＩＩ、
ｄ、ｄ、Ｊ−９１（ｚと５Ｈｚ）、　　６．６６（ｉｌ
ｌ、ｓ）、　　７．１０（２１１，ｂ、ｓ）、　　７．
４３−７．６３（ａＨ，ｍ）。

実施例６ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（６−メ
チルヂオーＳ−トリアゾロ［４、３−ｂ］ピリダジン−
３−イル）チオメチル］−３−セフェムー４−カルボン
酸ナトリウム。

ＳＣＨ，１ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド：］−１−（３−
オキソブヂリルオキンメチル）−３−セフェム−４−カ
ルボン酸と３−メルカプト−６−メチルヂオーＳ−）リ
アゾロ［４，３−ｂ］ビリダンンと実施例１と同様に反
応させると標記化合物を得る。

元素分析：Ｃ２ｏＨ＋ｌ］Ｎ９０＋；５４Ｎａ・３１（
２０として。

計算値：Ｃ，３７，２２；　　Ｉ−Ｉ、３．７５．　　
Ｎ、１９．５３゜実測値Ｃ，３７，４０，１−１，３，
６１，Ｎ、１９．２９゜ｒＲスペクトルｖＫＢｒｃｍ−
’：　１７６０．１６７０．１６００゜ａＸ １５２０、１０３０゜ Ｎ　Ｍ　Ｒスヘクトル（ｄ　ａ−ＤＭＳＯ）δ：　　２
．６ＣＩ（３１１，ｓ）、　３゜４０と３．７０（２１
１，ＡＢｑ、Ｊ＝Ｉ８Ｈｚ）、　　３．８３（３１１，
ｓ）、　　４．４０（２１＋、ｓ）、　　５．００（Ｌ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．６０（１，１１，ｄ、
ｄ、Ｊ−９Ｈｚと５Ｈｚ）、　　６．７０（ＩＨ，ｓ）
、　　７．２０（２Ｈ，ｂ、ｓ）、　　７．２３（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝９１（ｚ）、　８．１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９
１ｉｚ）、　９．５３（ＩＩＩ、ｄ。

Ｊ＝９Ｈｚ）。

実施例７ ７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド、１−３−［（６
−ノドキン−Ｓ−トリアゾロ［４，ｌｂ］ピリダジン−
３−イル）チオメチル］−３−セフェムー４−カルボン
酸ナトリウム。

７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトギンイミノアセトアミトコ−３−（３〜オ
キソブチリルオキシメヂル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸と３−メルカプト−６−メドギシーＳ−トリアゾ
ロＥ４，３−ｂＪピリダジンとを用いて実施例１と同様
に反応させると標記化合物を得る。

元素分析：Ｃ３ｏＨ＋ｅＮ、ＯａＳ：＋Ｎａ−２Ｈ７Ｏ
として。

計算値：Ｃ，３ｇ、９０；　　Ｈ，３，５９，Ｎ、２０
．４２゜実測値：Ｃ，３８，６９；　　Ｈ，３，３５，
Ｎ、２０．７３゜Ｉ　Ｒスヘ’）　ｈルシＫＢｒｃｍ−
’：　１７５０．１６５０．１６００゜ａｘ １５１０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄｏ　ＤＭＳＯ）δ：　　３．６５
と３．７３（２＋１゜ＡＢｑ、Ｊ＝Ｉ８Ｈｚ）、　３．
９０（３）１．ｓ）、　４．０６（３１１，ｓ）、　４
．４０（２Ｈ，ｓ）、　５．０３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ
ｚ）、　５．６６（ＩＩＩ、ｄ、ｄ、Ｊ−９１１ｚと５
Ｈｚ）、　　６．７３（ＩＩＩ、ｓ）、　　７．０６（
Ｉｌｌ、ｄｊ＝９１１ｚ）。

７．２０（２１１，ｂ、ｓ）、　８．２０（］１Ｉｊ＝
９１１ｚ）、　９．５３（ＩＨ，ｄｊ＝９１１ｚ）。

実施例８ ７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミ（６−フルオａ　−
ｓ　−　ｈ　’）　７ゾＯ［４，３．−ｂ］ピリダジン
−３〜イル）チオメチル］−３−セフェム−４−９２〜 一カルボン酸ナトリウム。

Ｉ？ ７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
　（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−
オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カ
ルボン酸と３−メルカプト−６−フルオロ−Ｓ−トリア
ゾロ［４．３−ｂ］ピリダジンとを用いて実施例１と同
様に反応させると標記化合物を得る。

元素分析：　Ｃ　＋ａＨ　１５ＮｅＯ　５Ｆ　Ｓ　ｓＮ
ａ　’　２　Ｈ　ｔｏとして。

計算値：Ｃ，３６．６０；　　Ｈ，３．０７．　　Ｎ．
２０．２２。

実測値：Ｃ，３６．６７；　　Ｈ，３．２２．　　Ｎ，
１９．８１。

Ｉ　ＲスペクトルシＫＢｒｃｍ−：　１７６５，　１６
８０．　１６００。

ａｘ ＮＭＲスペクトル（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ　　３．４６と
３．７３（２Ｈ。

ＡＢＱｊ＝１８１１ｚ）、　　３．９０（３Ｈ，ｓ）、
　　Ｃ３６（２１１，ｓ）、　　５．０６（ｉｌｌ、ｄ
、Ｊ＝５１１ｚ）、　　５．６６（ｉｌｌ、ｄＪ、Ｊ　
＝９１１ｚと５１１ｚ）、６゜７３（ｉｌｌ、ｓ）、　
　７．２５（２１，ｓ）、　　７．４６（ｌｌｉ、ｄ、
Ｊ＝９ｔ（ｚ）、　　８゜４５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９１１
ｚ）、　　９．６０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９ｔ（ｚ）。

実施例９ ７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［６−ク
ロロ−８−トリアゾロ［４，，３−ｂ］ピリダジン−３
−イル）チオメチル］−３−セフェムー４−カルボン酸
ナトリウム。

Ｖ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキンイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブヂリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸と３−メルカプト−６−クロロ−５−１−リアゾ
ロ［４，３−ｂ］ピリダジンとを用いて実施例１と同様
に反応させると標記化合物を得る。

元素分析：Ｃ＋９Ｈ＋５ＮｅＯ５Ｃ（２ＲＳ３Ｎａ−Ｈ
２Ｏとして。

計算値：Ｃ，３６，６９；　　Ｉ（，２，７５，Ｎ、２
０．２７゜実測値：Ｃ，３６，，１ｇ、　　Ｈ，３，０
ｇ、　　Ｎ、＋９．８７゜Ｔ　ＲスペクトルｖＫＢｒｃ
ｍ−’：　１７６０．１６７０．１６０００ａＸ ＮＭＲスペクトル（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ、　　３．８５
（３Ｈ，Ｓ）、　４゜４０（２Ｈ，ｓ）、　　５．０３
（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．６３（Ｉｌｌ、
ｄ、ｄ、Ｊ−９１１ｚと５）１ｚ）、　　７．７３（Ｉ
ｌｌ、ｓ）、　　７．２３（２１Ｌｂ、ｓ）、　　７．
４６（１１（、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、　８．４０（ｉｌｌ
、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、　　９．６０（ＩＩＩ。

ｄ　、　Ｊ　＝　９１（ｚ）。

実施例１０ ７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミドコ−３−１（Ｓ−
トリアゾロ［１，５−ｂ］ピリダジン−６−イル）チオ
メチル］−３−セフェムー４−カルボン酸すトリウム。

７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブヂリルオキシ）メチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸と６−メルカブトー５−１−リアゾロ［１，５−
ｂ］ピリダジンとを用いて実施例Ｉと同様に反応させる
と標記化合物を得る。

元素分析：Ｃ＋９Ｈ＋５ＮｅＯ５ＳｓＮａ・２ＨｐＯと
して。

計算値：Ｃ，３７，６８；　　Ｈ，３，３３，Ｎ、２０
．８２゜実測値：Ｃ，３７，７７；　　Ｈ，３，６２，
Ｎ、２０．６０゜ＩＲスペクトルシＫＢｒｃｍ−’＋　
１７６０．　＋６７Ｑ、　１６００゜ａＸ １５３０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄｏ−ＤＭＳＯ）δ：　３４６とＣ
６６（２１＋。

ＡＢｑ、Ｊ＝１８１１ｚ）、　　３．７４（３Ｈ，ｓ）
、　　４．３５と４．５７（２８，ＡＢｑｊ＝１４Ｈｚ
）、　　５．０４（ｌｆｌ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．
６２（ＩＩ（、ｄ、ｄ。

Ｊ＝９Ｈｚと５１１ｚ）、　　６．７４（ｌｔｌ、ｓ）
、　　７．２０（２１１，ｂ、ｓ）、　　７゜６０（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ）、　　８．２１（１）ｌ、ｄ、
Ｊ＝１０１（ｚ）、　　８．５２（１８，ｓ）、　　９
．５０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）。

実施例１１ ７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミドコ−３−［（Ｓ〜
トリアゾロ［４，３−ｂ］ピリダジン−６−イル）チオ
メチル］−３−セフェムー４−カルボン酸ナトリウム。

７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキンイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブチリルオキン）メヂル−３−セフェム−４−カル
ボン酸と６−メルカプト−Ｓ−トリアゾロ［４，３−ｂ
］ピリダジンとを用いて実施例１と同様に反応させると
標記化合物を得る。

元素分析：Ｃ＋ｅｌ’（＋ｏＮｓ□５ｓ３Ｎａ’　２Ｈ
３０として。

計算値：Ｃ，３７，６８；　　Ｈ，３，３３，Ｎ、２０
．８２゜実測値：Ｃ，３７，７６；　　Ｈ，３，５５，
Ｎ、２０．４２゜Ｉ　ＲスヘクトルシＫＢｒｃｍ−’：
　１７６０．１６７０．１６００゜ａＸ １５３０゜ Ｎ　Ｍ　Ｒ：２．　ベクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：　
　３．３４と３．６６（２＋（。

ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．８４（３ｆＬｓ）、　
４．２４と４．７０（２＋１．ＡＢｑ、Ｊ＝１２ｔ（ｚ
）、　５．０２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、　５．６
０（ＩＩＩ、ｄ、ｄ。

Ｊ＝９Ｈｚと５＋１ｚ）、　　６．７４（ＩＨ，ｓ）、
　　７．１７（２１１，ｂ、ｓ）、　　７２２（ＩＩＩ
、ｄ、Ｊ−＝１０Ｈｚ）、　８．１４（１１１，ｄ、Ｊ
−１０１［ｚ）、　９．４５（１ｔＬｄ、Ｊ＝９１（ｚ
）、　９．５０（ＩＨ，ｓ）。

実施例１２ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−１［（ｓ−ト
リアゾロ［１，５−ａ］コピリジン５−イル）チオメチ
ル］−３−セフェムー４−カルボン酸ナトリウム。

実施例１と同様にして、７−［２−（２−アミノデアゾ
ール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトア
ミド］−３−（３−オキソブヂリルオキシメチル）−３
−セフェム−４−カルボン酸と５−メルカプト＝ｓ−ト
リアゾロ［１，５−ａコピリジンとから標記の化合物を
得た。

元素分析：ＣｚｏＨ＋ｏＮａＯ５ＳｓＮａ・４ＨｚＯと
して。

計算値（％）：Ｃ，３７，５０；　Ｉ−１，３，９３，
Ｎ、１７．４９゜実測値（％）：Ｃ，３７，９５；　Ｈ
，３，２９，Ｎ、１７．２９゜ＩＲスペクトルｖ　Ｋ　
Ｂ　ｒ　ｃ　ｍ−皿：　１７６５．１６６０．１．６１
０゜ａＸ ＮＭＲスペクトル（ｄ８−ＤＭＳＯ）δ：　　３．４２
と３．６０（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　　３．
８２（３Ｈ，ｓ）、　　４．４０と４．５８（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、　５．０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．
５Ｈｚ）、５．５６（ＩＨ，ｄ、ｄ、、Ｊ＝４．５１１
ｚとＪ＝８Ｈｚ）、　　６，７２（ＩＩＩ、ｓ）。

７．１３（２Ｈ，ｂｒ−ｓ）、　７．４５〜７．６８（
３１１，ｍ）、　８．４７（ＬＨ，ｓ）、　　９．４３
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈ２）。

実施例１３ ７β−［２’−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｓ
−トリアゾロ［４，３−ａ］コピリジン５−イル）チオ
メチル］−３−セフェムー４−カルボン酸ナトリウム。

実施例１と同様にして、７β−［１−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセト
アミド：］−３−（３−オキソブチリルオキシメチル）
−３−セフェム−４−カルボン酸と５−メルカプト−ｓ
−トリアゾロ［４，，３−ａ］コピリジンから標記化合
物を得た。

元素分析：ＣｚｏＨ＋７ＮｅＯｓＳ３Ｎａ’　３Ｈ２０
として。

計算値（％）：Ｃ，３８，５８；　Ｉ−１，３，７２，
Ｎ、１８．００゜実測値（％）：Ｃ，５８，４１；　ｒ
ｒ、３，６ｔ；　Ｎ、１８．２６゜ＩＲスペクトルシＫ
Ｂｒｃｍ−’：　１７６０．１６７０．１６１０゜ａｘ ＮＭＲスペクトル（ｄｏ　　ＤＭＳＯ）δ：　　３．８
５（３Ｈ，Ｓ）、　４．４３（２Ｈ，ｓ）、　５．００
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、　　５．５０−５．７０
（］ｔＬｍ）、　６．７３（ｉｌｌ、ｓ）、　７．１０
−７．３０（３ｔ（、ｍ）、　７．４０（ＩＨ９ｄｊ＝
９Ｈｚ）、　７．７０（１，Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、　
９．３３（ＩＨ，ｓ）。

９．５０（１！（、ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）。

実施例１４ ピバロイルオキシメチル　７β−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセ
トアミド］−３−［（Ｓ−トリアゾロ［４゜３−ｂ］ピ
リダジン−６−イル）チオメチル］−３−セフェムー４
−カルボキシラード。

’ｌ−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（ｓ−
トリアゾロ［４，３−ｂ］ピリダジン−６−イル）チオ
メチル］−３−セフェムー４−カルボン酸ナトリウム０
３ｇをＮ、Ｎ−ジメチルポルムアミド５旋に溶解し、−
５°Ｃに冷却する。攪拌下ヨートメデルピバレート０６
滅を加え、１０分間攪拌する。反応液を酢酸エチル（１
００ｚＪ）で希釈し、冷水１次いで飽和食塩水にて洗浄
、無水硫酸マグネシウム上で乾燥、減圧上溶媒留去し、
残渣にイソプロピルエーテルを加え粉末にし、ろ取する
と標記の化合物が０．２７ｇ得られた。

元素分析：Ｃ２５Ｈ２ｅＮｏＯ７Ｓ３・２ＩＩ２０とし
て。

計算値（％）・Ｃ，４３，１０，Ｈ，Ｃ３３，Ｎ、１８
．０９゜実測値（％）：Ｃ，４３，５７，Ｈ，ＬＯ９，
Ｎ、１７．６８゜ＩＲスペクトルν”Ｂｒｃｍ−’：　
１７８５．１５８０．１５３０゜ａＸ ＮＭＲスペクトル（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：　　１．１２
（９ｔｌ、ｓ）、　　３．２５（２１１，ｂｒ−ｓ）、
　　３．８２（３Ｈ，ｓ）、　　４．０６と４．４２（
２Ｈ。

八Ｂｑ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、　　５．１６（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝４．５１１ｚ）、　５．７８（ＩＨ。

ｄ、ｄ、、Ｊ＝　４．５肚とＪ＝９Ｈ２）、　５．８７
と６．（１３（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝６１１ｚ）、　　６．７２（ＩＨ，ｓ）、　　７．
１２（２１１，ｂｒ−ｓ）、７．２４（１１１、ｄ、Ｊ
−１０１１ｚ）、　８．１９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ＩＯｆｌ
ｚ）、　９．３３（ＩＩ。

Ｓ）、９．５１（１）１．ｄ、Ｊ＝９）１ｚ）。

実施例１５ Ｉ−エトキシカルボニルオキンエヂル　７β−［２−（
２−アミノデアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキ
ンイミノアセトアミトコ−３−［（ｓ−）リアゾロ［４
，３−ｂ］ピリダジン−６−イル）チオメチル］−３−
セフェムー４−カルボギシラート。

６＋＋。

実施例Ｉ４と同様にして、’ｌ−［２−（２−アミノデ
アゾール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセ
トアミド３−３−［（ｓ−トリアゾロ［４，３−ｂ］ピ
リダジン−６−イル）チオメチル］−３−セフェムー４
−カルボン酸すトリウムと１−（エトキシカルボニルオ
キソ）エチルヨーンドから標記の化合物を得た。

元素分析：Ｃｖ４Ｈｔ４ＮｅＯ１］Ｓ３と１．て。

計算値（％）：ｃ、ｌＩａ、！ｌｏ；　Ｈ，３，６５，
Ｎ、１９．０２゜実測値（％）：Ｃ，４３，８４；　Ｈ
，Ｌ１２、Ｎ、１．８．７１６ＩＲスペクトルシＫＢｒ
ｃｍ−’：　１７ｇ５．１６５５．４５７５゜ａＸ １５３０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：　　１．１５
と１．１．９（３Ｈ，２つのｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、　１
．５３（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。

３．２７（２Ｈ，ｂｒ−ｓ）、　３．’８２（３Ｈ，ｓ
）、　３．９−４．３（２１１，ｍ）。

４．３５と４．５３（２Ｈ，ＡＢｑｊ＝１３＋１ｚ）、
　　５．１６（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ）、　　５
．７９（ＬＨ，ｄ、ｄ、、Ｊｌ、５ＨｚとＪ＝８１ｊｚ
）。

６．７１（ｉｌｌ、ｓ）、　７．１．３（ＩＩＩ、ｄ、
Ｊ＝１．０１１ｚ）、　８．１９（ＩＨ，ｄ。

Ｊ−ＬＯｆｌｚ）、　９．３４と９．３７（ＩＨ，２つ
のｓ）、　９．５０（ＩＨ。

ｄ　、　Ｊ　＝　８１１ｚ）。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１は保護されていてもよいアミノ基を、Ｑ
   は窒素原子またはＣ−Ｒ＿２で表わされる基を、Ｒ＿２
   は水素原子またはハロゲン原子を、Ｒ＿３は水素原子ま
   たは置換されていてもよい炭化水素残基を、Ａは置換さ
   れていてもよいトリアゾロピリジニル基、トリアゾロピ
   リダジニル基またはトリアゾロピラジニル基を、それぞ
   れ示す］で表わされるセフェム化合物またはその塩もし
   くはエステル。
2. （２）［１］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ａは置換されていてもよいトリアゾロピリジニ
   ル基、トリアゾロピリダジニル基またはトリアゾロピラ
   ジニル基を示す］で表わされるセフェム化合物またはそ
   の塩もしくはエステルと一般式▲数式、化学式、表等が
   あります▼ ［式中、Ｒ＿１は保護されていてもよいアミノ基を、Ｑ
   は窒素原子またはＣ−Ｒ＿２で表わされる基を、Ｒ＿２
   は水素原子またはハロゲン原子を、Ｒ＿３は水素原子ま
   たは置換されていてもよい炭化水素残基を示す］で表わ
   されるカルボン酸またはその塩もしくは反応性誘導体と
   を反応させるか、 ［２］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１＿１は水酸基、アシルオキシ基、カルバ
   モイルオキシ基、置換カルバモイルオキシまたはハロゲ
   ン原子を、その他の記号は前記と同意義を示す］で表わ
   されるセフェム化合物またはその塩もしくはエステルと
   一般式ＡＳＨ［式中、Ａは前記と同意義を示す］で表わ
   されるチオール化合物またはその塩とを反応させるか、 ［３］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされるセフ
   ェム化合物またはその塩もしくはエステルと一般式Ｒ＿
   ３′ＯＨ［式中、Ｒ＿３′は置換されていてもよい炭化
   水素残基を示す］で表わされる化合物またはその反応性
   誘導体とを反応させるか、または［４］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘはハロゲン原子またはＲ＿６ＳＯ＿２Ｏで表
   わされる基を、Ｒ＿６は低級アルキル基または置換され
   ていてもよいフェニル基を、その他の記号は前記と同意
   義を示す］で表わされるセフェム化合物またはその塩も
   しくはエステルと一般式Ｒ＿１Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ＿２［式
   中、Ｒ＿１は前記と同意義を示す］で表わされる化合物
   とを反応させるかしたのち要すれば保護基の除去を行う
   ことを特徴とする一般式▲数式、化学式、表等がありま
   す▼ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされるセフ
   ェム化合物またはその塩もしくはエステルの製造法。
3. （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１は保護されていてもよいアミノ基を、Ｑ
   は窒素原子またはＣ−Ｒ＿２で表わされる基を、Ｒ＿２
   は水素原子またはハロゲン原子を、Ｒ＿３は水素原子ま
   たは置換されていてもよい炭化水素残基を、Ａは置換さ
   れていてもよいトリアゾロピリジニル基、トリアゾロピ
   リダジニル基またはトリアゾロピラジニル基を、それぞ
   れ示す］で表わされるセフェム化合物またはその薬学的
   に受容される塩もしくはエステルの少なくとも１種以上
   を含有する医薬組成物。