JPS6222276B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6222276B2
JPS6222276B2 JP57055343A JP5534382A JPS6222276B2 JP S6222276 B2 JPS6222276 B2 JP S6222276B2 JP 57055343 A JP57055343 A JP 57055343A JP 5534382 A JP5534382 A JP 5534382A JP S6222276 B2 JPS6222276 B2 JP S6222276B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surface electrode
power generation
light
receiving surface
amorphous semiconductor
Prior art date
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Expired
Application number
JP57055343A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58173871A (ja
Inventor
Michitoshi Oonishi
Shinya Tsuda
Hidenori Nishiwaki
Yukinori Kuwano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP57055343A priority Critical patent/JPS58173871A/ja
Publication of JPS58173871A publication Critical patent/JPS58173871A/ja
Publication of JPS6222276B2 publication Critical patent/JPS6222276B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
    • H01L31/075Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PIN type, e.g. amorphous silicon PIN solar cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/548Amorphous silicon PV cells

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、絶縁基板上に膜状の複数の発電区
域が形成され、該各区域がそれぞれ光照射により
発電に寄与する電子または正孔を発生する非晶質
半導体層と、該層内に発生した前記電子または正
孔を集める集電手段とを含み、前記各区域の集電
手段が該各区域における光起電力を直列関係に互
いに電気的に接続した光起電力装置に関し、信頼
性の向上と、有効面積の増大をはかることを目的
とする。
一般に、非晶質を用いた太陽電池は、安価な太
陽電池として注目されており、とくに、1枚の絶
縁基板上に複数の発電区域を、直列関係に互いに
電気的に接続した構成の光起電力装置は、大面積
で高効率にでき、1枚の基板上で高い電圧を発生
することができる等のすぐれた特徴をもつてい
る。
そして、従来の光起電力装置は、第1図に示す
ように構成されており、同図において、1はガラ
ス等の絶縁基板、2は該絶縁基板1上に形成され
たインデイウムテインオキサイド(ITO)等の透
明導電性材料からなる複数の受光面電極、3は該
各受光面電極2上に形成された非晶質半導体層、
4は該各非晶質半導体層3上に形成されたアルミ
等の裏面電極であり、複数の発電区域が形成さ
れ、各裏面電極4が隣の受光面電極2に順次接続
され、各発電区域が直列関係に電気的に接続され
ている。
しかし、前記裏面電極4と隣の受光面電極2と
の接続に面積を要し、かつ、アルミ等の裏面電極
4とインデイウムテインオキサイド等の受光面電
極2との接続は、異なる物質の接続であり、長期
的に不安定である。
この発明は、前記の点に留意してなされたもの
であり、つぎにこの発明を、その1実施例を示し
た第2図および第3図とともに、詳細に説明す
る。
それらの図面において、5はガラス等の絶縁基
板、6,6′,6″は該絶縁基板5上に左側から順
に形成されたITO等の透明導電性材料からなる複
数の受光面電極であり、中央部の受光面電極6′
が両側の受光面電極6,6″に対しほぼ倍の面積
を有している。7aは受光面電極6上に、7b,
7cは受光面電極6′上の左側および右側に、7
dは受光面電極6″上に、それぞれ形成された非
晶質半導体層であり、半導体層7a,7cは下か
らp層、i層、n層の順に形成されたp−i−n
接合であり、半導体層7b,7dは下からn層、
i層、p層の順に形成されたn−i−p接合であ
る。8aは半導体層7a,7b上に、8bは半導
体層7c,7d上に、それぞれまたがつて形成さ
れたアルミ等の裏面電極である。
したがつて、隣接する発電区域は、受光面電極
6から、裏面電極8a、受光面電極6′、裏面電
極8bを介して受光面電極6″に直列に接続さ
れ、従来のように、受光面電極2と裏面電極4と
いう異なる物質による接続部分がないため、長期
的安定性にすぐれ、かつ、接続のために必要な面
積も不要となり、発電区域の面積をより大きく有
効に利用することができる。
なお、この発明は、前記実施例に限定されるも
のでないことは勿論である。
以上のように、この発明の光起電力装置による
と、絶縁基板上に膜状の複数の発電区域が形成さ
れ、該各区域がそれぞれ光照射により発電に寄与
する電子または正孔を発生する非晶質半導体層
と、該層内に発生した前記電子または正孔を集め
る集電手段とを含み、前記各区域の集電手段が該
各区域における光起電力を直列関係に互いに電気
的に接続した光起電力装置において、前記各非晶
質半導体層が前記各発電区域にそれぞれ分離され
るとともに、相隣る前記各非晶質半導体層がそれ
ぞれp−i−n接合とn−i−p接合との逆向き
の接合に形成され、かつ、受光面電極および裏面
電極が前記各発電区域のうち2つの区域にわたつ
てそれぞれ連なり、さらに、前記受光面電極およ
び裏面電極が前記発電区域の1つの区域分ずれて
配置されていることにより、信頼性の向上と、有
効面積の増大をはかることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の非晶質半導体層を用いた光起電
力装置の平面図、第2図はこの発明の光起電力装
置の1実施例の平面図、第3図は第2図の切断正
面図である。 5……絶縁基板、6,6′,6″……受光面電
極、7a,7b,7c,7d……非晶質半導体
層、8a,8b……裏面電極。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 絶縁基板上に膜状の複数の発電区域が形成さ
    れ、該各区域がそれぞれ光照射により発電に寄与
    する電子または正孔を発生する非晶質半導体層
    と、該層内に発生した前記電子または正孔を集め
    る集電手段とを含み、前記各区域の集電手段が該
    各区域における光起電力を直列関係に互いに電気
    的に接続した光起電力装置において、前記各非晶
    質半導体層が前記各発電区域にそれぞれ分離され
    るとともに、相隣る前記各非晶質半導体層がそれ
    ぞれp−i−n接合とn−i−p接合との逆向き
    の接合に形成され、かつ、受光面電極および裏面
    電極が前記各発電区域のうち2つの区域にわたつ
    てそれぞれ連なり、さらに、前記受光面電極およ
    び裏面電極が前記発電区域の1つの区域分ずれて
    配置されていることを特徴とする光起電力装置。
JP57055343A 1982-04-05 1982-04-05 光起電力装置 Granted JPS58173871A (ja)

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JP57055343A JPS58173871A (ja) 1982-04-05 1982-04-05 光起電力装置

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JP57055343A JPS58173871A (ja) 1982-04-05 1982-04-05 光起電力装置

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Publication Number Publication Date
JPS58173871A JPS58173871A (ja) 1983-10-12
JPS6222276B2 true JPS6222276B2 (ja) 1987-05-16

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ID=12995858

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JP57055343A Granted JPS58173871A (ja) 1982-04-05 1982-04-05 光起電力装置

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JP6943713B2 (ja) * 2017-09-29 2021-10-06 積水化学工業株式会社 太陽電池

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JPS58173871A (ja) 1983-10-12

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