JPS62218408A - 光学式デイスク基板の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、レーザー光線の反射または透過により、記
録された信号の読み出しを行う光学式情報記録用ディス
ク（以下、「光学式ディスク」と称する）基板の製法に
関する。

〔背景技術〕

光学式ディスクには、基板樹脂としてメタクリル樹脂を
用いたビデオディスク、ポリカーボネート樹脂を用いた
コンパクトディスクがそれぞれ市販されている。これら
の光学式ディスクは、情報を凹凸のピットとして基板に
刻んだ再生専用型である。さらに進んだ光学式ディスク
として、トラッキング用の案内溝（以下、「グループ」
と称する）の上に形成された記録材料の光反射率あるい
は光透過率をレーザー光の照射により変化させることに
より情報の記録再生を行うＤＲＡＷ型、および、記録／
再生・消去の繰り返しが可能なＥ・ＤＲＡＷ型がある。

このＤＲＡＷ型、Ｅ−ＤＲＡＷ型光学式ディスクの場合
には、情報記録を行う際に記録材料の結晶−非結晶転移
、あるいは、磁化方向の反転等を行わすため、レーザー
光の照射により記録材料を短時間ではあるが数百℃以上
に加熱する必要がある。

したがって、このような高温状態になる記録材料に隣接
する光学式ディスク基板としては、高温状態においても
グループが熱変形しない（ここでいう熱変形は、通常の
荷重下での熱変形ではないので、このような熱変形を以
下「熱ダレ」と称する）ような高度な耐熱性が要求され
る。

従来、再生専用型光学式ディスクの基板材料として第１
の要件である光学特性に優れたメタクリル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂等の熱可塑性樹脂が用いられているが、
このような熱可塑性樹脂を用いて、Ｅ　−ＤＲＡＷ型光
学式ディスクの基板を得ると、記録および消去時にその
高温のため樹脂が軟化しグループが変形してしまうとい
う欠点がある。それゆえ、このような熱可塑性樹脂を、
記録／再生・消去が繰り返し行われ、その信幀性が要求
されるＥ−ＤＲＡＷ型光学式ディスクの基板材料として
用いることができない。

このような問題に対して、熱可塑性樹脂に架橋性モノマ
とラジカル開始剤を混合して熱硬化成形を行い、光学式
ディスク基板を得る方法も考えられる。しかし、この方
法では、射出成形を行う際にシリンダ内で樹脂の熱架橋
反応が起こってしまうおそれがある。このため、温度を
高くできないので、充分な流動性が得られず、光学式デ
ィスクに最も重要な複屈折性の悪い基板しか得ることが
できない。

〔発明の目的〕

この発明は、このような現状に鑑みて、記録および消去
時におけるレーザー光の照射による熱のためにグループ
が熱ブレを起こすことのない高度な耐熱性（このような
耐熱性を以下「耐熱ダレ性」と称する）を有し、メタク
リル樹脂、ポリカーボネート樹脂と同等の光学的性質を
持つ光学式ディスク基板を得ることができる光学式ディ
スク基板の製法を提供するものである。

〔発明の開示〕

このような目的を達成するために、発明者らは繰り返し
行う記録および消去時の熱に耐え、グループの熱ダレが
生じない光学式ディスク基板の材料について種々検討し
た結果、従来のメタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂
等の熱可塑性樹脂に、架橋結合を起こすようなモノマを
均一に混合し、成形を行った後に光を用いて架橋結合を
起こさせると、熱可塑性樹脂の持つ光学的均質さを失う
ことなく耐熱ダレ性が改善されることを見出し、ここに
、この発明を完成した。

したがって、この発明は、光学的に透明な熱可塑性樹脂
と、ラジカル反応基を分子あたり２個以上有する架橋性
モノマとが混合されてなる樹脂組成物を成形し、その後
、光により前記架橋性モノマの三次元架橋を起こさせる
光学式ディスク基板の製法を要旨としている。

以下に、この発明の詳細な説明する。

光学的に透明な熱可塑性樹脂としては、特に限定するも
のではないが、光学式ディスクとして要求される低複屈
折性、低吸水性、高耐熱性、透明性の観点から、ポリカ
ーボネート、ポリスルフォン、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、および、こ
れらビニルポリマを主成分とする共重合体からなる群の
中から選ばれた少なくとも１種が適当である。

架橋性モノマとしては、たとえば、■エステル（メタ）
アクリレート頻、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウ
レタン（メタ）アクリレート類。

エーテル（メタ）アクリレート類、メラミン（メタ）ア
クリレート類、アルキド（メタ）アクリレート類などの
（メタ）アクリル酸類、■トリアリルシアヌレート、ト
リアリルイソシアヌレートトリアリルトリメリテート、
ジビニルベンゼン。

ジアリルフタレートなどの多官能モノマなどが挙げられ
、それぞれ単独で用いられたり、または、２種以上が併
用されたりするが、特にこれらに限定される訳ではない
。

このほか、樹脂組成物には、普通、開始剤（光開始剤）
が用いられる。開始剤としては、ベンジル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メ
チルオルソ−ベンジルベンゾエート　２・２−ジェトキ
シアセトフェノン。

２・２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンなど
があげられ、それぞれ単独で用いられたりまたは２種以
上が併用されたりするが、これらに限定されない。

前記のような原材料を配合して樹脂組成物とする。原材
料の配合割合は、特に限定されないが、熱可塑性樹脂６
０〜９５重量部、架橋性モノマを５〜４０重量部、光開
始剤を０．１〜３重量部の割合で用いるよ・うにするの
がよい。たとえば、熱可塑性樹脂と架橋性モノマの合計
１００重景筒中に、熱可塑性樹脂が６０〜９５重量％、
架橋性モノマが５〜４０重景％筒中記１００重景筒中対
し、０．１〜３重量％の光開始剤とすることなどである
樹脂組成物の均一混合は、たとえば、以下のようにして
行う。すなわち、樹脂組成物またはその原材料ヲ、トリ
クロロエチレン、クロロホルム。

塩化メチレン、クロロベンゼン等の塩素系炭化水素、キ
シレン、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素、アセ
トン等のケトン類、四塩化炭素のうちから選んだ単独ま
たは混合溶媒に５〜５０重量％の割合で完全溶解させ均
一混合するのである。

この樹脂組成物の溶液は、溶媒を除きやすくするため、
キャスティング用フィルム上で薄層にしくたとえば、キ
ャスティング用フィルム上に５〜５００μｍの厚みに塗
布または流延し）、十分に乾燥させて均一混合した樹脂
組成物のシートを得る。前記のキャスティング用フィル
ムは、ポリエチレンテレフタレート（以下、ｒＰＥＴＪ
と略す）フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエス
テルフィルム、ポリイミドフィルムなどの前記の溶媒に
不溶のものであり、かつ、離型処理されているものが好
ましい。このようにして樹脂組成物の混合を行えば、均
一に、樹脂を溶融させることなく、比較的低温でより容
易に行えるが、これ以外の方法で混合を行ってもよい。

樹脂組成物が均一混合されているか否かは、光学式ディ
スク基板として最も重要な透明性、複屈折性に影響を与
えるので重要である。

このようにするなどして均一に混合された樹脂組成物は
、たとえば、前記のシートを粉砕および／または切断す
ることにより、粉末および／またはフレーク状とし、こ
れを射出成形、トランスファー成形、圧縮成形などのい
ずれかの方法を用いて、スタンバが装着されている成形
型で成形を行う。この際、成形条件は、成形が低複屈折
でかつ寸法精度が充分高くなるように適宜選択する。た
とえば、射出成形では、シリンダ温度は２００〜３５０
℃、金型温度は５０〜１２０℃、射出圧力は２００〜Ｉ
　Ｏ００ｋｇ／　ｃｕｔ程度である。スタンパにより、
グループ、あるいは、凹凸のピットなどが付けられる。

成形後、成形された基板に、紫外線照射装置により光を
照射し、光架橋反応を行わせる。

このようにするなど、この発明の製法により得られた光
学式ディスク基板は、架橋性モノマが三次元架橋を起こ
していて、ポリカーボネートポリメチルメタクリレート
等の熱可塑性樹脂の持つ光学的均質さを失うことなく、
高い耐熱ダレ性を有する。グループまたは凹凸のビット
などが付けられている面には、必要に応じて記録材料の
膜が設けられ、必要に応じてさらに反射膜、保護膜など
が設けられ、光学式ディスクに仕上げられる。

この発明の製法により得られる光学式ディスク基板は、
記録／再生・消去が繰り返し行われるＥ・ＤＲＡＷ型の
光学式ディスクに適しているが、再生専用型、ＤＲＡＷ
型などの種々の光学式ディスクにも使える。

また、この発明の製法では、成形時の熱で架橋反応が起
こってしまわないので、成形時の温度を高くできる。こ
のため、成形時に充分な流動性が得られ、複屈折性の悪
化をもたらさない。

つぎに、実施例および比較例について説明する（実施例
１） ポリメチルメタクリレート（三菱レイヨン−のアクリベ
ットＶＨ）８０重量部、架橋性モノマとしてトリメチロ
ールプロパントリメタクリレート２０重量部、光開始剤
として２・２−ジェトキシアセトフェノン２重量部をト
リクロロエチレンに溶解させて３０重量％濃度の溶液と
し、脱泡装置付反応器で均質になるまで十分攪拌した。

このあと、脱泡を行い、溶液ブレンド物となった樹脂組
成物を得た。この樹脂組成物を、塗工機を用いてＰＥＴ
フィルム上に厚み３００μｍとなるように塗布した。こ
れをそのまま風乾させたのち、乾燥機で温度６０℃で６
分間乾燥させた。生成した樹脂組成物のシートをＰＦ、
Ｔフィルムから離型し、さらに、８０℃で１時間乾燥さ
せた。この乾燥後のシートを細かく切断してフレーク状
とした。

射出成形機のシリンダ温度を２５０℃とし、スタンパを
装着した成形型温度を６０℃として射出圧力３５０ｋｇ
／ｃｎｉの条件で前記フレーク状樹脂組成物を射出して
成形を行い、溝付き成形品を得て、さらに、その成形品
に紫外線照射装置により１２００ｍＪ／ｃａＴの光を照
射して光架橋反応を起こさせ、光学式ディスク基板を得
た。

（実施例２〜５） 第１表に示されている配合の原材料を用いるようにした
ほかは、実施例１と同様にして光学式ディスク基板を得
た。

（比較例１．２） 第１表に示されているように、熱可塑性樹脂に架橋性モ
ノマおよび光開始剤を混合しないで通常の射出成形を行
って光学式ディスク基板を得た。

実施例１〜５および比較例１．２で得られた各光学式デ
ィスク基板に゛ついて、物性を調べた結果を第１表に示
した。

第１表にみるように、実施例１〜５で得られた光学式デ
ィスク基板は、比較例１，２のものと比べて、ガラス転
移温度が同等かそれよりも下がるものの、耐熱ダレ性は
良好であることがわかる。

これは、架橋性モノマが三次元架橋をしているためであ
る。また、実施例１〜５で得られた各光学式ディスク基
板は、その他の光学特性も、熱可塑性樹脂が持つ特徴を
失っていないことが分かる。

吸水率もほぼ同等である。

〔発明の効果〕

この発明にかかる光学式ディスク基板の製法は、以上に
みるように、光学的に透明な熱可塑性樹脂および架橋性
モノマを含む樹脂組成物を用いて成形した後に、光を用
いて架橋性モノマの三次元架橋を起こさせるので、熱可
塑性樹脂が持つ光学的均質さを失うことな（、耐熱ダレ
性の良好な光学式ディスク基板を得ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）光学的に透明な熱可塑性樹脂と、ラジカル反応基
   を分子あたり２個以上有する架橋性モノマとが混合され
   てなる樹脂組成物を成形し、その後、光により前記架橋
   性モノマの三次元架橋を起こさせる光学式ディスク基板
   の製法。