JPS62212217A - 水素化ケイ素の精製方法 - Google Patents
水素化ケイ素の精製方法Info
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Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分骨
本発明は、一般式5inH2(1−1−2(nは1.2
.3又は4)で表わされる水素化ケイ素、特にはモノシ
ラン(SiH4) 、ジシラン(Si2H6)中に微貴
含まれるホスフィン(PH3)を除去し水素化ケイ素を
精製する方法に関する。
.3又は4)で表わされる水素化ケイ素、特にはモノシ
ラン(SiH4) 、ジシラン(Si2H6)中に微貴
含まれるホスフィン(PH3)を除去し水素化ケイ素を
精製する方法に関する。
背景技術
近年エレクトロニクス工業の発展に伴い、多結晶シリコ
ンあるいはアモルファスシリコン等の半導体用のシリコ
ンの需要が急激に増大している。 。
ンあるいはアモルファスシリコン等の半導体用のシリコ
ンの需要が急激に増大している。 。
水素化ケイ素はかかる半導体用シリコンの製造用原料と
して最近その重要性を増しており、今後の需要増加が期
待されている。
して最近その重要性を増しており、今後の需要増加が期
待されている。
これら水素化ケイ素の製造方法としては、以下に例示す
るようないくつかの方法が知られているかいずれの方法
を採用するにせよ通常合成された水素化ケイ素ガス中に
は微量 0Mg2Si+4HC1aq→2Mgc l 2+1/
ns l nH2n+2+(1−!−)H2 0Mg28 i+4NH4Br h 2MgBr2+4
NH3+1/n5inH2n+z+(t −−)H2O ■S i Cl 3+L i AI H4下、□芹Li
C1+AlCl3+SiH4■S i +S i Cl
4 +2H2−一→5iHC13+SiH3CI2
S r HCI s−一→S+CI 4+5iH2C1
22S+H2C12−一→S i HCI 3 +8
i H3C128iH3C1−−→S i H4+8
i H2Cl 2のPH3が含まれる。その含有量は製
造法によグも異なるが、たとえば上記■、■による方法
で製造した水素化ケイ素中には濃度口ppm前後のPH
3が含有される。半導体ガスとして使用される水素化ケ
イ素中における不純物としてのPH3の影響は太き(1
通常その含有量を10−g以下(ppb以下)にする必
要がある。
るようないくつかの方法が知られているかいずれの方法
を採用するにせよ通常合成された水素化ケイ素ガス中に
は微量 0Mg2Si+4HC1aq→2Mgc l 2+1/
ns l nH2n+2+(1−!−)H2 0Mg28 i+4NH4Br h 2MgBr2+4
NH3+1/n5inH2n+z+(t −−)H2O ■S i Cl 3+L i AI H4下、□芹Li
C1+AlCl3+SiH4■S i +S i Cl
4 +2H2−一→5iHC13+SiH3CI2
S r HCI s−一→S+CI 4+5iH2C1
22S+H2C12−一→S i HCI 3 +8
i H3C128iH3C1−−→S i H4+8
i H2Cl 2のPH3が含まれる。その含有量は製
造法によグも異なるが、たとえば上記■、■による方法
で製造した水素化ケイ素中には濃度口ppm前後のPH
3が含有される。半導体ガスとして使用される水素化ケ
イ素中における不純物としてのPH3の影響は太き(1
通常その含有量を10−g以下(ppb以下)にする必
要がある。
従来技術
水素化ケイ素たとえば5iHa中における微量のPH3
を除去する方法としては、吸着剤を用いるのが一般的で
あり0例えば以下に例示するようなンが知られている。
を除去する方法としては、吸着剤を用いるのが一般的で
あり0例えば以下に例示するようなンが知られている。
すなわち、吸着剤として1合成ゼオライ)Aまたは合成
ゼオライトXを使用するもの(特公昭36−1774)
、シランを殆ど吸着しない均一細孔径を有するゼオライ
ト(例えば合成ゼオライト3A、4A)中の交換可能な
陽イオンを2価の陽イオン、特には亜鉛、鉛に交換した
もの(特公昭48−41437.48−41439)1
合成ゼオライト4人中のナトリウムイオンを2価の陽イ
オン、あるいは銀イオンに交換したもの(特開昭48−
75475゜特開昭59−30711)、活性炭および
合成ゼオライト−4Aを併用するもの(特開昭58−6
9715゜58−17222O)、水素吸蔵用金属材料
または金属水素化物を使用するもの(特開昭58−12
O511)などの方法が報告されている。しかしながら
これらの吸着剤は吸着容量が小さいこと、シランの吸着
ロスが大きいこと、再生が不可能なことなどの種々の問
題があった。
ゼオライトXを使用するもの(特公昭36−1774)
、シランを殆ど吸着しない均一細孔径を有するゼオライ
ト(例えば合成ゼオライト3A、4A)中の交換可能な
陽イオンを2価の陽イオン、特には亜鉛、鉛に交換した
もの(特公昭48−41437.48−41439)1
合成ゼオライト4人中のナトリウムイオンを2価の陽イ
オン、あるいは銀イオンに交換したもの(特開昭48−
75475゜特開昭59−30711)、活性炭および
合成ゼオライト−4Aを併用するもの(特開昭58−6
9715゜58−17222O)、水素吸蔵用金属材料
または金属水素化物を使用するもの(特開昭58−12
O511)などの方法が報告されている。しかしながら
これらの吸着剤は吸着容量が小さいこと、シランの吸着
ロスが大きいこと、再生が不可能なことなどの種々の問
題があった。
本発明者等は、水素化ケイ素中のホスフィンを選択的に
除去できる吸着剤の開発に鋭意努力し。
除去できる吸着剤の開発に鋭意努力し。
吸着剤としてシリカ含有1の大きいゼオライトを用いる
ことによりこれらの問題点が解決できることを見出し1
本発明を完成した。
ことによりこれらの問題点が解決できることを見出し1
本発明を完成した。
発明の要旨
本発明はホスフィンを含有する水素化ケイ素を。
S+02およびAt、03を構成成分に含み、かつ5i
(hとAl2O3の含有モル比(S iOz/Al 2
O3 )4,14が5以上である合成あるいは天然のゼ
オライト吸着剤で処理することを特徴とする水素化ケイ
素の精製方法である。
(hとAl2O3の含有モル比(S iOz/Al 2
O3 )4,14が5以上である合成あるいは天然のゼ
オライト吸着剤で処理することを特徴とする水素化ケイ
素の精製方法である。
以下1本発明の詳細な説明する。
本発明の対象とする水素化ケイ素とは、一般式5inH
2n+2 (nは1.2.3又は4)で表わされるもの
であるが、特にはSiH4が最も好ましい。
2n+2 (nは1.2.3又は4)で表わされるもの
であるが、特にはSiH4が最も好ましい。
またもちろんこれらは混合物であっても、またPH3以
外のガスを含むものであっても良い。
外のガスを含むものであっても良い。
本発明における吸着剤とは、 8i02およびAI 、
03を構成成分に含み、かつ8i02とAt 2O3の
含有モル比(S i02/A l 2O3 )モル比が
5以上の天然あるいは人工のゼオライトである。ゼオラ
イトの化学組成はアルカリ金属、アルカリ土類金属また
は他の金属を含有するアルミノケイ酸塩である。(8i
0z/Al 、03)や、1が従来のものより高い、い
わゆるノ・イシリカゼオライトは近年数多くの種類のも
のが合成できるようになってきた。
03を構成成分に含み、かつ8i02とAt 2O3の
含有モル比(S i02/A l 2O3 )モル比が
5以上の天然あるいは人工のゼオライトである。ゼオラ
イトの化学組成はアルカリ金属、アルカリ土類金属また
は他の金属を含有するアルミノケイ酸塩である。(8i
0z/Al 、03)や、1が従来のものより高い、い
わゆるノ・イシリカゼオライトは近年数多くの種類のも
のが合成できるようになってきた。
具体的には1例えば化学組成が(Ca 、 K2 、
Na 2 )(”5i5012)2・7H2Oで表わさ
れる天然または人工のモルデナイト;シリカ源およびア
ルミナ源から4級アンモニウム化合物アミン類等の有機
塩基を用いて近年モーピルオイル社、ユニオンカーバイ
ド社、ICI社、帝人油化、新燃料油開発技術研究組合
等で合成されたZSM、 NU、 EU、TPZ、 I
sI等の各ゼオライトに代表されるもの(例えばUSP
at 3308069 、 US Pat 3702
886 、 US Pat3950496 、%開昭5
6−73618.特公昭56−49850.特開昭57
−2O0218.特開昭57−149819.%開昭5
7−95821等〕;有機塩基のかわりにアルコール、
エーテル、ケトン、エステル、カルボン酸等の有機化合
物を用いてICI社、三菱重工、新燃料油開発技術研究
組合等で合成された高シリカゼオライ);ZSM−5や
モルデナイトを種結晶とし、アルカリ金属の水酸化物等
の無機塩基を用いてモーピルオイル社、出光興産で合成
された高シリカゼオライト(例えば特開昭56−372
15.特開昭57−7819);脱アルミニウム処理に
よってシリカリンチとしたゼオライトなどがいずれも好
適に用い5る。更に上記のゼオライトの交換可能な陽イ
オンの全部又は一部をマグネシウムイオン、カルシウム
イオン。
Na 2 )(”5i5012)2・7H2Oで表わさ
れる天然または人工のモルデナイト;シリカ源およびア
ルミナ源から4級アンモニウム化合物アミン類等の有機
塩基を用いて近年モーピルオイル社、ユニオンカーバイ
ド社、ICI社、帝人油化、新燃料油開発技術研究組合
等で合成されたZSM、 NU、 EU、TPZ、 I
sI等の各ゼオライトに代表されるもの(例えばUSP
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886 、 US Pat3950496 、%開昭5
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−2O0218.特開昭57−149819.%開昭5
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エーテル、ケトン、エステル、カルボン酸等の有機化合
物を用いてICI社、三菱重工、新燃料油開発技術研究
組合等で合成された高シリカゼオライ);ZSM−5や
モルデナイトを種結晶とし、アルカリ金属の水酸化物等
の無機塩基を用いてモーピルオイル社、出光興産で合成
された高シリカゼオライト(例えば特開昭56−372
15.特開昭57−7819);脱アルミニウム処理に
よってシリカリンチとしたゼオライトなどがいずれも好
適に用い5る。更に上記のゼオライトの交換可能な陽イ
オンの全部又は一部をマグネシウムイオン、カルシウム
イオン。
マンガンイオン、亜鉛イオン、鉛イオン、コノ(ルトイ
オン等の2価の陽イオン、又はプロトンで交換したもの
、およびチタンイオン、ホウ素イオンなどの多価の陽イ
オンを含むアルミノケイ酸塩でもよい。プロトンによる
陽イオンの交換は1通常の方法、すなわち塩酸や塩化ア
ンモニウムなどの水溶液中にて行ない得る。
オン等の2価の陽イオン、又はプロトンで交換したもの
、およびチタンイオン、ホウ素イオンなどの多価の陽イ
オンを含むアルミノケイ酸塩でもよい。プロトンによる
陽イオンの交換は1通常の方法、すなわち塩酸や塩化ア
ンモニウムなどの水溶液中にて行ない得る。
本発明に適用されるゼオライトは、ゼオライト中のSi
O2とAt2O3の組成割合がモル比で5以上であれば
よくその結晶構造は特に制限されない。
O2とAt2O3の組成割合がモル比で5以上であれば
よくその結晶構造は特に制限されない。
本発明は以上のごとき(8;02/At 2O. )や
、1≧5のゼオライト吸着剤によりホスフィンを含有す
る水素化ケイ素を処理し精製するものであるが1次にゼ
オライトを用いての精製の条件について述べる。
、1≧5のゼオライト吸着剤によりホスフィンを含有す
る水素化ケイ素を処理し精製するものであるが1次にゼ
オライトを用いての精製の条件について述べる。
吸着処理は、減圧下でも加圧下でも行なうことができる
が好ましくは常圧以上である。水素化ケイ素は気相でも
液相でも良いが通常は気相で行うのが好ましい。吸着処
理温度は1本発明において特に制限するものではないが
水素化ケイ素の種類によって異なり、好ましくはSiH
4では−80乃至30℃、 Si2H6では−30乃至
50°C,Si3H8ではO乃至100℃、 5i4H
1oではO乃至1500Cである。この範囲より低温で
は水素ケイ素、特にモノシランの吸着が顕著となり好ま
しくなく。
が好ましくは常圧以上である。水素化ケイ素は気相でも
液相でも良いが通常は気相で行うのが好ましい。吸着処
理温度は1本発明において特に制限するものではないが
水素化ケイ素の種類によって異なり、好ましくはSiH
4では−80乃至30℃、 Si2H6では−30乃至
50°C,Si3H8ではO乃至100℃、 5i4H
1oではO乃至1500Cである。この範囲より低温で
は水素ケイ素、特にモノシランの吸着が顕著となり好ま
しくなく。
高温ではPI−13の吸着量が減少するので好ましくな
(亀。
(亀。
水素化ケイ素中のPH3の含有最には特に制限はないが
1通常1チ以下、@には061%以下である。
1通常1チ以下、@には061%以下である。
また水素化ケイ素中にはPH3以外のガス(例えば。
水素、窒素、稀ガス、メタン幸1含まれても良い。
また本発明以外の吸着剤と併用することも可能である。
本発明におけるPH3除去用の新規な吸着剤は従来公知
の吸着剤、に比較し吸着容量が大きいことが特徴である
。
の吸着剤、に比較し吸着容量が大きいことが特徴である
。
以下1本発明を実施例によって説明する。
〈実施例1〉
内径3朋、長さ42頷の吸着管に、ゼオライトTSZ−
32ONAA(東洋曹達社製、 (Si02/A12O
3)モル比=5.6.フォージャサイト型構造、30乃
至60メツシー)0.25gを充填した。400℃にて
ヘリウム中1時間、減圧下(0,2mi#) 2時間処
理した後、吸着管の温度を一2O℃に設定し、PH3を
279 ppm含む8iH4ガスを流量3 s w /
mi nの速度(線速度8.5crIL/5eC1接触
時間0.49sec)で流通させた。吸着管からの出口
ガス中のPH8濃度は、逐次FPDを検出器とするガス
クロマトグラだ。
32ONAA(東洋曹達社製、 (Si02/A12O
3)モル比=5.6.フォージャサイト型構造、30乃
至60メツシー)0.25gを充填した。400℃にて
ヘリウム中1時間、減圧下(0,2mi#) 2時間処
理した後、吸着管の温度を一2O℃に設定し、PH3を
279 ppm含む8iH4ガスを流量3 s w /
mi nの速度(線速度8.5crIL/5eC1接触
時間0.49sec)で流通させた。吸着管からの出口
ガス中のPH8濃度は、逐次FPDを検出器とするガス
クロマトグラだ。
結果を第1図に示す。第1図より、該吸着量1(吸着管
出口のpH3濃度が10ppbとなる点、以下同じ)は
約4■・pHa/g 吸着剤であることがわかった。
出口のpH3濃度が10ppbとなる点、以下同じ)は
約4■・pHa/g 吸着剤であることがわかった。
〈実施例2乃至10〉
実施例1において、吸着剤にゼオライ)TSZ−600
NAA(東洋曹達製、 (sioz/Al、o3)や、
、Jt=tO,2モルデナイト型構造、30乃至60メ
ツシー)0.25り、TSZ−62ONAA(東洋1達
社製、 (Si02/A12O3)ヤ2.?15 、2
11モルブナイト構造30乃至60メツ、%)0.25
9.ZSM−5(−v−−ヒルyl−イル社特開昭56
−73618の実施例16に従い合成したもの; (8
102/Al 2O3 )錦地−65.ペンタシル型構
造、30乃至60メツシー>0.259 、ZSM−1
2(モーピルオイル社特開昭56−73618の実施例
9に従い合成したもの; (Si02/A12O3)や
、、、 =338 、30乃至60メツシ為’) 0.
259 、 NU−10(ICI社特開昭57−2O0
218の実施例7に従い合成したもの;(S io2/
At 2O. )や7.よ=87 、 ZSM−22型
構造、30雇60メツシー) 0.25り、EU−7(
ICI社、特開昭−59−88310の実施例1に従い
合成したもの(S io、、/At xO3)47.l
j ” 60 ) 0.25 g、 TP Z 2 (
奇人油化特許、特開昭57−149819の実施例1に
従い合成したもの; (Si02/Al2O3)や、□
= 100゜ZSM−23型構造、30乃至60メノシ
= ) 0.25>l5I−2(新燃料油開発技術研究
組合、特開昭59−73428の実施例2に従い合成し
たもの; @i02/At2O3)、、th= 76.
28M−39型構造、30乃至60メツシー) 0.2
5g、 LZ−132(UCq土、特開昭58−181
72Oの実施例1に従い合成したもの(Si02/At
2O3舅ゆ=27,28M−45型構造、30乃至6
0メクシー)0.259をそれぞれ用いた以外は実施例
1と同様に実験を行なった。
NAA(東洋曹達製、 (sioz/Al、o3)や、
、Jt=tO,2モルデナイト型構造、30乃至60メ
ツシー)0.25り、TSZ−62ONAA(東洋1達
社製、 (Si02/A12O3)ヤ2.?15 、2
11モルブナイト構造30乃至60メツ、%)0.25
9.ZSM−5(−v−−ヒルyl−イル社特開昭56
−73618の実施例16に従い合成したもの; (8
102/Al 2O3 )錦地−65.ペンタシル型構
造、30乃至60メツシー>0.259 、ZSM−1
2(モーピルオイル社特開昭56−73618の実施例
9に従い合成したもの; (Si02/A12O3)や
、、、 =338 、30乃至60メツシ為’) 0.
259 、 NU−10(ICI社特開昭57−2O0
218の実施例7に従い合成したもの;(S io2/
At 2O. )や7.よ=87 、 ZSM−22型
構造、30雇60メツシー) 0.25り、EU−7(
ICI社、特開昭−59−88310の実施例1に従い
合成したもの(S io、、/At xO3)47.l
j ” 60 ) 0.25 g、 TP Z 2 (
奇人油化特許、特開昭57−149819の実施例1に
従い合成したもの; (Si02/Al2O3)や、□
= 100゜ZSM−23型構造、30乃至60メノシ
= ) 0.25>l5I−2(新燃料油開発技術研究
組合、特開昭59−73428の実施例2に従い合成し
たもの; @i02/At2O3)、、th= 76.
28M−39型構造、30乃至60メツシー) 0.2
5g、 LZ−132(UCq土、特開昭58−181
72Oの実施例1に従い合成したもの(Si02/At
2O3舅ゆ=27,28M−45型構造、30乃至6
0メクシー)0.259をそれぞれ用いた以外は実施例
1と同様に実験を行なった。
これらの場合における吸着容量は、それぞれ第1表に示
すとおりであった。
すとおりであった。
〈実施例11.12>
実施例2において、吸着管の温度を0℃および一60℃
にした以外は実施例2と同様に実験を行なった。
にした以外は実施例2と同様に実験を行なった。
結果を第1表に示す。
〈実施例13〉
実施例2において、吸着試験終了後のTSZ−600N
AAを減圧下(0,111IIIHり)250℃にて2
時間加熱再生処理した。その後この再生した吸着剤を一
2O°Cに設定し実施例2と同様に実験な行なった。
AAを減圧下(0,111IIIHり)250℃にて2
時間加熱再生処理した。その後この再生した吸着剤を一
2O°Cに設定し実施例2と同様に実験な行なった。
結果を第1表に示す。
〈実施例14〉
実施例2において、吸着管の温度を一5℃とし。
pH3を12Opl)m含む8i2H6(1)精製を行
ナツタ以外は実施例2と同様に実験を行なった。
ナツタ以外は実施例2と同様に実験を行なった。
結果を第1表に示す。
〈実施例15〉
内径6罵り長さ100mの吸着管に実施例2で用いたT
SZ−GooNAAl、8gを充填した。吸着管の一温
度を2O℃、吸着管内の圧力を2J/dabsとり、9
Hzを30ppm含むS i 3H6の精製を液相にて
行なった。S i 3H6の供給速度は0.2g/mi
nであった。
SZ−GooNAAl、8gを充填した。吸着管の一温
度を2O℃、吸着管内の圧力を2J/dabsとり、9
Hzを30ppm含むS i 3H6の精製を液相にて
行なった。S i 3H6の供給速度は0.2g/mi
nであった。
結果を第1表に示す。
〈実施例16〉
とし、 pH3を15 ppm含む5i4H,oの精製
を液相にて行なった。8 i 4H10の供給速度は0
,2 q /minであった。
を液相にて行なった。8 i 4H10の供給速度は0
,2 q /minであった。
結果を第1表に示す。
〈実施例17〉
ケイ化マグネシウム(Mg=S i )を濃度2Owt
%の塩酸水溶液と反応させることにより、 pHs75
ppmを含む5IH4ガスを得た。
%の塩酸水溶液と反応させることにより、 pHs75
ppmを含む5IH4ガスを得た。
内径8 tn 、長さ1000℃mの吸着管に実施例2
で用いたTSZ−60ONAA309を充填させた。吸
着管の温度を一50℃に設定した後、上記の合成した5
iHaガスを流I130 ml / min f)’4
度(線速1、Ocm/ sec 、接触時間1.67m
1n)で流通させ。
で用いたTSZ−60ONAA309を充填させた。吸
着管の温度を一50℃に設定した後、上記の合成した5
iHaガスを流I130 ml / min f)’4
度(線速1、Ocm/ sec 、接触時間1.67m
1n)で流通させ。
精製後のSiH4を液体チッ素温度で冷却したシリンダ
ー中に捕集した。流通開始593時間後、流通を停止し
、捕集ガス中の1)H3量をFPI4検出器とするガス
クロマトグラフィーにより分析したところpHsは検出
されなかった(検出限界約10キシヤル膜を作成し、そ
の比抵抗を四探針法にて測定したところ11l102O
であった。
ー中に捕集した。流通開始593時間後、流通を停止し
、捕集ガス中の1)H3量をFPI4検出器とするガス
クロマトグラフィーにより分析したところpHsは検出
されなかった(検出限界約10キシヤル膜を作成し、そ
の比抵抗を四探針法にて測定したところ11l102O
であった。
く比較例1乃至3〉
モレキーラージ−ブー3A(西尾工業社製。
(S i 02/A l 2O3 )、、比= 1.0
.30乃至60メノシエ)の交換可能な陽イオンの48
%を亜鉛イオンで交換したもの;モレ上1ラージーブー
4A(ユニオンカーバイド社製、 (Si02/AhO
s)や、、、=t、030乃至60メツシー)の交換可
能な陽イオンの82%を銀イオンで交換したもの:およ
びモレキーラージ−ブー13X(富士デグイソン社製、
(Si02/Al 2O3 )J&ヤ比= 1.4
.30乃至60メツシー)をそれぞれ0.25g用いた
以外は実施例1と同様に前処理をし、吸着実験を行なっ
た。
.30乃至60メノシエ)の交換可能な陽イオンの48
%を亜鉛イオンで交換したもの;モレ上1ラージーブー
4A(ユニオンカーバイド社製、 (Si02/AhO
s)や、、、=t、030乃至60メツシー)の交換可
能な陽イオンの82%を銀イオンで交換したもの:およ
びモレキーラージ−ブー13X(富士デグイソン社製、
(Si02/Al 2O3 )J&ヤ比= 1.4
.30乃至60メツシー)をそれぞれ0.25g用いた
以外は実施例1と同様に前処理をし、吸着実験を行なっ
た。
これらの場合における吸着容量は、それぞれ第1表に示
すとおりであった。
すとおりであった。
く比較例4〉
比較例1において、吸着試験終了後の亜鉛で交換したモ
レキーラージ−ブー3Aを減圧下(0,1−’J )
350℃にて2時間加熱再生処理した。その後この再生
した吸着剤を一2O℃に設定し実施例1と同様に実験を
行なった。
レキーラージ−ブー3Aを減圧下(0,1−’J )
350℃にて2時間加熱再生処理した。その後この再生
した吸着剤を一2O℃に設定し実施例1と同様に実験を
行なった。
結果は第1表に示すごとく、その吸着容量は最初の1/
3以下に低下した。
3以下に低下した。
さらに再度この吸着剤を同様に減圧処理し、2回再生を
くり返したところその吸着容量は1rn9/り・吸着剤
以下となってしまった。
くり返したところその吸着容量は1rn9/り・吸着剤
以下となってしまった。
第1表
X ()内は(8i02/Al10a)や/、11゜発
明の効果 本発明の方法における特定の吸着剤は実施例に示したご
とく吸着容量が大きく再生が可能であるなどすぐれた吸
着能力を有する。特にSi2H6。
明の効果 本発明の方法における特定の吸着剤は実施例に示したご
とく吸着容量が大きく再生が可能であるなどすぐれた吸
着能力を有する。特にSi2H6。
8i3H6、5i4Hto中のpH3除去に有効な吸着
剤については過去に殆ど報告例がなく1本発明の方法に
よって初めて有効なpHs除去精製法が提供されるもの
である。
剤については過去に殆ど報告例がなく1本発明の方法に
よって初めて有効なpHs除去精製法が提供されるもの
である。
第1図は吸着管出口ガス中のpH3濃度とpH3吸着量
の関係を示すグラフである。
の関係を示すグラフである。
Claims (3)
- (1)ホスフインを含有する水素化ケイ素を、SiO_
2およびAl_2O_3を構成成分に含み、かつSiO
_2とAl_2O_3の含有モル比、(SiO_2/A
l_2O_3)モル比が5以上である合成あるいは天然
のゼオライト吸着剤で処理することを特徴とする水素化
ケイ素の精製方法。 - (2)ゼオライトがモルデナイト型構造のものである特
許請求の範囲第1項に記載の方法。 - (3)水素化ケイ素がシラン又はジシランである特許請
求の範囲第1項に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61052666A JPH0645447B2 (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 水素化ケイ素の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61052666A JPH0645447B2 (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 水素化ケイ素の精製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62212217A true JPS62212217A (ja) | 1987-09-18 |
JPH0645447B2 JPH0645447B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=12921194
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61052666A Expired - Lifetime JPH0645447B2 (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 水素化ケイ素の精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0645447B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8568672B2 (en) | 2009-03-27 | 2013-10-29 | Sued-Chemie Catalysts Japan Inc. | Agent for detoxifying discharge gas containing volatile inorganic hydride and method of detoxifying discharge gas containing volatile inorganic hydride |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61101411A (ja) * | 1984-10-24 | 1986-05-20 | Showa Denko Kk | シランガスの精製法 |
-
1986
- 1986-03-12 JP JP61052666A patent/JPH0645447B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61101411A (ja) * | 1984-10-24 | 1986-05-20 | Showa Denko Kk | シランガスの精製法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8568672B2 (en) | 2009-03-27 | 2013-10-29 | Sued-Chemie Catalysts Japan Inc. | Agent for detoxifying discharge gas containing volatile inorganic hydride and method of detoxifying discharge gas containing volatile inorganic hydride |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0645447B2 (ja) | 1994-06-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |