JPS6325210A - ジシランの精製方法 - Google Patents
ジシランの精製方法Info
- Publication number
- JPS6325210A JPS6325210A JP5132886A JP5132886A JPS6325210A JP S6325210 A JPS6325210 A JP S6325210A JP 5132886 A JP5132886 A JP 5132886A JP 5132886 A JP5132886 A JP 5132886A JP S6325210 A JPS6325210 A JP S6325210A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adsorption
- si2h6
- disilane
- adsorbent
- zeolite
- Prior art date
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- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、ジシラン（５ｊ２Ｈ６）中に微量台まれるホ
スフィン（ＰＨ３）を除去し、ジシランをＭＭする方法
に関する。
スフィン（ＰＨ３）を除去し、ジシランをＭＭする方法
に関する。
背景技術
近年エレクトロニクス工業の発展に伴い、多結晶シリコ
ンあるいはアモルファスシリコン等の半導体用シリコン
の需要が急激に増大している。
ンあるいはアモルファスシリコン等の半導体用シリコン
の需要が急激に増大している。
Ｓｉ２Ｈ６は、モノシラン（ＳｉＨ，）とともにかかる
半導体用シリコンの新しい製造用原料として最近特に脚
光を浴びており、今後の需要増加が期待されている。
半導体用シリコンの新しい製造用原料として最近特に脚
光を浴びており、今後の需要増加が期待されている。
Ｓｉ２Ｈ６の製造方法としては、以下に例示するように
いくつかの方法が知られているが、いずれの方法を採用
するにせよ通常合成されたジシランガス中には微量のＰ
Ｈ，が含まれる。特に■、■による方法で製造した水素
化ケイ素中には ２Ｍｇ（’１２ ＋ １／ｎ Ｓ＋ｎＨ２１＋２ ＋
（１） Ｈ２４ＮＨ３＋１／ｎ５ｉｎＨ２１＋２＋（１
’）Ｈ２■ ５ｉ２ＣＡ’ａ＋３／２ＬｉＡｌＨ，７凰
ｎｅｔｈｅｒ ３／２ Ｌｉｃｌ！＋ ３／２ ＡｌＣｌ５ ＋ Ｓ
ｉ□Ｈ６潰度百ｐｐｍ前後のＰＨ，が含有される。半導
体ガスとして使用される水素化ケイ素中における不純物
としてのＰＨ３の影響は大きく、通常その含有量を１０
−９以下（ｐｐｂ以下）にする必要がある。
いくつかの方法が知られているが、いずれの方法を採用
するにせよ通常合成されたジシランガス中には微量のＰ
Ｈ，が含まれる。特に■、■による方法で製造した水素
化ケイ素中には ２Ｍｇ（’１２ ＋ １／ｎ Ｓ＋ｎＨ２１＋２ ＋
（１） Ｈ２４ＮＨ３＋１／ｎ５ｉｎＨ２１＋２＋（１
’）Ｈ２■ ５ｉ２ＣＡ’ａ＋３／２ＬｉＡｌＨ，７凰
ｎｅｔｈｅｒ ３／２ Ｌｉｃｌ！＋ ３／２ ＡｌＣｌ５ ＋ Ｓ
ｉ□Ｈ６潰度百ｐｐｍ前後のＰＨ，が含有される。半導
体ガスとして使用される水素化ケイ素中における不純物
としてのＰＨ３の影響は大きく、通常その含有量を１０
−９以下（ｐｐｂ以下）にする必要がある。
従来技術
Ｓｉ２Ｈ６（ｂｐ−１５°Ｃ）中におけるＰＨ３（ｂｐ
−８８℃）の蒸留分離には限界があり、蒸留によりＰ
Ｈ。
−８８℃）の蒸留分離には限界があり、蒸留によりＰ
Ｈ。
の含有量を１０−９以下にすることは実質的に不可能で
ある。
ある。
従来吸着剤を用いて水素化ケイ素中のＰＨ１を除去する
方法としては、ＳｉＨ，については数多く知られている
が、Ｓｉ２Ｈ６については殆ど報告例がない。
方法としては、ＳｉＨ，については数多く知られている
が、Ｓｉ２Ｈ６については殆ど報告例がない。
すなわちＳｉＨ４については、例えばＳｉＨ４を殆ど吸
着しない均一細孔径を有するゼオライト中の交換可能な
陽イオンを２価の陽イオンに交換したもの（特公昭４８
−４１４３７．４８−４１４３９ ）、合成ゼオライト
４Ａ中のナトリウムイオンを２価の陽イオン、あるいは
銀イオンに交換したもの（特開昭４８−７５４７５、特
開昭５９−３０７１１ ）、活性炭および合成ゼオライ
ト−４Ａを併用するもの（特開昭５８−６９７１５．５
８−１７２２２０ ）、水素吸蔵用金属材料または金属
水素化物を使用するもの（特開昭５８−１２０５１１
）などの方法が報告されている。
着しない均一細孔径を有するゼオライト中の交換可能な
陽イオンを２価の陽イオンに交換したもの（特公昭４８
−４１４３７．４８−４１４３９ ）、合成ゼオライト
４Ａ中のナトリウムイオンを２価の陽イオン、あるいは
銀イオンに交換したもの（特開昭４８−７５４７５、特
開昭５９−３０７１１ ）、活性炭および合成ゼオライ
ト−４Ａを併用するもの（特開昭５８−６９７１５．５
８−１７２２２０ ）、水素吸蔵用金属材料または金属
水素化物を使用するもの（特開昭５８−１２０５１１
）などの方法が報告されている。
一方、５ｉ２Ｈａについては、特開昭５８−１７２２２
０で活性炭および合成ゼオライトで処理する方法が記載
されているが、この方法によれば副生ハロゲン化ケイ素
化合物や低７ノ点脂肪族炭化水素が除去されるだけであ
る。Ｓｉ２Ｈ６とＰＨ，の混合ガスの分離を吸着法によ
り行なおうとする場合、この両者間では、被吸着物質と
なるべきＰＨ３の方がＳｉ２Ｈ６より低沸点であるため
、温度的にはＳｉ２Ｈ６の吸着が優先され、原理的に吸
着剤によるＳｉ２Ｈ６中のＰＨ５の除去はＳｉＨ，の場
合に比べるとかなり困難と予想される。すなわちＳｉＨ
，、Ｓｉ２Ｈ６、ＰＨ３の沸点はそれぞれ一１１２°Ｇ
、−１４，５℃、−８７℃であり、ＳｉＨ４中のＰＨ３
は、ＰＨ１がより高沸点成分であるため吸着除去が比較
的容易であるが、Ｓｉ２Ｈ６中のＰＨ，の場合には、こ
の温度関係が逆となり、ＰＨ，よりＳｉ２Ｈ６の吸着が
優先する。従ってＰＨ８の選択的吸着は困難であると考
えられていた。また更にこれらの分子の分子径がほぼ同
じであるためＰＨ３の吸着分離を困難とされていた。
０で活性炭および合成ゼオライトで処理する方法が記載
されているが、この方法によれば副生ハロゲン化ケイ素
化合物や低７ノ点脂肪族炭化水素が除去されるだけであ
る。Ｓｉ２Ｈ６とＰＨ，の混合ガスの分離を吸着法によ
り行なおうとする場合、この両者間では、被吸着物質と
なるべきＰＨ３の方がＳｉ２Ｈ６より低沸点であるため
、温度的にはＳｉ２Ｈ６の吸着が優先され、原理的に吸
着剤によるＳｉ２Ｈ６中のＰＨ５の除去はＳｉＨ，の場
合に比べるとかなり困難と予想される。すなわちＳｉＨ
，、Ｓｉ２Ｈ６、ＰＨ３の沸点はそれぞれ一１１２°Ｇ
、−１４，５℃、−８７℃であり、ＳｉＨ４中のＰＨ３
は、ＰＨ１がより高沸点成分であるため吸着除去が比較
的容易であるが、Ｓｉ２Ｈ６中のＰＨ，の場合には、こ
の温度関係が逆となり、ＰＨ，よりＳｉ２Ｈ６の吸着が
優先する。従ってＰＨ８の選択的吸着は困難であると考
えられていた。また更にこれらの分子の分子径がほぼ同
じであるためＰＨ３の吸着分離を困難とされていた。
本発明者らは、これらの従来の予想に反しＳｉ２Ｈ６中
のＰＨ，を選択的に除去できる新規な吸着剤の開発に長
い間鋭意努力した結果、本発明に到達した。
のＰＨ，を選択的に除去できる新規な吸着剤の開発に長
い間鋭意努力した結果、本発明に到達した。
すなわち本発明は、Ｓｉ２Ｈ６が殆ど極性を有しないの
にＰＨ３がごくわずかに極性（塩基性）を有することに
着目し、極性（酸性）の強い吸着剤を用いることにより
ＰＨ３の吸着エネルギーを大きくし、Ｓｉ２Ｈ６中のＰ
Ｈ３を選択的に吸着しようとしたものである。
にＰＨ３がごくわずかに極性（塩基性）を有することに
着目し、極性（酸性）の強い吸着剤を用いることにより
ＰＨ３の吸着エネルギーを大きくし、Ｓｉ２Ｈ６中のＰ
Ｈ３を選択的に吸着しようとしたものである。
発明の要旨
すなわち、本発明は、ホスフィンを含有するジシランを
、３Ａ型合成ゼオライトの交換可能な陽イオンの一部又
は全部を２価の陽イオンで交換したもの吸着剤で処理す
ることを特徴とするジシランの精製方法に存する。
、３Ａ型合成ゼオライトの交換可能な陽イオンの一部又
は全部を２価の陽イオンで交換したもの吸着剤で処理す
ることを特徴とするジシランの精製方法に存する。
発明の詳細な開示
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明において用いられる吸着剤とは、３Ａ型合成ゼオ
ライトの交換可能な陽イオンの一部又は全部を２価の陽
イオンで交換したものである。該３Ａ型合成ゼオライト
は、初め米国Ｌｉｎｄｅ社から「リンデモレキュラーシ
ープス」の商品名として市販されたものであり、組成式
がＮａ＋２（（’Ａ！０２）＋２（Ｓｉ０２）＋□〕・
２７Ｈ２０で表わされる４Ａ型ゼオライトのナトリウム
イオンの約１／３以上をカリウムイオンで交換したもの
である。このゼオライトの交換可能な陽イオンとはカリ
ウム又はナトリウムでありその有効細孔径は約３Ｘであ
る。本発明にいう２価の陽イオンは、周期律表第（■〕
族の元素イオン、例えばマグネシウム、カルシウム、ス
トロンチウム、亜鉛、カドミウム；周期律表第（′１４
）族−の元素イオン、例えば鉄、コバルト、ニッケル；
およびその他の族の元素イオン、例えばマンガン、鉛、
スズ等である。これらのうち、特にマンガン、カルシウ
ム、マグネシウム、亜鉛、鉛の各イオンが好ましい。
ライトの交換可能な陽イオンの一部又は全部を２価の陽
イオンで交換したものである。該３Ａ型合成ゼオライト
は、初め米国Ｌｉｎｄｅ社から「リンデモレキュラーシ
ープス」の商品名として市販されたものであり、組成式
がＮａ＋２（（’Ａ！０２）＋２（Ｓｉ０２）＋□〕・
２７Ｈ２０で表わされる４Ａ型ゼオライトのナトリウム
イオンの約１／３以上をカリウムイオンで交換したもの
である。このゼオライトの交換可能な陽イオンとはカリ
ウム又はナトリウムでありその有効細孔径は約３Ｘであ
る。本発明にいう２価の陽イオンは、周期律表第（■〕
族の元素イオン、例えばマグネシウム、カルシウム、ス
トロンチウム、亜鉛、カドミウム；周期律表第（′１４
）族−の元素イオン、例えば鉄、コバルト、ニッケル；
およびその他の族の元素イオン、例えばマンガン、鉛、
スズ等である。これらのうち、特にマンガン、カルシウ
ム、マグネシウム、亜鉛、鉛の各イオンが好ましい。
本発明における陽イオンの交換方法には特に制限はなく
、例えば上記した２価の陽イオンとなる金属の塩酸塩、
硝酸塩等の水溶性の塩の水溶液に、３Ａ型ゼオライトを
単に浸漬する等の一般的な方法によって行ない得る。交
換率は２０乃至１００％、好ましくは４０乃至９０％で
ある。また使用前に行なう賦活は通常２００乃至５００
℃の範囲にて、減圧下及び不活性ガス中で行なわれる。
、例えば上記した２価の陽イオンとなる金属の塩酸塩、
硝酸塩等の水溶性の塩の水溶液に、３Ａ型ゼオライトを
単に浸漬する等の一般的な方法によって行ない得る。交
換率は２０乃至１００％、好ましくは４０乃至９０％で
ある。また使用前に行なう賦活は通常２００乃至５００
℃の範囲にて、減圧下及び不活性ガス中で行なわれる。
本発明におけるＳｉ２Ｈ６の吸着剤による精製処理は、
減圧下でも加圧下でも行なうことができ、かつＳｉ２Ｈ
６は気相でも液相でも良いが、好ましくは気相で行なう
のが望ましい。また吸着処理の温度には特に制限はない
が、好ましくは−５０乃至５０℃である。この範囲より
低温だと５ｉ２Ｈ６（ｂｐ−１４５℃）の凝縮により、
ＰＨ，の吸着速度が減少し好ましくなく、この範囲より
高温だとＰＨ３の吸着容量が小さくなるため好ましくな
い。もちろん他の吸着剤と併用することも可能である。
減圧下でも加圧下でも行なうことができ、かつＳｉ２Ｈ
６は気相でも液相でも良いが、好ましくは気相で行なう
のが望ましい。また吸着処理の温度には特に制限はない
が、好ましくは−５０乃至５０℃である。この範囲より
低温だと５ｉ２Ｈ６（ｂｐ−１４５℃）の凝縮により、
ＰＨ，の吸着速度が減少し好ましくなく、この範囲より
高温だとＰＨ３の吸着容量が小さくなるため好ましくな
い。もちろん他の吸着剤と併用することも可能である。
またＳｉ２Ｈ６中にＰＨ３以外のガス（例えば、水素、
窒素、稀ガス、メタン、シラン等）を含んでも構わない
。
窒素、稀ガス、メタン、シラン等）を含んでも構わない
。
以下、本発明を実施例によって説明する。
〈実施例１〉
モレキーラージ−ブー３Ａ（西尾工業社製、３０乃至６
０メノシ、）５０ｐを、Ｍｎ（ＮＯ＋）ｚ１３１を溶解
させた水溶液ｌｌ中に２日間浸漬させた。その後濾過、
洗浄を行ない、得られたゼオライトを空気中４００℃に
て一時間焼成した。化学分析結果によれば、マンガンイ
オンでの交換率ハ４５％であった。
０メノシ、）５０ｐを、Ｍｎ（ＮＯ＋）ｚ１３１を溶解
させた水溶液ｌｌ中に２日間浸漬させた。その後濾過、
洗浄を行ない、得られたゼオライトを空気中４００℃に
て一時間焼成した。化学分析結果によれば、マンガンイ
オンでの交換率ハ４５％であった。
内径３ｍ、長さ４２ｍの吸着管に、上記ゼオライ） ０
．２５９−を充填した。４００℃にてヘリウム中１時間
、更に減圧下（０，２ｍｍＨｚ ）にて２時間処理した
後、吸着管の温度を一５℃とし、ＰＨ，を１２０ｐｐｍ
含む５ｊ２Ｈ６の精製を行なった。
．２５９−を充填した。４００℃にてヘリウム中１時間
、更に減圧下（０，２ｍｍＨｚ ）にて２時間処理した
後、吸着管の温度を一５℃とし、ＰＨ，を１２０ｐｐｍ
含む５ｊ２Ｈ６の精製を行なった。
結果を第１図に示す。第１図より、該吸着剤の吸着容量
（吸着管出口のＰＨ，濃度が１０ ｐｐｂとなる点、以
下同じ）は約ｓ ｍｙｐＨｓ／ｙ−吸着剤であることが
わかった。なお、出口ガス中のＰＨ３濃度はＦＰＤを検
出器とするガスクロマトグラフィーにより分析した。
（吸着管出口のＰＨ，濃度が１０ ｐｐｂとなる点、以
下同じ）は約ｓ ｍｙｐＨｓ／ｙ−吸着剤であることが
わかった。なお、出口ガス中のＰＨ３濃度はＦＰＤを検
出器とするガスクロマトグラフィーにより分析した。
〈実施例２乃至５〉
実施例１で用いたモレキーラーシヘプ−３Ａｓｏｙを、
それぞれＺｎＣＴｏ １０ ｔ、 ＰｂＣｌ２２０
？。
それぞれＺｎＣＴｏ １０ ｔ、 ＰｂＣｌ２２０
？。
ＣａＣｌ２８ ｔ、 ＣｏＣ１ｔ １０ ′？を溶解
させた稀薄塩酸水溶液２１中に２日間浸漬させた。その
後、濾過、洗浄を行ない、得られた各ゼオライトを空気
中４００℃にて一時間焼成した。化学分析結果によれば
、各イオンでの交換率はそれぞれ４４％、３８％、４８
％、３９％であった。
させた稀薄塩酸水溶液２１中に２日間浸漬させた。その
後、濾過、洗浄を行ない、得られた各ゼオライトを空気
中４００℃にて一時間焼成した。化学分析結果によれば
、各イオンでの交換率はそれぞれ４４％、３８％、４８
％、３９％であった。
これらのゼオライトを用い、実施例１と同様に実験を行
なった。
なった。
これらの場合における吸着容量は、それぞれ第１表に示
すとおりであった。
すとおりであった。
〈実施例６．７〉
実施例２において、ＺｎＣｌ２の使用量を５ｙ−あるい
は２５１とし、それぞれ陽イオン交換率が３２％、７２
％のゼオライトを得た。
は２５１とし、それぞれ陽イオン交換率が３２％、７２
％のゼオライトを得た。
このゼオライトを吸着剤に用いて、実施例２と同様に実
験を行なった。
験を行なった。
結果を第１表に示す。
〈実施例８．９〉
実施例１において、吸着温度を一１０℃、２０°Ｃとし
た以外は実施例１と同様に実験を行なった。
た以外は実施例１と同様に実験を行なった。
結果を第１表に示す。
〈実施例１０＞
内径６ｆｆ、長さ１００１ｍ＋の吸着管に実施例１で用
いたのと同一のマンガン交換したゼオライト１．８１を
充填した。吸着管の温度を０℃、吸着管内の圧力を５．
３ ｋｇｌｃｒｌ ａｂｓとし、ＰＨ３を１２０ｐｐｍ
含むＳｉ２Ｈ６の精製を液相にて行なった。Ｓｉ２Ｈ６
の供給速度は０．２デ／ ｆｎ ｌ ｎであった。
いたのと同一のマンガン交換したゼオライト１．８１を
充填した。吸着管の温度を０℃、吸着管内の圧力を５．
３ ｋｇｌｃｒｌ ａｂｓとし、ＰＨ３を１２０ｐｐｍ
含むＳｉ２Ｈ６の精製を液相にて行なった。Ｓｉ２Ｈ６
の供給速度は０．２デ／ ｆｎ ｌ ｎであった。
この場合における吸着容量は第１表に示すとおりであっ
た。
た。
〈実施例１１〉
ケイ化マグネシウム（Ｍｇ２５ｉ ）を濃度２０ｗｔ％
の塩酸水溶液と反応させることにより、ＰＨ１９０ｐｐ
ｍ、 ５ｉＨ４７７％、５Ｉ２Ｈ６２３％の混合ガスを
得た。この混合ガスを−２０乃至５０℃、７気圧の条件
で５０段の蒸留塔を用いて蒸留し、ＰＦ（３１１ｐＩ）
ｍを含むＳｉ２Ｈ６を得た。
の塩酸水溶液と反応させることにより、ＰＨ１９０ｐｐ
ｍ、 ５ｉＨ４７７％、５Ｉ２Ｈ６２３％の混合ガスを
得た。この混合ガスを−２０乃至５０℃、７気圧の条件
で５０段の蒸留塔を用いて蒸留し、ＰＦ（３１１ｐＩ）
ｍを含むＳｉ２Ｈ６を得た。
内径８間、長さ１０００ｓ＋ｉ＋の吸着管に実施例１で
用いたのと同一の亜鉛交換したモレキーラーシーブス−
３Ａ３２ｓ４を充填させた。吸着管の温度を−５℃に設
定した後、上記の合成した５ｉ２Ｈ，ガスを流量３ Ｑ
ｍ１７’ ｍｉｎ Ｘ速度（線速１．０ｃＩｒＬ／
ｓｅｅ、接触時間１．６７ｍ１ｎ）で流通させ、精製後
のＳｉ２Ｈ６をドライアイス温度で冷却したシリンダー
中に捕集した。流通開始４９５時間後、流通を停止し、
捕集ガス中のＰＨ３量をＦＰＤを検出器とするガスクロ
マトグラフィーにより分析したところＰＨ，は検出され
なかった（検出限界的１０ ｐｐｂ、この時点でのＰＨ
１吸着量は３．８１ｎ９ＰＨｖ／７吸着剤）。更にこの
精製ＳｉＨ，を用（・てエピタキシャル膜を作成し、そ
の比抵抗を測定したところ１ｏｏｓＱ儒であった。
用いたのと同一の亜鉛交換したモレキーラーシーブス−
３Ａ３２ｓ４を充填させた。吸着管の温度を−５℃に設
定した後、上記の合成した５ｉ２Ｈ，ガスを流量３ Ｑ
ｍ１７’ ｍｉｎ Ｘ速度（線速１．０ｃＩｒＬ／
ｓｅｅ、接触時間１．６７ｍ１ｎ）で流通させ、精製後
のＳｉ２Ｈ６をドライアイス温度で冷却したシリンダー
中に捕集した。流通開始４９５時間後、流通を停止し、
捕集ガス中のＰＨ３量をＦＰＤを検出器とするガスクロ
マトグラフィーにより分析したところＰＨ，は検出され
なかった（検出限界的１０ ｐｐｂ、この時点でのＰＨ
１吸着量は３．８１ｎ９ＰＨｖ／７吸着剤）。更にこの
精製ＳｉＨ，を用（・てエピタキシャル膜を作成し、そ
の比抵抗を測定したところ１ｏｏｓＱ儒であった。
〈比較例１〉
吸着剤にイオン交換しないモレキュラーシーブス−３Ａ
を用いた以外は、実施例１と同様に実験を行なった。
を用いた以外は、実施例１と同様に実験を行なった。
この場合における吸着容量は第１表に示したように極め
て小さく、ＰＨ，の吸着は殆ど認められなかった。
て小さく、ＰＨ，の吸着は殆ど認められなかった。
第１表
発明の効果
本発明の方法における吸着剤によれば、５ｉ２Ｈ。
により吸着阻害されることなく、ＰＨ８を選択的に吸着
除去できる。本発が対象とするごときＳｉ２Ｈ６中のＰ
Ｈ３の吸着除去方法は本発明によって初めて提案された
ものである。
除去できる。本発が対象とするごときＳｉ２Ｈ６中のＰ
Ｈ３の吸着除去方法は本発明によって初めて提案された
ものである。
第１図は吸着管出口ガス中のＰＨ，濃度とＰＨ，吸着量
の関係を示すグラフである。
の関係を示すグラフである。
Claims (2)
- （１）ホスフィンを含有するジシランを、３Ａ型合成ゼ
オライトの交換可能な陽イオンの一部又は全部を２価の
陽イオンで交換したもの吸着剤で処理することを特徴と
するジシランの精製方法。 - （２）２価の陽イオンがマンガンイオン、カルシウムイ
オン、マグネシウムイオンあるいは亜鉛イオンである特
許請求の範囲第１項に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5132886A JPH0692246B2 (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | ジシランの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5132886A JPH0692246B2 (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | ジシランの精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6325210A true JPS6325210A (ja) | 1988-02-02 |
| JPH0692246B2 JPH0692246B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=12883852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5132886A Expired - Lifetime JPH0692246B2 (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | ジシランの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0692246B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4964889A (en) * | 1989-12-04 | 1990-10-23 | Uop | Selective adsorption on magnesium-containing clinoptilolites |
| US5089244A (en) * | 1989-09-22 | 1992-02-18 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Process for preparing disilane by using molecular sieves |
| CN116534863A (zh) * | 2023-04-07 | 2023-08-04 | 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司 | 一种高效获得硅烷和乙硅烷的纯化方法、装置及应用 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MX2008014783A (es) | 2008-02-05 | 2009-08-27 | Krueger Int Inc | Armazon para silla con soporte hueco ergonomico integral. |
-
1986
- 1986-03-11 JP JP5132886A patent/JPH0692246B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5089244A (en) * | 1989-09-22 | 1992-02-18 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Process for preparing disilane by using molecular sieves |
| US4964889A (en) * | 1989-12-04 | 1990-10-23 | Uop | Selective adsorption on magnesium-containing clinoptilolites |
| CN116534863A (zh) * | 2023-04-07 | 2023-08-04 | 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司 | 一种高效获得硅烷和乙硅烷的纯化方法、装置及应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0692246B2 (ja) | 1994-11-16 |
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