JPS63147815A - ジシランの精製方法 - Google Patents

ジシランの精製方法

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JPS63147815A
JPS63147815A JP29338986A JP29338986A JPS63147815A JP S63147815 A JPS63147815 A JP S63147815A JP 29338986 A JP29338986 A JP 29338986A JP 29338986 A JP29338986 A JP 29338986A JP S63147815 A JPS63147815 A JP S63147815A
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disilane
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Masayoshi Ito
正義 伊藤
Hiroji Miyagawa
博治 宮川
Toshihiro Abe
智弘 安部
Keiichi Ikeda
圭一 池田
Masami Murakami
雅美 村上
Noriyuki Yanagawa
紀行 柳川
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 及青光互 本発明は、ジシラン(SiJa)中に微量含まれるホス
フィン(PHs)を除去し、ジシランを精製する方法に
関する。
λ1茨五 近年エレクトロニクス工業の発展に伴い、多結晶シリコ
ンあるいはアモルファスシリコン等の半導体用シリコン
の需要が2激に増大している。
5izHbは、モノシラン(Sin、)とともにがかる
半導体用シリコンの新しい製造用原料として最近特に脚
光を浴びており、今後の需要増加が期待されている。
5iJ4の製造方法としては、以下に例示するようにい
くつかの方法が知られているが、いずれの方法を採用す
るにせよ通常合成されたジンランガス中には微量のPH
3が含まれる。特に■、■にょる方法で製造した水素化
ケイ素中には、■ MgzSi + 4HCF!□→ in HzOor Si(OCzlls)nMgC1z
 + 1/nsi、lHz、、−z +(1(1/n)
)tlzin liq NJ +  4NH2+ 1/n5ilIHz、、、z +(
1−(1/n))Hz■  SizCjlw  +  
3/2  LiAj2H,□→:n  ether 3/2 LiCf l/2Aj2Cf、 + Si、H
濃度百ppm G後のPH,が含有される。半導体ガス
として使用される水素化ケイ素中における不純物として
のPH,の影客は大きく、通常その含有量を10−9以
下(ppb以下)にする必要がある。
l米狡丘 5itHi(b9 15℃)中におけるPI(s(bp
  88°C)の蒸留分離には限界があり、蒸留により
Plhの含有量を101以下にすることは実質的に不可
能である。
従来吸着剤を用いて水素化ケイ素中のPH3を除去する
方法としては、5it(aについては数多く知られてい
るが、5tdLについては殆ど報告されていない。
すなわち5tHaについては、例えばSiH<を殆ど吸
着しない均一細孔径を有するゼオライト中の交換可能な
陽イオンを2価の陽イオンに交換したもの(特公昭48
−4143’l 、4B−41439)、合成ゼオライ
)4A中のナトリウムイオンを2価の陽イオン、あるい
は根イオンに交換したもの(特開B!4B−75475
、特開昭59−30711)、活性炭および合成ゼオラ
イト−4Aを併用するもの(特開昭58−69715.
58−172220) 、水素吸蔵用金属材料または金
属水素化物を使用するもの(特開昭58−120511
)などの方法が報告されている。
一方、5iJaについては、本出願人による特開昭58
−172220に活性炭および合成ゼオライトで処理す
る方法が提案されているが、この方法によれば副生ハロ
ゲン化ケイ素化合物や低フッ点脂肪族炭化水素が除去さ
れるだけである。 5ilf!、とPHiの混合ガスの
分離を吸着法により行おうとする場合、この両者間では
、被吸着物質となるべきPusの方がStJ*より低沸
点であるため、温度的にはSi J&中のMbの除去は
5iHaの場合に比べるとかなり困難と予想される。す
なわち5iHa、5izHa、P)13の沸点はそれぞ
れ −112“C%  −14,5°C,−87゛Cで
あり、5iJaの吸着が優先され、原理的に吸着剤によ
る5izHs中のPH,は、PH2がより高沸点成分で
あるため吸着除去が比較的容易であるが、5iJi中の
PHxの場合には、この温度関係が逆となり、PH2よ
りSigH,の吸着が優先する。従ってPH,の選択的
吸着は困難であると考えられていた、また更にこれらの
分子の分子径がほぼ同じであるためPH2の吸着分離を
困難とされていた。
本発明者らは、これらの従来の予想に反し5iJi中の
PH3を選択的に除去できる新規な吸着剤の開発を鋭意
検討した結果、本発明に到達した。
すなわち本発明は、5iJ4が殆ど極性を有しないのに
PH,がごくわずかに極性(塩基性)を有することに着
目し、極性(酸性)の強い吸着剤を用いることによりP
lhの吸着エネルギーを大きくし、5iJb中のPHz
を選択的に吸着しようとしたものである。
工yしと」旨 すなわち、本発明は、ホスフィンを含有するジシランを
、4A型合成ゼオライトの交換可能な陽イオンの一部又
は全部を2価の陽イオンで交換したもので処理すること
を特徴とするジシランの精製方法に存する。
又ユ互圧亘鼠M丞 以下、本発明の詳細な説明する。
本発明において用いられる吸着剤とは、4A型合成ゼオ
ライトの交換可能な陽イオンの一部又は全部を2価の陽
イオンで交換したものである。該4A型合成ゼオライト
は、初め米国Linde社から[リンデモレキュラーシ
ープス」の商標により市販されたものであり、その組成
式が、Na+2 ((AIOi)+□(SiOz)+z
)  ・27ozoで表わされる4A型ゼオライトであ
り通常の市販されているものを用い得る。またその有効
細孔径は約4人である。本発明にいう2価の陽イオンは
、周期律表第(I[)族の元素イオン、例えばマグネシ
ウム、カルシウム、ストロンチウム、亜鉛、カドミウム
;周期律表第(■)族の元素イオン、例えば鉄、コバル
ト、ニッケル;およびその他の族の元素イオン、例えば
マンガン、鉛、スズ等である。これらのうち、特にマン
ガン、カルシウム、亜鉛、鉛の各イオンが好ましい。
本発明における陽イオンの交換方法には特に制限はなく
、例えば上記した2価の陽イオンとなる金属の塩酸塩、
硝酸塩等の水溶性の塩の水溶液に、4A型ゼオライトを
単に浸漬する等の一般的な方法によって行い得る。交換
率は20乃至100%、好ましくは40乃至90%であ
る。また使用前に行う賦活は通常200乃至500’C
の範囲にて、減圧下及び不活性ガス中で行われる。
本発明における5iJ6の吸着剤による精製処理は、減
圧下でも加圧下でも行うことができ、かつ5iJ6は気
相でも液相でも良いが、好ましくは気相で行うのが望ま
しい。また吸着処理の温度には特に制限はないが、好ま
しくは−50乃至50℃である。この範囲より低温だと
SiJ*(b9 −14.5°C)の凝縮により、PH
tの吸着速度が減少し好ましくなく、この範囲より高温
だとPH3の吸着容量が小さくなるため好ましくない。
もちろん他の吸着剤と併用することも可能である。また
5iJi中にPtb以外のガス(例えば、水素、窒素、
稀ガス、メタン、シラン等)を含んでも構わない。
以下、本発明を実施例によって説明する。
〈実施例1〉 モレキュラーシープ−4A (西尾工業社製、30乃至
60メツシユ)50gを、Mn(NOz)z 191g
を溶解させた水溶液21中に2日間浸漬させた。その後
濾過、洗°浄を行い、得られたゼオライトを空気中40
0°Cにて一時間焼成した。化学分析結果によれば、マ
ンガンイオンでの交換率は70%であった。
内径3mm、長さ42mmの吸着管に、1証ゼオライト
0.25gを充填した。400 ’Cにてヘリウム中1
時間、更に減圧下(0,2mmHg)にて2時間処理し
た後、吸着管の温度を−5”Cとし、PHjを120p
pm含むSiJ、と)I2の混合ガス(SiJ、35v
olχ、11265vo Iりを流速115m1/wi
nの速度で流通させ5iJhの精製を行った。
結果を第1図に示す。第1図より、該吸着剤の吸着容量
(吸着管出口のPH3濃度が10ρpbとなる点、以下
同じ)は約5mgPH3/g吸着剤であることがわかっ
た。なお、出口ガス中のPHz 濃度はFP[lを検出
器とするガスクロマトグラフィーにより分析した。
〈実施例2乃至5〉 実施例1で用いたモレキュラーシーブ−4A50gを、
それぞれZnCf z93g、  MgCj! z65
g、  CaCj2228g 、  CoCj! z4
0gを熔解させた稀薄塩酸水溶液21中に2日間浸漬さ
せた。その後、濾過、洗浄を行い、得られた各ゼオライ
トを空気中400’Cにて一時間焼成した。化学分析結
果によれば、各イオンでの交換率はそれぞれ71%、5
2%、46%、43%であった。
これらのゼオライトを用い、実施例1と同様に実験を行
った。
これらの場合における吸着容量は、それぞれ第1表に示
すとおりであった。
〈実施例6.7〉 実施例2において、ZnCQ□の使用量を46gあるい
は104gとし、それぞれ陽イオン交換率が、59%、
87%のゼオライトを得た。
このゼオライトを吸着剤に用いて、実施例2と同様に実
験を行った。
結果を第1表に示す。
〈実施例8.9〉 実施例2において、吸着温度壱−10°Cl2O°Cと
した以外は実施例1と同様に実験を行った。
結果を第1表に示す。
〈実施例10〉 内径6mm、長さ100mmの吸着管に実施例2で用い
たのと同一の亜鉛交換したゼオライト1.8gを充填し
た。吸着管の温度を0″c、吸着管内の圧力を5.3K
g/c+fl absとし、PI(、lをt2oppm
含むSiJ。
の精製を液相にて行った@5lzHbの供給速度は、0
.2g/minであった。
この場合における吸着容量は第1表に示すとおりであっ
た。
〈実施例11> ケイ化マグネシウム(MgzSi)を濃度20w t%
の塩酸水溶液と反応させることにより、PH39(lp
pm、5iH477%、5iJ623%のl捏合ガスを
得た。このぜ捏合ガスを−20乃至50″C27気圧の
条件で50段の茎留塔を用いて蒸留し、PH3llpp
mを含む5izHbを得た。
内径8mm、長さ1000mmの吸着管に実施例2で用
いたのと同一の亜鉛交換したモレキュラーシーブス−4
A 32gを充填させた。吸着管の温度を一5°Cに設
定した後、上記の合成した5iJaガスを流fJ 30
m1/min X速度(線速1.0cm/sec、接触
時間1.67m1n)で流通させ、精製後の5ites
をドライアイス温度で冷却したシリンダー中に捕集した
流通開始495時間後、流通を停止し、捕集ガス中のP
)+3をFP[lを検出器とするガスクロマトグラフィ
ーにより分析したところPH3は検出されなかった(検
出限界約10ppb 、この時点でのPH3吸着量は6
.5mgPH1/g吸着剤)、更にこの精製SiH4を
用いてエピタキシャル膜を作成し、その比抵抗を測定し
たところ1105Ωcmであった。
〈比較例1〉 吸着側にイオン交換しないモレキュラーシーブス−4A
を用いた以外は、実施例1と同様に実験を行った。
この場合における吸着容量は第1表に示したように極め
て小さく、PHsの吸着は殆ど認められなかった。
第1表 発y目と1隈 本発明の方法における吸着側によれば、5iJiにより
吸着阻害されることなく、PHzを選択的に吸着除去で
きる。零発が対象とするごとき5izHth中のPH3
の吸着除去方法は本発明によって初めて提案されたもの
である。
【図面の簡単な説明】
第1図は吸着管出口ガス中のPH3a度とP)li吸着
量の関係を示すグラフである。 埼許出願人 三井東圧化学株式会社

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ホスフィンを含有するジシランを、4A型合成ゼ
    オライトの交換可能な陽イオンの一部または全部を2価
    の陽イオンで交換したもので処理することを特徴とする
    ジシランの精製方法。
  2. (2)2価の陽イオンがマンガンイオンあるいは亜鉛イ
    オンである特許請求の範囲第1項記載の方法。
JP29338986A 1986-12-11 1986-12-11 ジシランの精製方法 Expired - Lifetime JPH0753571B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5089244A (en) * 1989-09-22 1992-02-18 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Process for preparing disilane by using molecular sieves

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5089244A (en) * 1989-09-22 1992-02-18 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Process for preparing disilane by using molecular sieves

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