JPS6221115A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS6221115A JPS6221115A JP60160091A JP16009185A JPS6221115A JP S6221115 A JPS6221115 A JP S6221115A JP 60160091 A JP60160091 A JP 60160091A JP 16009185 A JP16009185 A JP 16009185A JP S6221115 A JPS6221115 A JP S6221115A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- mirror part
- exposure
- mirror
- dmd
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C41/00—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
- B29C41/24—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length
- B29C41/28—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length by depositing flowable material on an endless belt
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発151は、例えば1版下作製装置等における露光
装置に関するものである。
装置に関するものである。
従来のこの種の!jc置は、X軸方向とX軸方向に移動
可能なアーム上に、電気信号によりON、OFFされる
ランプ、LED等の光源を設け、この光源の光をシート
状感光フィルム上にレンズで収光し、CAD等により作
製された回路パターン等をプロットするものである。
可能なアーム上に、電気信号によりON、OFFされる
ランプ、LED等の光源を設け、この光源の光をシート
状感光フィルム上にレンズで収光し、CAD等により作
製された回路パターン等をプロットするものである。
ところが、従来の装置では、光源にランプあるいはLE
D等を用い、これらの光をレンズで収光しているので、
スポット露光となり、したがって線幅や回路パターンを
変更する場合には、レンズ位置の移動やマスキング等の
操作が必要であった。しかし、そのような機械的操作で
は煩雑で手間がか覧るし、露光精度も一定以上期待でき
なかった。また、そのような操作を機械的機構で行える
ようにするとしても、その機構が複雑なものとなり精度
に限界があるので、回路パターンや線幅の変更に対応し
て露光精度を一定以上あげることができなかった。
D等を用い、これらの光をレンズで収光しているので、
スポット露光となり、したがって線幅や回路パターンを
変更する場合には、レンズ位置の移動やマスキング等の
操作が必要であった。しかし、そのような機械的操作で
は煩雑で手間がか覧るし、露光精度も一定以上期待でき
なかった。また、そのような操作を機械的機構で行える
ようにするとしても、その機構が複雑なものとなり精度
に限界があるので、回路パターンや線幅の変更に対応し
て露光精度を一定以上あげることができなかった。
また、CAD等により作製された回路パターン等をプロ
ットするので、露光の高速化が困難であった。
ットするので、露光の高速化が困難であった。
この発明は、このような従来の問題点を解決するために
なされたもので、パターンや線幅の変更に対応して、そ
れらの露光精度や露光速度をあげることのできる露光装
置を提供することを目的とする。
なされたもので、パターンや線幅の変更に対応して、そ
れらの露光精度や露光速度をあげることのできる露光装
置を提供することを目的とする。
第1図はこの発明の実施例である版下作製装置を示す。
図において、1はガイド枠、2はガイド枠lにガイドさ
れてX軸方向に移動可能なアーム、3はアーム2にガイ
ドされてy軸方向に移動可能な露光部、4は被感光体と
してのシート状感光フィルムである。第2図は上記露光
部3の構成を示し、5はDMD (Deformabl
e Mirror Deviceテ、IEE Tr
ansaction on Electron Dev
ice Vol、E[+−3ONo、 5544(1
983)に記述されているものである。)、6は光源、
7は光学系レンズ、8は遮光部である。同図において、
光源6より発せられた光はDMD5で反射され、DMD
の後述する各ミラ一部23の状態により、書き込み時に
は、Aのパスを通ってレンズ7により感光フィルム4上
に収光されて書き込みが行われ、非書き込み時には、B
のパスを通り、遮光部8に遮られて書き込みは行われな
い。
れてX軸方向に移動可能なアーム、3はアーム2にガイ
ドされてy軸方向に移動可能な露光部、4は被感光体と
してのシート状感光フィルムである。第2図は上記露光
部3の構成を示し、5はDMD (Deformabl
e Mirror Deviceテ、IEE Tr
ansaction on Electron Dev
ice Vol、E[+−3ONo、 5544(1
983)に記述されているものである。)、6は光源、
7は光学系レンズ、8は遮光部である。同図において、
光源6より発せられた光はDMD5で反射され、DMD
の後述する各ミラ一部23の状態により、書き込み時に
は、Aのパスを通ってレンズ7により感光フィルム4上
に収光されて書き込みが行われ、非書き込み時には、B
のパスを通り、遮光部8に遮られて書き込みは行われな
い。
第3図(a)は上記DMD5の断面図を示す、11はミ
ラーでA見、Ag等で製造され入射光の反射機能を有す
る。12はミラー11を支持する基板でAuなどで作ら
れている。13.14はミラー11.基板12の支持部
材で、前者13はミラーコンタクトと呼ばれ、特に電気
機械動作をする後述のひんじ部24を支持するものであ
り、後者14はポリオキサイドシリカからなる絶縁部材
である。15はポリシリコンゲートでMO35FETの
ゲートの役割を有する。16はエアギャップで、0.6
鉢〜kgの空どうである。17はフローティジグ・フィ
ールドプレートで、N+フローティングンース18から
トランジスターのON、OFF情報により電圧がか−る
。19はN+ドレインで、これもMO5型FETのゲー
トの役割をする。20はゲートオキサイド、21はP型
シリコン基板である。
ラーでA見、Ag等で製造され入射光の反射機能を有す
る。12はミラー11を支持する基板でAuなどで作ら
れている。13.14はミラー11.基板12の支持部
材で、前者13はミラーコンタクトと呼ばれ、特に電気
機械動作をする後述のひんじ部24を支持するものであ
り、後者14はポリオキサイドシリカからなる絶縁部材
である。15はポリシリコンゲートでMO35FETの
ゲートの役割を有する。16はエアギャップで、0.6
鉢〜kgの空どうである。17はフローティジグ・フィ
ールドプレートで、N+フローティングンース18から
トランジスターのON、OFF情報により電圧がか−る
。19はN+ドレインで、これもMO5型FETのゲー
トの役割をする。20はゲートオキサイド、21はP型
シリコン基板である。
第3図(b)は第3図(a)の矢符A方向からみた平面
図で、22はエアー空隙、23はこのエアー空隙22に
よって区画され、後述するひんし部24で電気機械的に
揺動するミラ一部、24はそのミラ一部23のひんし部
である。
図で、22はエアー空隙、23はこのエアー空隙22に
よって区画され、後述するひんし部24で電気機械的に
揺動するミラ一部、24はそのミラ一部23のひんし部
である。
第3図(C)は同図(a) 、 (b)の電気的等価
図を示す。VMはミラ一部23にか−る電圧を示す。
図を示す。VMはミラ一部23にか−る電圧を示す。
VrlfN+フローティングソース18にかkる電圧を
示す。25はMO5型FETを示しており、N+ドレイ
ン19のD(ドレイン)信号、ポリシリコンゲート15
のG(ゲート)信号のON、OFFにより電圧VFがN
+フローティングソース18にON 、OFFされる。
示す。25はMO5型FETを示しており、N+ドレイ
ン19のD(ドレイン)信号、ポリシリコンゲート15
のG(ゲート)信号のON、OFFにより電圧VFがN
+フローティングソース18にON 、OFFされる。
この時ミラ一部23に電圧vMがか−っており、ミラ一
部23とN+フローティングソース18との間の電位差
がON、OFF信号により増減されることになる。この
電位差に応じてN+アフロィングソース18とミラ一部
23との間につぎの式に応じた力Fが生じ。
部23とN+フローティングソース18との間の電位差
がON、OFF信号により増減されることになる。この
電位差に応じてN+アフロィングソース18とミラ一部
23との間につぎの式に応じた力Fが生じ。
F KV (K:定数 V:電位差α:定数
F:曲げ力 ミラ一部23はひんじ部24で揺動する。
F:曲げ力 ミラ一部23はひんじ部24で揺動する。
第3図(a)の左図はミラ一部23とN+フローティン
グソース18との間に電位差が大きい場合で、ミラ一部
23はひんじ部24から折れ曲がり、この作用のため入
射光はミラ一部23のふれ角の2倍だけ角度をかえて反
射される。
グソース18との間に電位差が大きい場合で、ミラ一部
23はひんじ部24から折れ曲がり、この作用のため入
射光はミラ一部23のふれ角の2倍だけ角度をかえて反
射される。
一方、電位差が少ない場合は、第3図(a)の右図に示
すように、ミラ一部23はフローティング−フィールド
プレート17によりひっばられる力が少なく湾曲されな
い。従って入射光はミラ一部23がふれない状態で反射
されることとなる。上記DMD5は、第4図に示すよう
に、アレイ状に通常藪十個から数十個配列される。この
ように。
すように、ミラ一部23はフローティング−フィールド
プレート17によりひっばられる力が少なく湾曲されな
い。従って入射光はミラ一部23がふれない状態で反射
されることとなる。上記DMD5は、第4図に示すよう
に、アレイ状に通常藪十個から数十個配列される。この
ように。
DMDは電気的ON 、OFFをミラ一部23の揺動の
ON、OFFに変換し、さらに光のふれ角に変換するも
のである。
ON、OFFに変換し、さらに光のふれ角に変換するも
のである。
第5図は、この発明の実施例をブロック図で示したもの
である。
である。
図において、31はCAD等により作製された回路パタ
ーン情報の受けとり等を行うI10ポート、32はデー
タの制御や各部制御を受は持つマイクロコンピュータ、
33.34はRAMおよびROM、35は後述する各ド
ライバ36.37゜38と信号のやりとりを行う拡張ポ
ート、36伏光源6のON、OFFを行うランプドライ
バ、37はマイクロコンピュータ32から与えられたデ
ータに従いDMD5を駆動するDMDドライバ、38は
アーム2および露光部3をx、y軸に移動させるパルス
モータドライバ、39.40はパルスモータである。
ーン情報の受けとり等を行うI10ポート、32はデー
タの制御や各部制御を受は持つマイクロコンピュータ、
33.34はRAMおよびROM、35は後述する各ド
ライバ36.37゜38と信号のやりとりを行う拡張ポ
ート、36伏光源6のON、OFFを行うランプドライ
バ、37はマイクロコンピュータ32から与えられたデ
ータに従いDMD5を駆動するDMDドライバ、38は
アーム2および露光部3をx、y軸に移動させるパルス
モータドライバ、39.40はパルスモータである。
第5図のDMDドライバ37には第6図に示す回路が通
常用いられる。51はIN PUT信号入力増幅器で、
2価値号の場合はON、OFF、またアナログ信号の場
合はその量に応じた電圧が出力される。信号はシリーズ
につながって通常入力されるのでシリパラ変換器52で
DMD5のミラ一部23の数に応じたパラレル信号に変
換されレジスタ53にたくわえられる。その信号を同期
信号により1列分同時に読み出し、増幅器54を経て、
2列のDMD5.5のドレインに所定の電圧信号がかけ
られる。一方、デコーダー55により該同期信号に応じ
て、ゲート信号をDMD5.5に与える。このドレイン
信号の量、または有無および列毎のゲート信号の有無に
よってDMD5.5のフローティングソースの電圧がフ
ローティングフィールドプレート17に伝えられ、ミラ
一部23の揺動のON 、OFFの選択が行われる。
常用いられる。51はIN PUT信号入力増幅器で、
2価値号の場合はON、OFF、またアナログ信号の場
合はその量に応じた電圧が出力される。信号はシリーズ
につながって通常入力されるのでシリパラ変換器52で
DMD5のミラ一部23の数に応じたパラレル信号に変
換されレジスタ53にたくわえられる。その信号を同期
信号により1列分同時に読み出し、増幅器54を経て、
2列のDMD5.5のドレインに所定の電圧信号がかけ
られる。一方、デコーダー55により該同期信号に応じ
て、ゲート信号をDMD5.5に与える。このドレイン
信号の量、または有無および列毎のゲート信号の有無に
よってDMD5.5のフローティングソースの電圧がフ
ローティングフィールドプレート17に伝えられ、ミラ
一部23の揺動のON 、OFFの選択が行われる。
このような構成となっているから、まず、CAD等によ
り数値化されたデータは、I10ボート31を通ってマ
イクロコンピュータ32に伝えられ、必要な演算処理が
なされる。このデータに従い、パルスモータ39.40
によりアーム2と露光部3の位置が選択され、これに同
期して、光源6及び、DMD5が駆動される。すると、
DMD5のミラ一部23が揺動して、その反射光が光学
系7へ導かれ、感光フィルム4上に回路パターンが露光
される。
り数値化されたデータは、I10ボート31を通ってマ
イクロコンピュータ32に伝えられ、必要な演算処理が
なされる。このデータに従い、パルスモータ39.40
によりアーム2と露光部3の位置が選択され、これに同
期して、光源6及び、DMD5が駆動される。すると、
DMD5のミラ一部23が揺動して、その反射光が光学
系7へ導かれ、感光フィルム4上に回路パターンが露光
される。
上述のように、上記実施例においては、回路パターンの
画像信号によって揺動する多数のミラ一部23を有する
DMD 5を多数使用しているので、これらの素子5を
それぞれ制御することによって微細な回路パターンや任
意の回路パターンに対応して精度よく露光できる。また
、DMD5はアレイ状に多数配列されているので、従来
のスポット露光と異なり、長い範囲にわたって一度に露
光できる。したがって、露光速度をあげることができる
。
画像信号によって揺動する多数のミラ一部23を有する
DMD 5を多数使用しているので、これらの素子5を
それぞれ制御することによって微細な回路パターンや任
意の回路パターンに対応して精度よく露光できる。また
、DMD5はアレイ状に多数配列されているので、従来
のスポット露光と異なり、長い範囲にわたって一度に露
光できる。したがって、露光速度をあげることができる
。
なお、上記実施例における光源は1点光源でも線光源で
もよい。点光源を用いる場合は、光源からDMDのパス
の中にレンズ等を入れ、各DMDを均一に照明するよう
にすれば、より精度を上げることができる、線光源の場
合も同様である。光源は、白色光のようなランダムな波
長の光でもよく、フィルム感度に適合させた単色光でも
よい。
もよい。点光源を用いる場合は、光源からDMDのパス
の中にレンズ等を入れ、各DMDを均一に照明するよう
にすれば、より精度を上げることができる、線光源の場
合も同様である。光源は、白色光のようなランダムな波
長の光でもよく、フィルム感度に適合させた単色光でも
よい。
また収光レンズの焦点距離を可変にするようにすれば、
拡大、縮小または各パターンのサイズに合せた書き込み
を行なうことができ、より多様なパターニングが行える
。
拡大、縮小または各パターンのサイズに合せた書き込み
を行なうことができ、より多様なパターニングが行える
。
上記実施例においては、感光フィルム4を固定し、アー
ム2と、アームに取り付けられた露光部3とを移動させ
てポジシミニングを行ったが、逆に、露光部3を固定し
、感光フィルム4の方を移動させてもよい。また、露光
部3と感光フィルム4を各々異なる方向に移動させるこ
とで、装置のコンパクト化が図れる。この場合、感光フ
ィルム4はシート状に限らず、ロールフィルムでもよい
。
ム2と、アームに取り付けられた露光部3とを移動させ
てポジシミニングを行ったが、逆に、露光部3を固定し
、感光フィルム4の方を移動させてもよい。また、露光
部3と感光フィルム4を各々異なる方向に移動させるこ
とで、装置のコンパクト化が図れる。この場合、感光フ
ィルム4はシート状に限らず、ロールフィルムでもよい
。
さらに、上記実施例では感光フィルム4を用い版下作製
を行ったが、少量生産の場合には、感光材料(レジスト
)を塗布した基板に直接書き込みを行ってもよい。
を行ったが、少量生産の場合には、感光材料(レジスト
)を塗布した基板に直接書き込みを行ってもよい。
以上説明したように、この発明によれば、パターンの映
像信号で多数のミラーが揺動する電気機械変換素子を露
光に用いるようにしたから、パターンや線幅の変更に対
応してそれらの露光精度や露光速度を向上させることが
できる。
像信号で多数のミラーが揺動する電気機械変換素子を露
光に用いるようにしたから、パターンや線幅の変更に対
応してそれらの露光精度や露光速度を向上させることが
できる。
第1図はこの発明の実施例である版下作製装置の要部斜
視図、第2図は第1図の露光部の構成図、第3図は第2
図におけるDMDを示し、同図(a)はその断面図、同
図(b)はその平面図、同図(C)は同(a)、(b)
の電気的等価図、第4図は第2図におけるDMDの7レ
イ概念図、第5図はこの発明の実施例の構成図、第6図
は第5図におけるDMD駆動回路図である。 図中14は感光フィルム、5はDMD、6は光源、7は
光学系(レンズ)、23はミラ一部、37はDMDドラ
イバである。 第4図 箪5図
視図、第2図は第1図の露光部の構成図、第3図は第2
図におけるDMDを示し、同図(a)はその断面図、同
図(b)はその平面図、同図(C)は同(a)、(b)
の電気的等価図、第4図は第2図におけるDMDの7レ
イ概念図、第5図はこの発明の実施例の構成図、第6図
は第5図におけるDMD駆動回路図である。 図中14は感光フィルム、5はDMD、6は光源、7は
光学系(レンズ)、23はミラ一部、37はDMDドラ
イバである。 第4図 箪5図
Claims (1)
- パターンの画像信号によって揺動されてその反射光の
光路を変換する多数のミラーを有する電気機械変換素子
を備えた露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60160091A JPS6221115A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60160091A JPS6221115A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6221115A true JPS6221115A (ja) | 1987-01-29 |
Family
ID=15707659
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60160091A Pending JPS6221115A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6221115A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5061049A (en) * | 1984-08-31 | 1991-10-29 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US5469302A (en) * | 1993-05-21 | 1995-11-21 | Daewoo Electronics Co., Ltd. | Electrostrictive mirror actuator for use in optical projection system |
JP2013048258A (ja) * | 2005-03-30 | 2013-03-07 | Asml Netherlands Bv | データフィルタ処理を利用したリソグラフィ装置及びデバイス製造法 |
-
1985
- 1985-07-22 JP JP60160091A patent/JPS6221115A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5061049A (en) * | 1984-08-31 | 1991-10-29 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US5469302A (en) * | 1993-05-21 | 1995-11-21 | Daewoo Electronics Co., Ltd. | Electrostrictive mirror actuator for use in optical projection system |
JP2013048258A (ja) * | 2005-03-30 | 2013-03-07 | Asml Netherlands Bv | データフィルタ処理を利用したリソグラフィ装置及びデバイス製造法 |
US9846368B2 (en) | 2005-03-30 | 2017-12-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering |
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