JPS6221115A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS6221115A JPS6221115A JP60160091A JP16009185A JPS6221115A JP S6221115 A JPS6221115 A JP S6221115A JP 60160091 A JP60160091 A JP 60160091A JP 16009185 A JP16009185 A JP 16009185A JP S6221115 A JPS6221115 A JP S6221115A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- mirror part
- exposure
- mirror
- dmd
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C41/00—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
- B29C41/24—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length
- B29C41/28—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length by depositing flowable material on an endless belt
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発１５１は、例えば１版下作製装置等における露光
装置に関するものである。
装置に関するものである。
従来のこの種の！ｊｃ置は、Ｘ軸方向とＸ軸方向に移動
可能なアーム上に、電気信号によりＯＮ、ＯＦＦされる
ランプ、ＬＥＤ等の光源を設け、この光源の光をシート
状感光フィルム上にレンズで収光し、ＣＡＤ等により作
製された回路パターン等をプロットするものである。
可能なアーム上に、電気信号によりＯＮ、ＯＦＦされる
ランプ、ＬＥＤ等の光源を設け、この光源の光をシート
状感光フィルム上にレンズで収光し、ＣＡＤ等により作
製された回路パターン等をプロットするものである。
ところが、従来の装置では、光源にランプあるいはＬＥ
Ｄ等を用い、これらの光をレンズで収光しているので、
スポット露光となり、したがって線幅や回路パターンを
変更する場合には、レンズ位置の移動やマスキング等の
操作が必要であった。しかし、そのような機械的操作で
は煩雑で手間がか覧るし、露光精度も一定以上期待でき
なかった。また、そのような操作を機械的機構で行える
ようにするとしても、その機構が複雑なものとなり精度
に限界があるので、回路パターンや線幅の変更に対応し
て露光精度を一定以上あげることができなかった。
Ｄ等を用い、これらの光をレンズで収光しているので、
スポット露光となり、したがって線幅や回路パターンを
変更する場合には、レンズ位置の移動やマスキング等の
操作が必要であった。しかし、そのような機械的操作で
は煩雑で手間がか覧るし、露光精度も一定以上期待でき
なかった。また、そのような操作を機械的機構で行える
ようにするとしても、その機構が複雑なものとなり精度
に限界があるので、回路パターンや線幅の変更に対応し
て露光精度を一定以上あげることができなかった。
また、ＣＡＤ等により作製された回路パターン等をプロ
ットするので、露光の高速化が困難であった。
ットするので、露光の高速化が困難であった。
この発明は、このような従来の問題点を解決するために
なされたもので、パターンや線幅の変更に対応して、そ
れらの露光精度や露光速度をあげることのできる露光装
置を提供することを目的とする。
なされたもので、パターンや線幅の変更に対応して、そ
れらの露光精度や露光速度をあげることのできる露光装
置を提供することを目的とする。
第１図はこの発明の実施例である版下作製装置を示す。
図において、１はガイド枠、２はガイド枠ｌにガイドさ
れてＸ軸方向に移動可能なアーム、３はアーム２にガイ
ドされてｙ軸方向に移動可能な露光部、４は被感光体と
してのシート状感光フィルムである。第２図は上記露光
部３の構成を示し、５はＤＭＤ （Ｄｅｆｏｒｍａｂｌ
ｅ Ｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅテ、ＩＥＥ Ｔｒ
ａｎｓａｃｔｉｏｎ ｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｄｅｖ
ｉｃｅ Ｖｏｌ、Ｅ［＋−３ＯＮｏ、 ５５４４（１
９８３）に記述されているものである。）、６は光源、
７は光学系レンズ、８は遮光部である。同図において、
光源６より発せられた光はＤＭＤ５で反射され、ＤＭＤ
の後述する各ミラ一部２３の状態により、書き込み時に
は、Ａのパスを通ってレンズ７により感光フィルム４上
に収光されて書き込みが行われ、非書き込み時には、Ｂ
のパスを通り、遮光部８に遮られて書き込みは行われな
い。
れてＸ軸方向に移動可能なアーム、３はアーム２にガイ
ドされてｙ軸方向に移動可能な露光部、４は被感光体と
してのシート状感光フィルムである。第２図は上記露光
部３の構成を示し、５はＤＭＤ （Ｄｅｆｏｒｍａｂｌ
ｅ Ｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅテ、ＩＥＥ Ｔｒ
ａｎｓａｃｔｉｏｎ ｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｄｅｖ
ｉｃｅ Ｖｏｌ、Ｅ［＋−３ＯＮｏ、 ５５４４（１
９８３）に記述されているものである。）、６は光源、
７は光学系レンズ、８は遮光部である。同図において、
光源６より発せられた光はＤＭＤ５で反射され、ＤＭＤ
の後述する各ミラ一部２３の状態により、書き込み時に
は、Ａのパスを通ってレンズ７により感光フィルム４上
に収光されて書き込みが行われ、非書き込み時には、Ｂ
のパスを通り、遮光部８に遮られて書き込みは行われな
い。
第３図（ａ）は上記ＤＭＤ５の断面図を示す、１１はミ
ラーでＡ見、Ａｇ等で製造され入射光の反射機能を有す
る。１２はミラー１１を支持する基板でＡｕなどで作ら
れている。１３．１４はミラー１１．基板１２の支持部
材で、前者１３はミラーコンタクトと呼ばれ、特に電気
機械動作をする後述のひんじ部２４を支持するものであ
り、後者１４はポリオキサイドシリカからなる絶縁部材
である。１５はポリシリコンゲートでＭＯ３５ＦＥＴの
ゲートの役割を有する。１６はエアギャップで、０．６
鉢〜ｋｇの空どうである。１７はフローティジグ・フィ
ールドプレートで、Ｎ＋フローティングンース１８から
トランジスターのＯＮ、ＯＦＦ情報により電圧がか−る
。１９はＮ＋ドレインで、これもＭＯ５型ＦＥＴのゲー
トの役割をする。２０はゲートオキサイド、２１はＰ型
シリコン基板である。
ラーでＡ見、Ａｇ等で製造され入射光の反射機能を有す
る。１２はミラー１１を支持する基板でＡｕなどで作ら
れている。１３．１４はミラー１１．基板１２の支持部
材で、前者１３はミラーコンタクトと呼ばれ、特に電気
機械動作をする後述のひんじ部２４を支持するものであ
り、後者１４はポリオキサイドシリカからなる絶縁部材
である。１５はポリシリコンゲートでＭＯ３５ＦＥＴの
ゲートの役割を有する。１６はエアギャップで、０．６
鉢〜ｋｇの空どうである。１７はフローティジグ・フィ
ールドプレートで、Ｎ＋フローティングンース１８から
トランジスターのＯＮ、ＯＦＦ情報により電圧がか−る
。１９はＮ＋ドレインで、これもＭＯ５型ＦＥＴのゲー
トの役割をする。２０はゲートオキサイド、２１はＰ型
シリコン基板である。
第３図（ｂ）は第３図（ａ）の矢符Ａ方向からみた平面
図で、２２はエアー空隙、２３はこのエアー空隙２２に
よって区画され、後述するひんし部２４で電気機械的に
揺動するミラ一部、２４はそのミラ一部２３のひんし部
である。
図で、２２はエアー空隙、２３はこのエアー空隙２２に
よって区画され、後述するひんし部２４で電気機械的に
揺動するミラ一部、２４はそのミラ一部２３のひんし部
である。
第３図（Ｃ）は同図（ａ） 、 （ｂ）の電気的等価
図を示す。ＶＭはミラ一部２３にか−る電圧を示す。
図を示す。ＶＭはミラ一部２３にか−る電圧を示す。
ＶｒｌｆＮ＋フローティングソース１８にかｋる電圧を
示す。２５はＭＯ５型ＦＥＴを示しており、Ｎ＋ドレイ
ン１９のＤ（ドレイン）信号、ポリシリコンゲート１５
のＧ（ゲート）信号のＯＮ、ＯＦＦにより電圧ＶＦがＮ
＋フローティングソース１８にＯＮ 、ＯＦＦされる。
示す。２５はＭＯ５型ＦＥＴを示しており、Ｎ＋ドレイ
ン１９のＤ（ドレイン）信号、ポリシリコンゲート１５
のＧ（ゲート）信号のＯＮ、ＯＦＦにより電圧ＶＦがＮ
＋フローティングソース１８にＯＮ 、ＯＦＦされる。
この時ミラ一部２３に電圧ｖＭがか−っており、ミラ一
部２３とＮ＋フローティングソース１８との間の電位差
がＯＮ、ＯＦＦ信号により増減されることになる。この
電位差に応じてＮ＋アフロィングソース１８とミラ一部
２３との間につぎの式に応じた力Ｆが生じ。
部２３とＮ＋フローティングソース１８との間の電位差
がＯＮ、ＯＦＦ信号により増減されることになる。この
電位差に応じてＮ＋アフロィングソース１８とミラ一部
２３との間につぎの式に応じた力Ｆが生じ。
Ｆ ＫＶ （Ｋ：定数 Ｖ：電位差α：定数
Ｆ：曲げ力 ミラ一部２３はひんじ部２４で揺動する。
Ｆ：曲げ力 ミラ一部２３はひんじ部２４で揺動する。
第３図（ａ）の左図はミラ一部２３とＮ＋フローティン
グソース１８との間に電位差が大きい場合で、ミラ一部
２３はひんじ部２４から折れ曲がり、この作用のため入
射光はミラ一部２３のふれ角の２倍だけ角度をかえて反
射される。
グソース１８との間に電位差が大きい場合で、ミラ一部
２３はひんじ部２４から折れ曲がり、この作用のため入
射光はミラ一部２３のふれ角の２倍だけ角度をかえて反
射される。
一方、電位差が少ない場合は、第３図（ａ）の右図に示
すように、ミラ一部２３はフローティング−フィールド
プレート１７によりひっばられる力が少なく湾曲されな
い。従って入射光はミラ一部２３がふれない状態で反射
されることとなる。上記ＤＭＤ５は、第４図に示すよう
に、アレイ状に通常藪十個から数十個配列される。この
ように。
すように、ミラ一部２３はフローティング−フィールド
プレート１７によりひっばられる力が少なく湾曲されな
い。従って入射光はミラ一部２３がふれない状態で反射
されることとなる。上記ＤＭＤ５は、第４図に示すよう
に、アレイ状に通常藪十個から数十個配列される。この
ように。
ＤＭＤは電気的ＯＮ 、ＯＦＦをミラ一部２３の揺動の
ＯＮ、ＯＦＦに変換し、さらに光のふれ角に変換するも
のである。
ＯＮ、ＯＦＦに変換し、さらに光のふれ角に変換するも
のである。
第５図は、この発明の実施例をブロック図で示したもの
である。
である。
図において、３１はＣＡＤ等により作製された回路パタ
ーン情報の受けとり等を行うＩ１０ポート、３２はデー
タの制御や各部制御を受は持つマイクロコンピュータ、
３３．３４はＲＡＭおよびＲＯＭ、３５は後述する各ド
ライバ３６．３７゜３８と信号のやりとりを行う拡張ポ
ート、３６伏光源６のＯＮ、ＯＦＦを行うランプドライ
バ、３７はマイクロコンピュータ３２から与えられたデ
ータに従いＤＭＤ５を駆動するＤＭＤドライバ、３８は
アーム２および露光部３をｘ、ｙ軸に移動させるパルス
モータドライバ、３９．４０はパルスモータである。
ーン情報の受けとり等を行うＩ１０ポート、３２はデー
タの制御や各部制御を受は持つマイクロコンピュータ、
３３．３４はＲＡＭおよびＲＯＭ、３５は後述する各ド
ライバ３６．３７゜３８と信号のやりとりを行う拡張ポ
ート、３６伏光源６のＯＮ、ＯＦＦを行うランプドライ
バ、３７はマイクロコンピュータ３２から与えられたデ
ータに従いＤＭＤ５を駆動するＤＭＤドライバ、３８は
アーム２および露光部３をｘ、ｙ軸に移動させるパルス
モータドライバ、３９．４０はパルスモータである。
第５図のＤＭＤドライバ３７には第６図に示す回路が通
常用いられる。５１はＩＮ ＰＵＴ信号入力増幅器で、
２価値号の場合はＯＮ、ＯＦＦ、またアナログ信号の場
合はその量に応じた電圧が出力される。信号はシリーズ
につながって通常入力されるのでシリパラ変換器５２で
ＤＭＤ５のミラ一部２３の数に応じたパラレル信号に変
換されレジスタ５３にたくわえられる。その信号を同期
信号により１列分同時に読み出し、増幅器５４を経て、
２列のＤＭＤ５．５のドレインに所定の電圧信号がかけ
られる。一方、デコーダー５５により該同期信号に応じ
て、ゲート信号をＤＭＤ５．５に与える。このドレイン
信号の量、または有無および列毎のゲート信号の有無に
よってＤＭＤ５．５のフローティングソースの電圧がフ
ローティングフィールドプレート１７に伝えられ、ミラ
一部２３の揺動のＯＮ 、ＯＦＦの選択が行われる。
常用いられる。５１はＩＮ ＰＵＴ信号入力増幅器で、
２価値号の場合はＯＮ、ＯＦＦ、またアナログ信号の場
合はその量に応じた電圧が出力される。信号はシリーズ
につながって通常入力されるのでシリパラ変換器５２で
ＤＭＤ５のミラ一部２３の数に応じたパラレル信号に変
換されレジスタ５３にたくわえられる。その信号を同期
信号により１列分同時に読み出し、増幅器５４を経て、
２列のＤＭＤ５．５のドレインに所定の電圧信号がかけ
られる。一方、デコーダー５５により該同期信号に応じ
て、ゲート信号をＤＭＤ５．５に与える。このドレイン
信号の量、または有無および列毎のゲート信号の有無に
よってＤＭＤ５．５のフローティングソースの電圧がフ
ローティングフィールドプレート１７に伝えられ、ミラ
一部２３の揺動のＯＮ 、ＯＦＦの選択が行われる。
このような構成となっているから、まず、ＣＡＤ等によ
り数値化されたデータは、Ｉ１０ボート３１を通ってマ
イクロコンピュータ３２に伝えられ、必要な演算処理が
なされる。このデータに従い、パルスモータ３９．４０
によりアーム２と露光部３の位置が選択され、これに同
期して、光源６及び、ＤＭＤ５が駆動される。すると、
ＤＭＤ５のミラ一部２３が揺動して、その反射光が光学
系７へ導かれ、感光フィルム４上に回路パターンが露光
される。
り数値化されたデータは、Ｉ１０ボート３１を通ってマ
イクロコンピュータ３２に伝えられ、必要な演算処理が
なされる。このデータに従い、パルスモータ３９．４０
によりアーム２と露光部３の位置が選択され、これに同
期して、光源６及び、ＤＭＤ５が駆動される。すると、
ＤＭＤ５のミラ一部２３が揺動して、その反射光が光学
系７へ導かれ、感光フィルム４上に回路パターンが露光
される。
上述のように、上記実施例においては、回路パターンの
画像信号によって揺動する多数のミラ一部２３を有する
ＤＭＤ ５を多数使用しているので、これらの素子５を
それぞれ制御することによって微細な回路パターンや任
意の回路パターンに対応して精度よく露光できる。また
、ＤＭＤ５はアレイ状に多数配列されているので、従来
のスポット露光と異なり、長い範囲にわたって一度に露
光できる。したがって、露光速度をあげることができる
。
画像信号によって揺動する多数のミラ一部２３を有する
ＤＭＤ ５を多数使用しているので、これらの素子５を
それぞれ制御することによって微細な回路パターンや任
意の回路パターンに対応して精度よく露光できる。また
、ＤＭＤ５はアレイ状に多数配列されているので、従来
のスポット露光と異なり、長い範囲にわたって一度に露
光できる。したがって、露光速度をあげることができる
。
なお、上記実施例における光源は１点光源でも線光源で
もよい。点光源を用いる場合は、光源からＤＭＤのパス
の中にレンズ等を入れ、各ＤＭＤを均一に照明するよう
にすれば、より精度を上げることができる、線光源の場
合も同様である。光源は、白色光のようなランダムな波
長の光でもよく、フィルム感度に適合させた単色光でも
よい。
もよい。点光源を用いる場合は、光源からＤＭＤのパス
の中にレンズ等を入れ、各ＤＭＤを均一に照明するよう
にすれば、より精度を上げることができる、線光源の場
合も同様である。光源は、白色光のようなランダムな波
長の光でもよく、フィルム感度に適合させた単色光でも
よい。
また収光レンズの焦点距離を可変にするようにすれば、
拡大、縮小または各パターンのサイズに合せた書き込み
を行なうことができ、より多様なパターニングが行える
。
拡大、縮小または各パターンのサイズに合せた書き込み
を行なうことができ、より多様なパターニングが行える
。
上記実施例においては、感光フィルム４を固定し、アー
ム２と、アームに取り付けられた露光部３とを移動させ
てポジシミニングを行ったが、逆に、露光部３を固定し
、感光フィルム４の方を移動させてもよい。また、露光
部３と感光フィルム４を各々異なる方向に移動させるこ
とで、装置のコンパクト化が図れる。この場合、感光フ
ィルム４はシート状に限らず、ロールフィルムでもよい
。
ム２と、アームに取り付けられた露光部３とを移動させ
てポジシミニングを行ったが、逆に、露光部３を固定し
、感光フィルム４の方を移動させてもよい。また、露光
部３と感光フィルム４を各々異なる方向に移動させるこ
とで、装置のコンパクト化が図れる。この場合、感光フ
ィルム４はシート状に限らず、ロールフィルムでもよい
。
さらに、上記実施例では感光フィルム４を用い版下作製
を行ったが、少量生産の場合には、感光材料（レジスト
）を塗布した基板に直接書き込みを行ってもよい。
を行ったが、少量生産の場合には、感光材料（レジスト
）を塗布した基板に直接書き込みを行ってもよい。
以上説明したように、この発明によれば、パターンの映
像信号で多数のミラーが揺動する電気機械変換素子を露
光に用いるようにしたから、パターンや線幅の変更に対
応してそれらの露光精度や露光速度を向上させることが
できる。
像信号で多数のミラーが揺動する電気機械変換素子を露
光に用いるようにしたから、パターンや線幅の変更に対
応してそれらの露光精度や露光速度を向上させることが
できる。
第１図はこの発明の実施例である版下作製装置の要部斜
視図、第２図は第１図の露光部の構成図、第３図は第２
図におけるＤＭＤを示し、同図（ａ）はその断面図、同
図（ｂ）はその平面図、同図（Ｃ）は同（ａ）、（ｂ）
の電気的等価図、第４図は第２図におけるＤＭＤの７レ
イ概念図、第５図はこの発明の実施例の構成図、第６図
は第５図におけるＤＭＤ駆動回路図である。 図中１４は感光フィルム、５はＤＭＤ、６は光源、７は
光学系（レンズ）、２３はミラ一部、３７はＤＭＤドラ
イバである。 第４図 箪５図
視図、第２図は第１図の露光部の構成図、第３図は第２
図におけるＤＭＤを示し、同図（ａ）はその断面図、同
図（ｂ）はその平面図、同図（Ｃ）は同（ａ）、（ｂ）
の電気的等価図、第４図は第２図におけるＤＭＤの７レ
イ概念図、第５図はこの発明の実施例の構成図、第６図
は第５図におけるＤＭＤ駆動回路図である。 図中１４は感光フィルム、５はＤＭＤ、６は光源、７は
光学系（レンズ）、２３はミラ一部、３７はＤＭＤドラ
イバである。 第４図 箪５図
Claims (1)
- パターンの画像信号によって揺動されてその反射光の
光路を変換する多数のミラーを有する電気機械変換素子
を備えた露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60160091A JPS6221115A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60160091A JPS6221115A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6221115A true JPS6221115A (ja) | 1987-01-29 |
Family
ID=15707659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60160091A Pending JPS6221115A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6221115A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5061049A (en) * | 1984-08-31 | 1991-10-29 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
| US5469302A (en) * | 1993-05-21 | 1995-11-21 | Daewoo Electronics Co., Ltd. | Electrostrictive mirror actuator for use in optical projection system |
| JP2013048258A (ja) * | 2005-03-30 | 2013-03-07 | Asml Netherlands Bv | データフィルタ処理を利用したリソグラフィ装置及びデバイス製造法 |
-
1985
- 1985-07-22 JP JP60160091A patent/JPS6221115A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5061049A (en) * | 1984-08-31 | 1991-10-29 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
| US5469302A (en) * | 1993-05-21 | 1995-11-21 | Daewoo Electronics Co., Ltd. | Electrostrictive mirror actuator for use in optical projection system |
| JP2013048258A (ja) * | 2005-03-30 | 2013-03-07 | Asml Netherlands Bv | データフィルタ処理を利用したリソグラフィ装置及びデバイス製造法 |
| US9846368B2 (en) | 2005-03-30 | 2017-12-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering |
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