JPS60102737A - シヤツタ−装置 - Google Patents
シヤツタ−装置Info
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- JPS60102737A JPS60102737A JP58209939A JP20993983A JPS60102737A JP S60102737 A JPS60102737 A JP S60102737A JP 58209939 A JP58209939 A JP 58209939A JP 20993983 A JP20993983 A JP 20993983A JP S60102737 A JPS60102737 A JP S60102737A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 3
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はシャッター装置、特に半導体露光装置のシャッ
ター装置に関する。
ター装置に関する。
従来半導体露光装置におけるシャッター駆動源としては
、ロータリーソレノイドあるいは直進ソレノイドがあっ
た。これらのシャッター機構は往復運動動作となるため
、ンヤツター羽根の作動開始位置と作動終了位置とでは
露光量のむらが生じていた。こ、の露光量のむらを減少
させるためにはシャッター動作の立上りスピードを上げ
なげればならず、駆動力の大きいソレノイドを必要とす
る。
、ロータリーソレノイドあるいは直進ソレノイドがあっ
た。これらのシャッター機構は往復運動動作となるため
、ンヤツター羽根の作動開始位置と作動終了位置とでは
露光量のむらが生じていた。こ、の露光量のむらを減少
させるためにはシャッター動作の立上りスピードを上げ
なげればならず、駆動力の大きいソレノイドを必要とす
る。
このため、ソレノイドが大型化し、実施上の不利を招い
ていた。
ていた。
かかる欠点を除くためにパルスモータを駆動源とした回
転式シャッター装置が提案されている（特開昭５６−５
５９２７）。しかしパルスモータを駆動源とする場合、
立上り時間や移動速度の点で問題があり、これを改良す
るためには大型のパルスモータが必要である。またパル
スモータの本質的問題として振動が不可避であり、特に
立上り時および終速時の振動が大きくなり易い。
転式シャッター装置が提案されている（特開昭５６−５
５９２７）。しかしパルスモータを駆動源とする場合、
立上り時間や移動速度の点で問題があり、これを改良す
るためには大型のパルスモータが必要である。またパル
スモータの本質的問題として振動が不可避であり、特に
立上り時および終速時の振動が大きくなり易い。
本発明はかかる点に鑑み提案されたものであり、立上り
時間の短縮化、移動速度の高速化および振動の軽減化を
可能とする駆動源として直流モータを有するシャッター
装置の提供を目的とする。
時間の短縮化、移動速度の高速化および振動の軽減化を
可能とする駆動源として直流モータを有するシャッター
装置の提供を目的とする。
以下、図面に従って本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の実施例に係る露光装置の外観を示す斜
視図である。１は集積回路パターンを具えたマスクであ
り、２はマスクチャックでマスクを保持している。３は
縮小投影レンズ、４は感光層を具えるウェハー、５はウ
ェハーステージである。
視図である。１は集積回路パターンを具えたマスクであ
り、２はマスクチャックでマスクを保持している。３は
縮小投影レンズ、４は感光層を具えるウェハー、５はウ
ェハーステージである。
ある。
第２図は本発明の実施例に係るシャッター装置を含む照
明光学系の配置を示す図であり、１０ａは光源、１１は
楕円鏡、１２はコールドミラー、１３はシャッター装置
である。１４は多光束形成光学素子、１５は平面鏡、１
６は光学フィルター、１７は集光性コリメータレンズ、
１８は平面鏡である。
明光学系の配置を示す図であり、１０ａは光源、１１は
楕円鏡、１２はコールドミラー、１３はシャッター装置
である。１４は多光束形成光学素子、１５は平面鏡、１
６は光学フィルター、１７は集光性コリメータレンズ、
１８は平面鏡である。
１９は多光束形成光学素子、２０は絞り、２１は平面鏡
（ハーフミラ−）、２２は集光性コリメータレンズ、２
３がマスクであり、２４は光量検知の受光素子である。
（ハーフミラ−）、２２は集光性コリメータレンズ、２
３がマスクであり、２４は光量検知の受光素子である。
次に本発明の実施例に係るシャッター装置の側面図を示
す第３図を参照しながら、その構成について説明する。
す第３図を参照しながら、その構成について説明する。
３０はシャッター羽根、３１はシャッター羽根の回転軸
、３２はシャッター羽根の回転軸に取付けられた歯車で
ある。３３は直流モータ、３４は直流モータ出力軸に取
付けられた歯車、３５はロータリーエンコーダ、３６は
ロータリーエンコーダ回転軸に取付けられた歯車である
。
、３２はシャッター羽根の回転軸に取付けられた歯車で
ある。３３は直流モータ、３４は直流モータ出力軸に取
付けられた歯車、３５はロータリーエンコーダ、３６は
ロータリーエンコーダ回転軸に取付けられた歯車である
。
３７はシャッター装置左側に取付けられたフォトインタ
ーラブターからなる位置検知スイッチ、３８は同右側に
取り付けられた位置検知スイッチである。次にこのシャ
ッター装置の動作の概略を説明する。直流モータ３３が
回転すると、歯車３４・３２を介してシャッター羽根３
０が回転する。このシャッター羽根３０の回転により、
光束の開口部を開光（光が遮光されずに通過する状態を
いう）あるいは遮光して露光制御を行う。また位置検知
スイッチ３７・３８はシャッター羽根３０の位置すなわ
ちその回転状態を検知する。
ーラブターからなる位置検知スイッチ、３８は同右側に
取り付けられた位置検知スイッチである。次にこのシャ
ッター装置の動作の概略を説明する。直流モータ３３が
回転すると、歯車３４・３２を介してシャッター羽根３
０が回転する。このシャッター羽根３０の回転により、
光束の開口部を開光（光が遮光されずに通過する状態を
いう）あるいは遮光して露光制御を行う。また位置検知
スイッチ３７・３８はシャッター羽根３０の位置すなわ
ちその回転状態を検知する。
第４図は本発明の実施例に係るシャッター羽根３０、露
光用光束の開口部４０および位置検知スイッチ３７・３
８の相対的位置関係を示す図であり、側面図を示す第３
図に対し平面図である。第４図には露光用光束は開光さ
れている状態を示している。この時位置検知スイッチ３
７・３８はともに開光されており、従ってともにオン信
号出力 ５− を発生する。次にシャッター羽根３０がＣＷ回転（図に
おいて矢印方向をいう）を行う。露光用光束が開光から
遮光になる途中では、位置検知スイッチ３７は開光のま
までオン信号を発生し、位置検知スイッチ３８は遮光さ
れてオフ信号を発生する。更にシャッター羽根３０がＣ
Ｗ回転を行い、露光用光束が完全に遮光されると、位置
検知スイッチ３７は遮光されてオフ信号を発生し、位置
検知スイッチ３８は遮光のままでオフ信号を発生する。
光用光束の開口部４０および位置検知スイッチ３７・３
８の相対的位置関係を示す図であり、側面図を示す第３
図に対し平面図である。第４図には露光用光束は開光さ
れている状態を示している。この時位置検知スイッチ３
７・３８はともに開光されており、従ってともにオン信
号出力 ５− を発生する。次にシャッター羽根３０がＣＷ回転（図に
おいて矢印方向をいう）を行う。露光用光束が開光から
遮光になる途中では、位置検知スイッチ３７は開光のま
までオン信号を発生し、位置検知スイッチ３８は遮光さ
れてオフ信号を発生する。更にシャッター羽根３０がＣ
Ｗ回転を行い、露光用光束が完全に遮光されると、位置
検知スイッチ３７は遮光されてオフ信号を発生し、位置
検知スイッチ３８は遮光のままでオフ信号を発生する。
更にシャッター羽根３０がＣＷ回転を行い、露光用光束
が遮光から開光になる途中では位置検知スイッチ３７は
遮光のままでオフ信号な発生し、位置検知スイッチ３８
は開光となりオン信号を発生する。更にシャッター羽根
３０がＣＷ回転を行い露光用光束が完全に開光になると
、位置検知スイッチ３７・３８はともにオン信号を発生
する。
が遮光から開光になる途中では位置検知スイッチ３７は
遮光のままでオフ信号な発生し、位置検知スイッチ３８
は開光となりオン信号を発生する。更にシャッター羽根
３０がＣＷ回転を行い露光用光束が完全に開光になると
、位置検知スイッチ３７・３８はともにオン信号を発生
する。
以上の様なシャッター羽根動作を繰り返す事により、連
続的な露光用光束の制御が行われる。シャッター羽根と
位置検知スイッチの関係を以下に示す表１にまとめる。
続的な露光用光束の制御が行われる。シャッター羽根と
位置検知スイッチの関係を以下に示す表１にまとめる。
６ −
衣ｌ
第５図は本発明の実施例に係る直流モーター駆動のシャ
ッター装置の構成を示すブロック図である。
ッター装置の構成を示すブロック図である。
図において５０は動作指令回路であり、後述の処理回路
５１に対してシャッターの開光動作、シャッターの遮光
動作あるいはシャッター羽根の初期位置移動動作指令を
行うとともに、積分器５８に対してリセット指令を出す
。処理回路５１は位置検知器３７−３８により検知され
たシャッター羽根３０の位置情報と前述の動作指令回路
５ｏの指令に基づき、指示回転量レジスタ５２に所定の
回転量の指示を与えるとともに、シャッター動作前に回
転カウンタをリセットする。
５１に対してシャッターの開光動作、シャッターの遮光
動作あるいはシャッター羽根の初期位置移動動作指令を
行うとともに、積分器５８に対してリセット指令を出す
。処理回路５１は位置検知器３７−３８により検知され
たシャッター羽根３０の位置情報と前述の動作指令回路
５ｏの指令に基づき、指示回転量レジスタ５２に所定の
回転量の指示を与えるとともに、シャッター動作前に回
転カウンタをリセットする。
５４は速度指示回路であり、指示回転量レジスタ５２に
設定された回転量とロータリーエンコーダー３５を介し
て示される回転カウンタ５３の実際状態の回転量との差
分に応じて速度を指示する。
設定された回転量とロータリーエンコーダー３５を介し
て示される回転カウンタ５３の実際状態の回転量との差
分に応じて速度を指示する。
５５は１）／Ａコンバータであり、速度指示回路５４に
より指示された速度を電圧量に変換する。５７はＦ／Ｖ
変換器であり、シャッター羽根３ｏの回転スピードを示
すロータリーエンコーダー３５の出力パルス周波数を電
圧量に変換する。５６は誤差増幅器であり、Ｄ／Ａコン
バータ５５とＦ／Ｖ変換器５７の出力電圧を比較し、そ
の電圧差を増幅して直流モーター３３に印加する。５８
は積分器であり、シャッター開光時の光源１．Ｏａの光
量を受光素子２４を介して積算し、所定の光量に達する
とき、動作指令回路５０が処理回路５１に遮光動作指令
を出すように動作指令回路５ｏに信号出力する。
より指示された速度を電圧量に変換する。５７はＦ／Ｖ
変換器であり、シャッター羽根３ｏの回転スピードを示
すロータリーエンコーダー３５の出力パルス周波数を電
圧量に変換する。５６は誤差増幅器であり、Ｄ／Ａコン
バータ５５とＦ／Ｖ変換器５７の出力電圧を比較し、そ
の電圧差を増幅して直流モーター３３に印加する。５８
は積分器であり、シャッター開光時の光源１．Ｏａの光
量を受光素子２４を介して積算し、所定の光量に達する
とき、動作指令回路５０が処理回路５１に遮光動作指令
を出すように動作指令回路５ｏに信号出力する。
第６図は本発明の実施例に係る速度指示回路５４の特性
を示す図であり、横軸は指示回転量レジスタ５２と回転
カウンタ５３の指示量の差、縦軸は速度指示回路５４の
出力電圧である。図示するように速度指示回路５４は、
指示回転量レジスタ５２と回転カウンタ５３の指示量の
差の値に応じて、次の３通りの出力を発生する。すなわ
ち指示量の差が微小のある一定値（Ａ ）以下の時は零
出力を、また一定値（）３ ）以上の時は一定出力を発
生し、その間（ＡとＢの間）では差に比例した出力を発
生する。
を示す図であり、横軸は指示回転量レジスタ５２と回転
カウンタ５３の指示量の差、縦軸は速度指示回路５４の
出力電圧である。図示するように速度指示回路５４は、
指示回転量レジスタ５２と回転カウンタ５３の指示量の
差の値に応じて、次の３通りの出力を発生する。すなわ
ち指示量の差が微小のある一定値（Ａ ）以下の時は零
出力を、また一定値（）３ ）以上の時は一定出力を発
生し、その間（ＡとＢの間）では差に比例した出力を発
生する。
次に第５図を参照しながら本発明の実施例に係るシャッ
ター装置の動作について説明する。まず動作指令回路５
０が処理回路５１にシャッターの開光動作を指令すると
ともに積分器５８にリセット指令を出力する。処理回路
５１はこれに基づき指示回転量レジスタ５２へ所定の回
転量の指示を与え、同時に回転カウンタ５３をリセット
する。
ター装置の動作について説明する。まず動作指令回路５
０が処理回路５１にシャッターの開光動作を指令すると
ともに積分器５８にリセット指令を出力する。処理回路
５１はこれに基づき指示回転量レジスタ５２へ所定の回
転量の指示を与え、同時に回転カウンタ５３をリセット
する。
回転前だから回転カウンタ５３と指示回転量レジスタ５
２の指示量の差は太き（、従って第６図の特性図より速
度指示回路５４がら一定の出力が発生する。また、回転
前であるからＦ／Ｖ変換器５７の出力も零であり、従っ
て誤差増幅器５６の入力 ９− 電圧差が大きくなるので直流モーター３３の駆動力も大
きく、立上りは速い。
２の指示量の差は太き（、従って第６図の特性図より速
度指示回路５４がら一定の出力が発生する。また、回転
前であるからＦ／Ｖ変換器５７の出力も零であり、従っ
て誤差増幅器５６の入力 ９− 電圧差が大きくなるので直流モーター３３の駆動力も大
きく、立上りは速い。
シャッター羽根３０が回転を開始すると、ロータリーエ
ンコーダー３５を介して回転の速度制御が行われる。す
なわち、指示回転量レジスタ５２で示される指示回転量
と現在の回転位置を示す回転カウンタ５３の回転量は速
度指示回路５４によって比較され、速度指示回路５４か
ら位置の差に応じた速度が指示される。そしてＤ／Ａコ
ンバータ５５はデジタル信号で与えられる速度指示回路
５４の出力をアナログ電圧として誤差増幅器５６に速度
指示電圧として与える。一方Ｆ／■変換器５７はロータ
リーエンコーダー３５の出力をパルス状のデジタル信号
から実際の回転速度に比例したアナログ電圧に変換する
。誤差増幅器５６はＤ／Ａ変換器５５が与える回転速度
指示電圧に対してＦ／Ｖ変換器５７が与える実際の回転
速度電圧の誤差に応じて直流モータ３３に駆動電圧を加
える。このようにして、直流モータ３３に結合されたロ
ータリーエンコーダ３５によって速度帰還が行なわれ、
１０− シャッター羽根３０の速度制御が行なわれる。直流モー
ター３３が回転して指示回転量レジスタ５２と回転カウ
ンタ５３の差が少なくなると、第６図に示す様に回転速
度指示電圧が下がり、やがてシャッター羽根３０は一定
位置で停止する。この時に位置検知スイッチ３７・３８
を介して処理回路５］はシャッター羽根３０の静止位置
の確認を行い、所定の位置にあれば動作は終了する。所
定の位置にないと判断すると、処理回路５１は回転カウ
ンタ５３をクリアし、かつ指示回転レジスタ５２に所定
の微小の回転量を設定して直流モータ３３を回転させる
。こうして精度よく希望位置に停止できるよう微調整す
る。この位置微調整により次の動作のスタート位置が精
度よく定められる。
ンコーダー３５を介して回転の速度制御が行われる。す
なわち、指示回転量レジスタ５２で示される指示回転量
と現在の回転位置を示す回転カウンタ５３の回転量は速
度指示回路５４によって比較され、速度指示回路５４か
ら位置の差に応じた速度が指示される。そしてＤ／Ａコ
ンバータ５５はデジタル信号で与えられる速度指示回路
５４の出力をアナログ電圧として誤差増幅器５６に速度
指示電圧として与える。一方Ｆ／■変換器５７はロータ
リーエンコーダー３５の出力をパルス状のデジタル信号
から実際の回転速度に比例したアナログ電圧に変換する
。誤差増幅器５６はＤ／Ａ変換器５５が与える回転速度
指示電圧に対してＦ／Ｖ変換器５７が与える実際の回転
速度電圧の誤差に応じて直流モータ３３に駆動電圧を加
える。このようにして、直流モータ３３に結合されたロ
ータリーエンコーダ３５によって速度帰還が行なわれ、
１０− シャッター羽根３０の速度制御が行なわれる。直流モー
ター３３が回転して指示回転量レジスタ５２と回転カウ
ンタ５３の差が少なくなると、第６図に示す様に回転速
度指示電圧が下がり、やがてシャッター羽根３０は一定
位置で停止する。この時に位置検知スイッチ３７・３８
を介して処理回路５］はシャッター羽根３０の静止位置
の確認を行い、所定の位置にあれば動作は終了する。所
定の位置にないと判断すると、処理回路５１は回転カウ
ンタ５３をクリアし、かつ指示回転レジスタ５２に所定
の微小の回転量を設定して直流モータ３３を回転させる
。こうして精度よく希望位置に停止できるよう微調整す
る。この位置微調整により次の動作のスタート位置が精
度よく定められる。
なお、好ましい実施例においては、シャッター羽根の静
止位置からシャッター羽根の縁が照明光学系の開口部（
光路）に達するまでに直流モータの回転数は設定速度に
達しており、シャッター羽根は開口部を一定速度で過ぎ
るようにして被照射面を最も効率よく照明し、照明時間
を短縮する。
止位置からシャッター羽根の縁が照明光学系の開口部（
光路）に達するまでに直流モータの回転数は設定速度に
達しており、シャッター羽根は開口部を一定速度で過ぎ
るようにして被照射面を最も効率よく照明し、照明時間
を短縮する。
そしてシャッター羽根の復縁が開［］部を通過すると急
激な減速が行われ、わずかな回転角度で停止する。
激な減速が行われ、わずかな回転角度で停止する。
一方、開光動作中の光源１０ａからの光束の一部は受光
素子２４・＼導かれる。受光素子２４は光量に比例した
出力を発生し、積分器５８へ出力する。
素子２４・＼導かれる。受光素子２４は光量に比例した
出力を発生し、積分器５８へ出力する。
積分器５８は動作指令回路５０かもリセット信号を受け
てクリアした後積分を開始し、光量積分値が希望の積算
露光値に達つしたところで動作指令回路５０に露光終了
信号を送る。露光終了信号を受けとると動作指令回路５
０は処理回路５１にシャッター遮光動作指令を送る。こ
れによりシャッター羽根３３は前述の動作と同様なプロ
セスを経て遮光動作を行う。ステッパーの場合は、ウェ
ハー位置移動のタイミングに同期して上記の動作が繰り
返し行われることになる。
てクリアした後積分を開始し、光量積分値が希望の積算
露光値に達つしたところで動作指令回路５０に露光終了
信号を送る。露光終了信号を受けとると動作指令回路５
０は処理回路５１にシャッター遮光動作指令を送る。こ
れによりシャッター羽根３３は前述の動作と同様なプロ
セスを経て遮光動作を行う。ステッパーの場合は、ウェ
ハー位置移動のタイミングに同期して上記の動作が繰り
返し行われることになる。
以上、説明ｌ〜だように本発明によれば直流モーターを
駆動源としているので所定の回転速度に達するまでの立
上り時間の短縮化、シャッター羽根の移動速度の高速化
およびシャッター機構の小型化を図ることができる。ま
た、直ちに定速領域に達するから露光量のムラを減少さ
せることができ、高精度の静止位置設定が可能である。
駆動源としているので所定の回転速度に達するまでの立
上り時間の短縮化、シャッター羽根の移動速度の高速化
およびシャッター機構の小型化を図ることができる。ま
た、直ちに定速領域に達するから露光量のムラを減少さ
せることができ、高精度の静止位置設定が可能である。
そして、高精度の静止位置設定が可能であるから光束開
口部の大きさをシャッター開口部およびシャッター遮光
部の大きさに近づけることができ、従ってシャッター羽
根が無効な位置を移動するという無駄な動作および時間
を減少させることができる。
口部の大きさをシャッター開口部およびシャッター遮光
部の大きさに近づけることができ、従ってシャッター羽
根が無効な位置を移動するという無駄な動作および時間
を減少させることができる。
さらに回転型シャッター羽根を使用しているのでシャッ
ター羽根の移動開始位置と移動終了位置との間において
露光量の差がなくなり露光面内の露光むらを減少させる
ことができる。また積算露光量を計測してシャッター作
動指令を行うので光源の光量の時間的変動による露光量
のムラを減少でき、繰り返しの露光動作において常に一
定の積算露光量が得られる。
ター羽根の移動開始位置と移動終了位置との間において
露光量の差がなくなり露光面内の露光むらを減少させる
ことができる。また積算露光量を計測してシャッター作
動指令を行うので光源の光量の時間的変動による露光量
のムラを減少でき、繰り返しの露光動作において常に一
定の積算露光量が得られる。
以上のような本発明の効果により、高密度のパターンが
高歩留りで、かつ能率よ（量産可能となる。
高歩留りで、かつ能率よ（量産可能となる。
１３−
第１図は本発明の実施例に係る露光装置の外観を示す斜
視図、第２図は本発明の実施例に係るシャッター装置を
含む照明光学系の配置を示す図。 第３図・第４図はそれぞれ本発明の実施例に係るシャッ
ター装置の側面図・平面図、第５図は本発明の実施例に
係る直流モーター駆動のシャッター装置の構成を示すブ
ロック図、第６図は本発明の実施例に係る速度指示回路
の特性を示す図である３］、 Ｏａ・・・光源 ２４・
・・受光素子３０・・・シャッター羽Ｓ ３３・・・直
流モーター３５・・・ロータリーエンコーダー ３７・３８・・・位置検知スイッチ ４０・・・露光用光束の開口部 ５０・・・動作指令回路 ５１・・・処理回路５２・・
・指示回転量レジスタ ５３・・・回転カウンタ ５４・・・速度指示回路５５
・・・Ｄ／Ａ ：Ｉ ンハータ５６−誤差増幅器５７・
・・Ｆ／ｙ 変換器 ５８・・・積分器１４− １４ 第２図 第３図
視図、第２図は本発明の実施例に係るシャッター装置を
含む照明光学系の配置を示す図。 第３図・第４図はそれぞれ本発明の実施例に係るシャッ
ター装置の側面図・平面図、第５図は本発明の実施例に
係る直流モーター駆動のシャッター装置の構成を示すブ
ロック図、第６図は本発明の実施例に係る速度指示回路
の特性を示す図である３］、 Ｏａ・・・光源 ２４・
・・受光素子３０・・・シャッター羽Ｓ ３３・・・直
流モーター３５・・・ロータリーエンコーダー ３７・３８・・・位置検知スイッチ ４０・・・露光用光束の開口部 ５０・・・動作指令回路 ５１・・・処理回路５２・・
・指示回転量レジスタ ５３・・・回転カウンタ ５４・・・速度指示回路５５
・・・Ｄ／Ａ ：Ｉ ンハータ５６−誤差増幅器５７・
・・Ｆ／ｙ 変換器 ５８・・・積分器１４− １４ 第２図 第３図
Claims (5)
- （１）回転型シャッター羽根により露光制御する露光装
置のシャッター装置において、 前記シャッター羽根の速度および位置制御を行う直流モ
ーターを備えたシャッター装置。 - （２） 前記直流モーターと連結し、該直流モーターの
回転量と回転速度を検知するロータリーエンコーダーを
備えたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のシ
ャッター装置。 - （３） 前記シャッター羽根の静止位置を補正駆動する
ため該シャッター羽根の静止位置を検知する複数の位置
検知スイッチを備えたことを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載のシャッター装置。 - （４） 前記シャッター羽根の切欠き部および遮光部の
大きさは露光用の光束の開口部とほぼ同じ大きさである
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のシャッタ
ー装置。 - （５）露光中の光量を検知する手段と該光量の積算を行
う手段とを備え、該手段により前記直流モーターの回転
動作を指令して露光時間を制御することを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載のシャッター装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58209939A JPS60102737A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | シヤツタ−装置 |
| GB08428372A GB2151372B (en) | 1983-11-10 | 1984-11-09 | Control of shutter position |
| DE19843441298 DE3441298A1 (de) | 1983-11-10 | 1984-11-12 | Verschlussvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58209939A JPS60102737A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | シヤツタ−装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60102737A true JPS60102737A (ja) | 1985-06-06 |
Family
ID=16581162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58209939A Pending JPS60102737A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | シヤツタ−装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60102737A (ja) |
| DE (1) | DE3441298A1 (ja) |
| GB (1) | GB2151372B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61188152U (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-22 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0250975B1 (en) * | 1986-06-13 | 1991-08-28 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Illumination system |
| DE10029444B4 (de) * | 2000-06-21 | 2004-07-22 | Leica Microsystems Heidelberg Gmbh | Optische Anordnung |
| CN108663871B (zh) * | 2017-03-31 | 2021-06-25 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 一种快门装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4227079A (en) * | 1978-12-15 | 1980-10-07 | Hewlett-Packard Company | Multipath fine positioning beam director |
| GB2041576A (en) * | 1979-02-02 | 1980-09-10 | Leeds & Northrup Co | Electric drive unit control apparatus |
| FR2461408A1 (fr) * | 1979-07-06 | 1981-01-30 | Jaeger | Totalisateur d'impulsions electriques utilisant un moteur electrique asservi par un controle de position |
| US4350428A (en) * | 1979-10-09 | 1982-09-21 | Optimetrix Corporation | Shutter mechanism |
| JPS5655927A (en) * | 1979-10-15 | 1981-05-16 | Ushio Inc | Shutter device |
| JPS5697105A (en) * | 1979-12-31 | 1981-08-05 | Fanuc Ltd | Controller for stopping in place for main shaft |
| US4430657A (en) * | 1982-03-03 | 1984-02-07 | The Perkin-Elmer Corporation | Pen drive for recorder |
| JPS5932012A (ja) * | 1982-08-17 | 1984-02-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 位置決めサ−ボ方式 |
-
1983
- 1983-11-10 JP JP58209939A patent/JPS60102737A/ja active Pending
-
1984
- 1984-11-09 GB GB08428372A patent/GB2151372B/en not_active Expired
- 1984-11-12 DE DE19843441298 patent/DE3441298A1/de not_active Ceased
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61188152U (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-22 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2151372A (en) | 1985-07-17 |
| GB2151372B (en) | 1987-12-16 |
| GB8428372D0 (en) | 1984-12-19 |
| DE3441298A1 (de) | 1985-05-23 |
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