KR960015753A - 주사형 노광 장치 - Google Patents

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KR960015753A
KR960015753A KR1019950034203A KR19950034203A KR960015753A KR 960015753 A KR960015753 A KR 960015753A KR 1019950034203 A KR1019950034203 A KR 1019950034203A KR 19950034203 A KR19950034203 A KR 19950034203A KR 960015753 A KR960015753 A KR 960015753A
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KR
South Korea
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mask
scanning
photosensitive substrate
projection
illumination
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Application number
KR1019950034203A
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English (en)
Inventor
쯔요시 나라베
카즈아키 사이키
마사미 세키
세이키 미야자키
Original Assignee
오노 시게오
니콘 가부시끼가이샤
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
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Abstract

주사형 노광 장치는 노광 영역으로서 마스크상에 다수의 영역을 조명하기 위한 조명 광학 시스템과, 감광 기판상의 투영 영역에 상기 다수의 노광 영역의 상을 투영하기 위한 다수의 투영 광학 시스템과, 상기 다수의 투영 광학 시스템에 대해 상기 마스크와 상기 감광 기판을 주사함으로써 상기 마스크상의 노광 영역을 순차 이동하고 상기 감광 기판상의 상기 투영 영역을 순차 이동하는 주사 구동 장치와, 상기 마스크와 상기 광 감지 기판상의 상기 주사 방향을 따라 다수의 위치에 대해 상기 투영 광학 시스템의 광축 방향에 대해 상기 노광 영역과 상기 투영 영역간의 상대 위치 관게를 측정하기 의한 상기 다수의 투영 광학 시스템에 대응하게 제공된 위치 검출기와, 상기 주사 동안 상기 상대 위치 관계가 일정하게 되도록 상기 위치 검출기에 의한 측정 결과에 근거하여 상기 광축 방향으로 상기 마스크와 상기 감광 기판의 적어도 하나의 위치를 보정하기 위한 위치 보정 메커니즘을 포함한다.

Description

주사형 노광 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1는 본 발명의 일실시예에 따른 주사형 노광 장치(scanning type exposure apparatus)의 구성을 도시한 개략도,
제2도는 투영 광학 시스템(projection optical system)과 자동초점 기구(auto-focusing mechanism)의 측정 지점간의 관계를 도시한 개략도,
제3도는 자동 초점 기구의 광학 시스템의 실예를 도시한 개략도.

Claims (8)

  1. 주사형 노광 장치에 있어서, 조명 영역으로서 마스크상에 다수의 영역을 조명하기 위한 조명 광학 시스템과, 광 감지 기판상의 투영 영역에 상기 다수의 조명 영역의 상을 투영하기 위한 다수의 투영 광학 시스템과, 상기 다수의 투영 광학 시스템에 대해 상기 마스크와 상기 감광 기판을 주사함으로써 상기 마스크상의 조명영역을 순차 이동하고 상기 감광 기판상의 상기 투영 영역을 순차 이동하는 주사 구동 장치와, 상기 마스크와 상기 감광 기판상의 상기 주사 방향을 따라 다수의 위치에 대해서는 상기 투영 광학 시스템의 광축 방향에 대해 상기 조명 영역과 상기 투영 영역간의 상대 위치 관계를 측정하기 위한 상기 다수의 투영 광학 시스템에 대응하게 제공된 위치 검출기와, 상기 주사 동안 상기 상대 위치 관계가 일정하게 되도록 상기 위치 검출기에 의한 측정 결과에 근거하여 상기 광축 방향으로 상기 마스크와 상기 감광 기판의 적어도 하나의 위치를 보정하기 위한 위치 보정 메커니즘을 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 위치 검출기는 상기 마스크상의 상기 다수의 조명영역의 이동 궤적을 따르는 상기 조명 영역 외부 위치와 상기 감광 기판상의 상기 다수의 투영 영역의 이동 궤적을 따르는 상기 투영 영역 외부 위치간의 상대 위치관계를 측정하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  3. 주사형 노광 장치에 있어서, 조명 영역으로서 제1방향에 따라서 배치된 마스크상에 다수의 영역을 조명하기 위한 조명 광학 시스템과, 광 감지 기판상의 투영 영역에 상기 다수의 조명 영역의 상을 투영하기 위한 제1방향에 따라서 배치된 다수의 투영 광학 시스템과, 상기 다수의 투영 광학 시스템에 대해 상기 투영 광학 시스템과 상기 제1방향의 광축에 대해 직교하는 제2방향으로 상기 마스크와 상기 감광 기판을 주사함으로써 상기 마스크상의 조명 영역을 순차 이동하고 상기 감광 기판상의 상기 투영 영역을 순차 이동하는 주사 구동장치와, 상기 마스크와 상기 감광 기판상의 상기 제2방향을 따라 다수의 위치에 대해서는 상기 투영 광학 시스템의 광축 방향에 대해 상기 마스크와 상기 감광 기판간의 간극을 측정하기 의한 상기 다수의 투영 광학 시스템에 대응하게 제공된 간극 측정 장치와, 상기 주사 동안 상기 간극이 일정하게 되도록 상기 간극 측정 장치에 의한 측정 결과에 근거하여 상기 광축 방향으로 상기 마스크와 상기 감광 기판의 적어도 하나의 위치를 보정하기 위한 위치 보정 메커니즘을 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 위치 보정 메커니즘은 상기 간극 측정 장치와 상기 투영 광학 시스템의 초점 길이에 의한 측정 결과에 근거하여 상기 보정을 실행하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  5. 제3항에 있어서, 상기 위치 보정 메커니즘은 상기 주사 동안 상기 투영 광학 시스템의 광축 방향에 대해 상기 조명 영역과 상기 투영 영역간의 간극이 일정하게 되도록 상기 주사 동안 상기 간극 측정 장치에 의한 측정 결과에 근거하여 상기 마스크와 상기 감광 기판의 적어도 하나의 자세를 연속적으로 변화시키는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 위치 보정 메커니즘에 의한 변화는 상기 제2방향에 평행한 축 둘레를 상기 마스크와 상기 감광 기판의 적어도 하나를 회전시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 다수의 투영 광학 시스템은 제2방향으로 소정간격으로 다수의 세트로 배치되며, 상기 위치 보정 메커니즘에 의한 변화는 상기 제1방향이 평행한 축 둘레를 상기 마스크와 상기 감광기판의 적어도 하나를 회전시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
  8. 주사형 노광 장치에 있어서, 조명 영역으로서 마스크상에 다수의 영역을 조명하기 위한 조명 광학 시스템과, 감광 기판상의 투입 영역에 상기 다수의 조명 영역의 상을 투영하기 위한 다수의 투영 광학 시스템과 상기 다수의 투영 광학 시스템에 대해 상기 마스크와 상기 감광 기판을 주사함으로써 상기 마스크상의 조명 영역을 순차 이동하고 상기 감광 기판상의 상기 투영 영역을 순차 이동하는 주사 구동 장치와, 상기 마스크와 상기 감광 기판상의 상기 주사 방향을 따라 다수의 위치에 대해서는 상기 투영 광학 시스템의 광축 방향에 대해 상기 조명 영역과 상기 투영 영역간의 상대 위치 관계를 측정하기 위한 상기 다수의 투영 광학 시스템에 대응하게 제공된 위치 검출기와, 상기 주사 동안 상기 상대 위치 관계가 일정하게 되도록 상기 위치 검출기에 의한 측정 결과에 근거하여 상기 광축 방향으로 상기 마스크와 상기 감광 기판의 적어도 하나의 위치를 보정하기 위한 위치 보정 메커니즘과, 상기 주사 속도와 상기 보정이 필요한 시간에 근거하여 상기 보정을 위한 데이터가 상기 위치 보정 메커니즘으로 출력되는 시기를 조절하는 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950034203A 1994-10-07 1995-10-06 주사형 노광 장치 KR960015753A (ko)

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KR100505607B1 (ko) * 1998-06-22 2005-09-26 삼성전자주식회사 라우드니스 제어 방법 및 장치

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