JPS62209079A - 二置換アミノカルバペナム類 - Google Patents

二置換アミノカルバペナム類

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JPS62209079A
JPS62209079A JP61051556A JP5155686A JPS62209079A JP S62209079 A JPS62209079 A JP S62209079A JP 61051556 A JP61051556 A JP 61051556A JP 5155686 A JP5155686 A JP 5155686A JP S62209079 A JPS62209079 A JP S62209079A
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JP61051556A
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English (en)
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Takeo Yoshioka
武男 吉岡
Noritaka Senda
千田 憲孝
Azuma Watanabe
東 渡辺
Yasuo Fukagawa
泰男 深川
Tomoyuki Ishikura
石倉 知之
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Sanraku Inc
Original Assignee
Sanraku Inc
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07D477/24Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with hetero atoms or carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 6
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規な6−二置換アミノカルバベナム化合物に
関し、さらに詳しくは、式 式中、 R1は低級アルキル基又は低級ハロアルキル基を表わし
、 R2は低級アルキル基、低級ハロアルキル基、アラルキ
ル基、−COOR4又は−SO2R5を表わし、ここで
R4はアルキル基又は置換もしくは未置換のアラルキル
基を表わし、R5はアルキル基又は置換もしくは未置換
のアリール基を表わし、 R1は水素原子又は容易に離脱し得るカルボキシル保護
基を表わす、 で示される化合物並びに該化合物の製造に有用な新規な
中間体に関する。 上記式(1)の化合物は、従来のカルバペネム系抗生物
質が共通の問題としてもっているデヒドロペプチダーゼ
によって分解されるという欠点を有しない新規な6−二
置換アミノカルバペネム系抗生物質の製造中間体として
有用である。 従来、6−アミノカルバペネム系抗生物質として、下記
一般式 式中、Aは水素原子又はアシル基を表わし、Qは水素も
しくはハロゲン原子、或いはアルキル、アリール、アラ
ルキル、アルコキシ、アルキルチオ等の置換基を表わす
、 で示される6−未置換又は−置換アミノカルバペネム化
合物は知られている(米国特許第4,218゜459号
、第4,218,463号及び第4,298.741号
明細書参照)。 しかしながら、上記既知の6一一置換アミノカルバペネ
ム化合物は極めて不安定であり、実際上合成することは
極めて困難である。 本発明者らは化学的にもデヒドロペプチダーゼに対して
も安定なカルバペネム系抗生物質を求めて鋭意研究を行
なった結果、成る種F、ジ涛アミノカルバペネム化合物
が化学的にもデヒドロペプチダーゼに対しても極めて安
定であり、前記式(I)の化合物がその合成中間体とし
て重要であることを見い出し本発明を完成するに至った
。 本明細書において、「低級」なる語は、この語が付され
た化合物又は原子団の炭素原子数が6個以下、好ましく
は4個以下であることを意味する。 また、「アルキル基」又は「ノ・ロアルキル基」におけ
るアルキル部分は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれのタイ
プのものであってもよく、例えばメチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、n−プチル、イソブチル、5
ec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソ
アミル、n−ヘキシル、n−オクチル、2−エチルヘキ
シル基等が包含され、一方、「・・ロアルキル基」にお
ける・・ロゲン部分としてはフッ素、塩素原子が挙げら
れる。 しかして、「ハロアルキル基」の例としては、トリフル
オロメチル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、
シフルオロエチへフルオロエチル、ヘプタフルオロピロ
ピル基、等が挙げられる。 「アラルキル基」としては、例えばベンジル、フェネチ
ル、ジベンジル基等が包含され、また「アリール基」と
してはフェニル、ナフチル基等が挙げられる。これらア
ラルキル基及びアリール基における芳香頂上に存在しつ
る置換基としては、例えばハロゲン原子(例えばフッ素
原子)、低級アルキル基(例えばメチル、エチル基)、
低級ノ・ロアルキル基(例えばトリフルオロメチル基)
、低級アルコキシ基(例えばメトキシ基)、ニトロ基、
アミノ基等が包含される。 さらに、前記式(1)においてR8によって表わされつ
る「容易に離脱し得るカルボキシル保護基」としては、
加水分解又は水素添加分解等によつ°て容易に離脱させ
ることのできるカルボキシル基の保護基が好ましく、具
体的には次のものが挙げられる: (1)置換又は未置換のアルキル、アルケニル又ハアル
キニル基; (2)  シクロアルキル基: (3)  シクロアルキル−アルキル基;(4)置換又
は未置換のアリール基; (5)置換又は未置換のアラルキル基:以下これらの基
についてさらに詳細に説明するが、下記の記載は例示で
あり、これによって本発明の範囲は何ら制限されるもの
ではないことを理解すべきである。 (1)lt換又は未置換のアルキル、アルケニル又はア
ルキニル基 (1−1) アルキル基としては炭素原子数1〜14個
、好ましくは1〜12個、さらに好ましくは1〜10個
を有するものが望ましく、直鎖状もしくは分岐鎖状のい
ずれであってもよい。かかるアルキル基の代表例には、
メチル、エチル、n −もしくは1so−プロピル、n
 −1iso−1sec−もしくはtert−ブチル、
n−ペンチル、is。 −アミル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル
、2−エチルヘキシル、n−ノニル、n−デシル、n−
ウンデシル、n−ドデシル等が含まれる。 (1−2)  アルケニル基としては、直鎖状もしくは
分岐鎖状のいずれであってもよく、炭素原子数2〜10
個、好ましくは2〜6個のもの、特に低級アルケニル基
が適している。かかるアルケニル基の例には、ビニル、
アリル、2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル等が
挙げられる。 (l−3)  アルキニル基は炭素鎖中に三重結合を有
する不飽和脂肪族炭化水素基であり、本発明においては
特に低級アルキニル基が好ましい。かかるアルキニル基
としては、例えばプロパルギル、エチニル等が包含され
る。 (1−4)  上記(1−1)、(1−2)及び(1−
3)に述べたアルキル、アルケニル及びアルキニル基、
殊にアルキル基は、例えば−・ロゲン原子、水酸基、低
級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、C8〜1.シク
ロアルキルオキシ基、C1〜1゜シクロアルキルチオ基
、アリールオキシ基(該アリール基は好ましくはフェニ
ル基であり、且つハロケン原子、低級アルコキシ基、低
級ハロアルキル基又はニトロ基により置換されていても
よい)、アリールチオ基(該アリール基は好適にはフェ
ニル基であシ、且つハロゲン原子、低級アルコキシ基、
低級・・ロアルキル基又はニトロ基によシ置換されてい
てもよい)、ジー(C,〜1゜アルキル)アミノ基、C
!〜I6アクルアミノ基、アリ−ロイルイミノ基、C1
〜1.アシルオキシ基、C8〜1.アシルチオ基、C7
〜16アシル基、C1〜1.アルコキシカルボニル基(
該アルコキシ奉は)・ロゲン原子により置換されていて
もよい)、及びC8〜1.アラルキルオキシカルボニル
基(該アラルキル基は))ロゲン原子、低級アルコキシ
基、低級710アル中ル基又はニトロ基によシ置換され
ていてもよい)よシ成る群から選ばれる基によシ置換さ
れていることができる。 ここで、「アシルアミノ基」、「アシルオキシ基」、「
アシルチオ基」及び「アシル基」におけるアシル部分は
、有機カルボン酸からOf(を除いた残りの基R,Co
−を意末し、基几、としては前述したとおシ、アルキル
基の他、シクロアルキル基、アリール基及びアラルキル
基が挙げられ、これら基はさらに、ハロゲン原子、低級
アルコキシ基、低級・・ロアルキル基、ニトロ基、ジ(
低級アルキル)アミノ基等によシ置換されていてもよい
。 しかして、かかる基で置換されたアルキル基の代表例に
は次のものが挙げられる:2,2.2−トリクロロエチ
ル、2,2.2−)!Jフルオロエチル;ヒドロキシエ
チル、2−ヒドロキシプロピル;メトキシメチル、エト
キシメチル、インプロポキシメチル、エトキシエチル、
エトキシプロピル;メチルチオメチル、エチルチオメチ
ル、エチルチオエチル、メチルチオプロピル、イソプロ
ピルチオエチル;シクロヘキシルオキシメチル;シクロ
ヘキシルチオメチル;フェノキシメチル、フェノキシエ
チル、p−クロロフェノキシメチル、p−メトキシフェ
ノキ7メチル、p−トリフルオロメチルフェノキシメチ
ル、p−ニトロフェノキシメチル;フェニルチオメチル
、p−メトキシフェニルチオメチル、p−トリフルオロ
メチルフェニルチオメチル、p−ニトロフェニルチオメ
チル;2−ジメチルアミノエチル、3−ジエチルアミン
プロピル;アセチルアミノメチル、プロピオニルアミノ
メチル;フタロイルイミノメチル;アセトキシメチル、
アセトキシエチル、プロピオニルオキシメチル、アセト
キシプロピル、ピパロイルオキシメチル、ベンゾイルオ
キシメチル、トリクロ7アセトキシメチル、ジメチルア
ミノアセトキシメチル、p−メトキシベンゾイルオキシ
メチル、p−ニトロペンツイルオキシメチル、フェニル
アセトキシメチル;アセチルチオメチル、アセチルチオ
エチル;アセトニル、プロピオニルメチル、フェナシル
、p−クロロフェナシル、p−ニア”ロモフエナシル、
p−メチルフェナシル、p−tert−ブチルフェナシ
ル、p−エチルフェナシル、p−ニトロフェナシル、0
−ニトロフェナシル、p−トリフルオロメチルフェナシ
ル、p−メトキシフェナシル、ベンゾイルエチル、フェ
ニルアセトニル;メトキシカルボニルメチル、エトキシ
カルボニルメチル、カルバモイルメチル、カルバモイル
エチルJtert−ブトキシカルボニルメチル、ter
t−アミルオキシカルボニルメチル、2,2゜2−)I
Jジクロロトキシカルボニルメチル、2゜2.2−1−
リブロモエトキシ力ルポニルメチル;ベンジルオキシカ
ルボニルメチル、ジフェニルメトキシカルボニルメチル
、トリフェニルメトキシカルボニルメチル、p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルメチル、p−ニトロベンジル
オキシカルボニルエチル、p−メトキシベンジルオキシ
カルボニルメチル、フェネチルオキシカルボニルメチル
、2−アミノ−2−p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルエチルナト。 (2)  シクロアルキル基 シクロアルキル基としては、炭素原子数3〜15個、好
ましくは3〜10個、さらに好ましくは3〜6個のもの
が適しておυ、かかるシクロアルキル基には環上に低級
アルキル基を有するものをも包含する。かくして、かか
るシクロアルキル基の代表例には、シクロプロピル、シ
クロブチル、シクロヘンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘンチル、シクロオクチル、4−メチルシクロヘキシル
、4−エチルシクロヘキシル等が挙げられる。 (3)  シクロアルキル−アルキル基このシクロアル
キル−アルキル基は、シクロアルキル部分が上記(2)
に記載した意味を有し、且つアルキル部分が低級アルキ
ル基であるものが好ましい。即ち、炭素原子数が4〜1
9個、好ましくは4〜14個、特に4〜10個のシクロ
アルキル−アルキル基が適している。そのようなシクロ
アルキル−アルキル基としては、例えばシクロペンチル
メチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル
、シクロヘプチルメチル、等が挙ケラれる。 (4)置換又は未置換のアリール基 (4−1) アリール基は単環又は多環のいずれであっ
てもよく、通常6〜18個、好ましくは6〜14個、さ
らに好ましくは6〜10個の炭素原子を有することがで
きる。かかる了り−ル基の代表例には、フェニル、トル
イル、キシリル、ナフチル等が含まれる。 (4−2)  該アリール基は芳香核上に置換基を有す
ることができ、置換基の例には、ハロゲン原子、低級ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、低級ハロアルキル基、ア
シルオキシ基、アシルアミノ基、カルボキシル基又はそ
の塩、低級アルコキシカルボニル基、水酸基、ニトロ基
等が挙げられる。 かくして、かかる基で置換されたアリール基の例Itc
ハ、p−クロロフェニル、p−メトキシフェニル、p−
トリフルオロメチルフェニル、p−アセチルオキシフェ
ニル、p−アセチルアミノフェニル、p−メトキシカル
ボニルフェニル、p−二トロフェニル、2.4−−/ニ
トロフェニル等カ包含される。 (5)  f?i換又は未置換のアラルキル基(5−1
)  アラルキル基は単環又は多環のいずれであっても
よく、アルキル部分は低級のものが好ましい。しかして
、該アラルキル基は通常7〜25個、好ましくは7〜2
2個、さらに好ましくは7〜19個の炭素原子を有する
ことができる。 かかるアラルキル基としては、例えばベンジル、p−t
ert−ブチルベンジル、p−メチルベンジル、2,4
−ジメチルベンジル、2,4.6−トリメチルペンジル
、ベンズヒドリル、1,1−ジフェニルエチル、1.1
−ジフェニルプロピル、1.1−ジフェニルブチル、ト
リチル、p−メチルトリチル等が挙げられる。 (s−2)  一方、該アラルキル基の芳香核上には置
換基が存在していてもよく、かかる置換基としては、中
でも、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、アリーロキシ
基、低級ノ)ロアルキル基、アシルオキシ基、アシルア
ミノ基、カルボキシル基又はその塩、低級アルコキシカ
ルボニル基、水酸基及びニトロ基が好適でちり、これら
の基で1換されたアラルキル基の代表例には、p−クロ
ロベンジル、p−ブロモベンジル、p−メトキシベンジ
ル、p−tprt−ブトキシベンジル、3,5−ビス−
t e r t −7’ )キシ−4−ヒドロキシベン
ジル、m−フェノキシベンジル、p  )’Jフルオロ
メチルベンジル、〇−もしくはp−ピパロイルオキシベ
ンジル、p−アセトキシベンジル、p−ベンゾイルオキ
シベンジル、p−2−エチルヘキサノイルベンジル、p
−ベンズアミドベンジル、p−カルボキシベンジル(該
カルボキシル基のアルカリ金属塩の基も含む)、p−メ
トキシカルボニルベンジル、p−エトキシカルボニルベ
ンジル、p−プトキシカルボニルベンジル、p−ヒドロ
キシベンシル、o−もしくはp−ニトロベンジル、p−
クロロベンズヒドリル、p−メトキシベンズヒドリル、
p−アセトキシベンズヒドリル、p−ニトロベンズヒド
リル、m−もしくはp−クロロトリチル、p−ブロモト
リチル、p−メトキシトリチル、p−エトキシトリチル
、p−ニトロトリチル等が挙げられる。 しかして、本発明により提供される前記式(1)の化合
物の代表例を示せば次のとおりである。 3.7−シオキソー6−〔N−メチル−N−メトキシカ
ルボニルコアミノ−1−アザビシクロ〔)2.0)へブ
タン−2−カルボンHp−ニトロベンジルエステル、 3.7−シオキソー5−1:N−ベンジルオキシカルボ
ニル−N−メチルコアミノ−1−アザビシクロ[3,2
,01へブタン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル、 3.7−シオキソー6−CN−エトキシカルボニル−N
−メチルコアミノ−】−アザビシクロ〔3゜101ヘプ
タン−2−カルボンHp−ニトロベンジルエステル、 3.7−シオキソー6−[N−tart−ブトキシカル
ボニル−N−メチルコアミノ−1−アザビシクロ(3,
2,0”lヘプタン−2−カルボン酸p−ニトロベンジ
ルエステル、 3.7−シオキソー6−〔N−メチル−N−p−二トロ
ベンジルオキシカルボニル〕アミノ−1−アゾビシクロ
[2,01へブタン−2−カルボン酸p−ニトロベンジ
ルエステル、 3.7−シオキソー6−〔N−エチル−N−メトキシカ
ルボニルコアミノ−1−アザビシクロ〔λ2、O〕へブ
タン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 3.7−シオキソー6−INN−トリフルオロメチル−
N−メトキシカルボニルコアミノ−1−アザビシクロC
3,2,0]へブタン−2−カルボン酸p−ニトロベン
ジルエステル、 3.7−シオキソー6−CN−トリフルオロエチル−N
−メトキシカルボニルコアミノ−1−アザビシクロ[2
,0]へブタン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル、 3.7−シオキソー6−〔N−フルオロエチル−N−メ
トキシカルボニルコアミノ−1−アザビシクロ[3,2
,O)ヘプタン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル、 3.7−シオキソー6−〔N−プロピル−N−メトキシ
カルボニルコアミノ−1−アザビシクロ〔3,λO〕へ
ブタン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 39.7−シオキソー6−CN−)リフルオロメチル−
N−エトキシカルボニルコアミノ−1−アザビシクロI
: 3.2.01へブタン−2−カルボン酸p−ニトロ
ベンジルエステル、 3.7−シオキソー6−〔N−メチル−N−メタンスル
ホニルコアミノ−1−アザビシクロ〔3,20〕へブタ
ン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 3.7−シオキソー6−〔N−メチル−N−エタンスル
ホニルコアミノ−1−アサヒシクロ[3,20〕へブタ
ン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 3.7−シオキソー6−〔N−メチル−N−ベンゼンス
ルホニルコアミノ−1−アザビシクロ〔12,01へブ
タン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 3.7−シオキソー6−〔N−メチル−N−)ルエンス
ルホニル〕アミノー1−アザビシクロ〔&2.0)へブ
タン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 3.7−シオキソー6−〔N−メチル−N−p−フルオ
ロベンゼンスルホニルコアミノ−1−7fビシクロ〔3
,zO〕へブタン−2−カルボン酸p−ニトロベンジル
エステル、 3.7−シオキソー6−〔N−トリフルオロメチル−N
−メタンスルホニルコアf/−1−7f ビシクロC3
,2,0)へブタン−2−カルボン酸p−ニトロベンジ
ルエステル、 3.7−シオキソー6−〔N−エチル−N−メタンスル
ホニル〕アミノーJ−アザビシクロ[3,20]へブタ
ン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 3.7−シオキンー6−〔N−フルオロエチル−N−メ
タンスルホニルコアミノ−】−アザビシクロ[” 3.
ZO]へ]ブタンー2−カルボン酸p−ニトロベンジル
エステル 3.7−シオキソー6−CN、N−ジメチルコアミノ−
1−アザビシクロ[”3.2.O)ヘプタン−2−カル
ボン酸p−ニトロベンジルエステル、3.7−シオキソ
ー6−〔N−メチル−N−エチルコアミノ−1−アザビ
シクロC3,2,0]へ]ブタンー2−カルボン酸p−
ニトロベンジルエステル3.7−シオキソー6−〔N−
メチル−N−プロピルコアミノ−1−アザビシクロ〔λ
2.O〕へブタン−2−カルボン酸p−ニトロベンジル
エステル1 3.7−シオギソー6−〔N−メチル−N−)リフルオ
ロメチルコアミノ−1−アザビシクロ〔12,03へブ
タン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 3.7−シオキソー6−〔N−メチル−N−フルオロエ
チルコアミノ−1−アザビシクロl: 3.ZO]ヘプ
タン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル、 3.7−シオキソー6−(N、N−ジエチルコアミノ−
1−アザビシクロ[3,2,O)ヘプタン−2−カルボ
ン酸p−ニトロベンジルエステル、3.7−シオキソー
6−〔N−エチル−N−)リフルオロエチルコアミノ−
1−アザビシクロ〔λZO”]]ヘラタン−2−カルボ
ンニトロ二トロペンジルエステル 3.7−シオキソー6−〔N−エチル−N−フルオロエ
チルコアミノ−1−アザビシクロ〔3,λO’1ヘプタ
ンー2−カルボン[p−二トロペンジルエステル、 3.7−シオキソー6−〔N−メチル−N−ベンジルコ
アミノ−1−アザビシクロC3,2,O]]ヘプタンー
2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル 3.7−シオキソー6−〔N−エチル−N−ベンジルコ
アミノ−1−アザビシクロ[3,2,0”lヘプタン−
2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステルなど。 式(1)の化合物は2−位、5位及び6−位に3個の不
斉炭素原子を有しておシ、下記に示す如き立体異性体が
存在する。 (1−c>          (I −d ”)(I
−e)(If) (t−g)          (■−h)本発明の式
(1)の化合物にはこれらの異性体すべてが包含される
が、中でも式(1−a)及び(I−b)の異性体が特に
好適である。 本発明によシ提供される式(1)の化合物は従来の文献
に未載の新規な化合物であり、それ自体既知であるか又
は既知の化合物と同様にして製造することができる下記
式(1)の化合物から出発して、下記反応式Aに示すル
ートによシ合成することができる。 上記式中、X、及びXtはそれぞれノ・ロゲン原子を表
わし:1t、及びR・、はそれぞれアルキル基の如きカ
ルボキシル保護基を表わし;R2,は式(V−1)にお
ける−〇〇〇R4以外のFL2に対して定義した基を意
味し;lLい几、及び几、は前記の意味を有する。 まず、式+It)の化合物〔例えば、M、Aratan
ipt al、 、 Tetrahedron Let
ters 、 Vol 26、A2、pp 223−2
26 (1985)参照〕をR,X、でN−アルキル化
する。このN−アルキル化はそれ自体既知の方法、例え
ばエム、イー、ケーン(M、 E、 Kuehne )
  らジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサ
エティー(J、Am。 Chem、 Soc、) 、 83.1492(196
1)に記載の方法に従い、式(lI)の化合物を適当な
不活性溶媒中で低級アルキル・・ライド(”+X+)例
えばヨウ化メチルと25〜40℃の温度で反応すること
により行なうことができる。 得られる式(夏)の化合物はオゾン分解、次いでアルコ
−リンスに付すことによ)式(IT)の化合物に変える
ことができる。このオゾン分解により、式(船の化合物
は一旦下記式 C0OR。 の化合物となり、この化合物をアルコーリシス、例えば
メタノーリシスすることによって式(■)の化合物が生
成する。このオゾン分解及びアルコーリシスはそれ自体
既知の方法、例えば新香ら、テトラヘドロンレターズ(
Tetrahedron Letters)26.22
3(1985)に記載の方法で行なうことができ、オゾ
ン分解は例えば、式(1)の化合物を適当な不活性溶媒
中で約−70〜−60℃の温度においてオゾンガスと接
触させることによシ行なうことができ、その生成物は単
離することなく、そのtまアルコール、例えばメタノー
ルを加えて加熱還流することKよって式(ff)の化合
物にすることができる。 かくして生成する式(ff)の化合物はジョーンズ酸化
することによ9式(v−i)の化合物に導くことができ
る。このジョーンズ酸化もまたそれ自体既知の方法〔例
えばディ・ジエイ、−−ト(D、J。 t−1art)  ら、テトラヘドロン・レターズ(T
e t r a−hedron Letters)26
.5493(1985)参照〕に従い、式(IV)の化
合物を三酸化クロムの硫酸溶液で処理することによυ行
なうことができる。 かくして得られる式(V−1)の化合物の3−位のアミ
7基における置換基−COOR4は、ここで前記R1に
対して定義した他の置換基と交換することができる。す
なわち、式(V−1)の化合物をエステル化して2−位
側鎖中のカルボキシル基を保朽した〔式(Vl)の化合
物〕後、それ自体既知の方法で水素添加分解して、例え
ば10%Pd−C触媒の存在下に室温で常圧又は加圧し
た水素と接触させて、−COOR,基を離脱させ〔式(
■)の化合物〕、次いで弐R! I Xtの化合物、例
えばクロルギ酸アルキル、メシルクロライド、トシルブ
ロマイド、ヨウ化メチル等と反応させ、最後にカルボキ
シル保護基を加水分解等によ)離脱させることKよシ、
式(V−2)の化合物に訴導することができる。 上記式(V−1)の化合物及び式(V−2)の化合物、
すなわち、下記式 式中、R1及びRtは前記の意味を有する、の化合物は
、本発明の式(1)の化合物及び/又は前述したジー置
換アミノカルバペネム系抗生物質に導くための重要な中
間体である。 上記式(V)の化合物は次いでカルボジイミダゾールと
反応させて、2−位側鎖中のカルボキシル基を活性化し
た後、下記式 のマロン酸モノマグネシウム塩とそれ自体既知の方法〔
例えば、ディ、シイ、メリロ(D、 G、 Me −1
i11o、)ら、テトラヘドロンレターズ(Tet r
a−hedron Letters)21.2783 
(1980)参照〕により反応させて式(IX)の化合
物に変えることができる。 得られる式(IY)の化合物はそれ自体既知の方法、例
えば、前記の文献に記載の方法に従い、例えば有機塩基
の存在下にトシルアジドで処理することにより、式(X
)の化合物に変えられる。 式(X)の化合物の環化け、適当な不活性溶媒中で、ロ
ジウムアセテート二量体の存在下に還流温度で加熱する
ことにより行なうことができ、かくして式(1)の化合
物が生成する。 生成する式(夏)の化合物はそれ自体既知の手段、例え
ばクロマトグラフィー、溶媒抽出、再結晶等によシ分離
、精製することができる。 本発明により提供される式(1)の化合物は、化学的に
もデヒドロペプチダーゼに対しても安定な6−二置換ア
ミノカルバペネム系抗生物質、例えば式中、几、及びR
1は前記の意味を有する、の化合物又はその塩の製造中
間体として有用である。式(1)の化合物から式(XI
)の化合物への誘導は下記反応式Bに示すルートによシ
行なうことができる。なお、該反応に際して、式(1)
の化合物は反応液から分離精製することなくそのまま用
いることもできる。この反応の詳細は後記実施例11〜
13.19〜21.26〜28及び33〜35に記載さ
れている。 反応式B 式(′A)の化合物又はその塩 上記式中、φはフェニル基を表わし;R1及び几、は前
記の意味を有する。 上記の反応により得られる式(XI)の化合物は、以下
に示す試験結果から明らかなように、良好な抗菌活性を
有し、しかも従来のカルバペネム系抗生物質の欠点であ
ったデヒドロペプチダーゼにより分解されるという欠点
がなく極めて安定であり、抗菌剤として有用である。 抗菌活性の測定は、日本化学療法学会標準法にもとづく
寒天培地希釈法で行なった。本発明の化合物の2倍希釈
の列をM15017ン酸緩衝液(pH7,0)で調製し
、この溶液1dとミューラーヒントン寒天培%1(Di
fco′F+’1l)9 ”l/とを9.径のシャーレ
内で混和し平板とした。検定菌はミューラーヒントンプ
ロス培地(Dirco)で35℃で1夜静置培養し、生
理食塩水で約10 Ce1ls/ILtとなるように希
釈した。この接種菌液をミクロプランタ−(佐久間製作
所)を用いて寒天平板上に接種した 平板は35℃で1
8時間培養し、菌の生育が完全に阻止される最低の薬剤
濃度をその菌に対する本発明の化合物の最小発育阻止濃
度(MIC)とした。 結果を下記表1に示す。 イヌ腎臓のミクロゾーム画分よジアセトンパウダーを調
製した。このア七トンパウダー250m9に25mの2
0%ブタノール−M/20リン酸緩衝液(pH7,0)
を加え、5℃で2時間攪拌し、デヒドロペプチダーゼの
可溶化を行った。次いで、水5Lに対して透析を3回く
シ返した後酵素標品として使用した。市販の各種動物腎
アセトンパウダー(シグマ社製、カタログムに7625
:イヌ)も同様操作によジデヒドロペプチダーゼ活性を
可溶化調製した。 M/10)リス・塩酸緩衝液(p)(7,0)によって
1m9/at@変に調製した被験薬剤溶液0.2−と上
記酵素標品0.2 aZを混和し、37℃に保温した光
路長1.Ouの石英キュベツト中で300及び340m
mKおけるUVの減少を日立ダブルビーム分光光度計2
00−10型によシ追跡した。反応開始時の0.D、を
100%とし、各反応時間の0、D、  バーセントに
よシ薬剤の安定性を比較した。 その結果を添付の第1図に示す。 該図から明らかなごとく、本発明の化合物は、既知のカ
ルバペネム系抗生物質から予想できない程の腎デヒドロ
ベブチダーセに対する安定な化合物の合成中間体とし有
用である。 次忙実施例により、本発明をさらに具体的に説明する。 実ガ例1 6−アミツベニシラン酸(1〕50.6 f (234
【圃of)を炭酸ナトリウム24.8 f (234m
mol)を含む水400dに溶解し、これにN−カルボ
エトキシ7タルイミド61.6 f (280mmol
)を加え、室温で16時間激しくかくはんした。 反応液を塩化メチレンで一回洗浄した後、4N塩酸を加
えて液性をpH〜2とし、塩化メチVンにて3回抽出し
た。有機層を合わせて水で2回洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥した。 溶媒を留去して76.49の粗カルボン酸を得た。 これをN、N−ジメチルホルムアミド(500m)K溶
解し、これに炭酸水素ナトリウム37.1F(441m
mol)  とヨウ化メチル27.5 d (441m
mol)を加え、室温で16時間かくはんした。 反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を塩化メチレン−水
で分液した。水層を塩化メチレンで再抽出し、有機層を
合わせて水、飽和食塩水にて順次洗浄した。硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、溶媒を留去して結晶状残渣80fを
得た。これを沸騰アセトンより再結晶し、表題化合物を
白色結晶として48.2 f (57%)得た。 mp  1 74−1 77.5℃ II(NMI((CDCI、) δ 1.5 1  (3H,s、  C,−m eth
yl) 、1.81 (3)(、s、     p  
  )・3.79 (3H,s、 CO,CH,)、4
.63 (I H,s、 H−2)、5.52 (IH
,d、 J==4Hz、 H5)、5.61(IHld
、 J =4Hz、 I−T−6)−7,67,9(4
H,m、pbenyl)。 実施例2 ブタン〔3〕の製造 (21(、、5几、6R)−3,3−ジメチル−2−メ
トキシカルボニル−7−オキソ−6−7タルイミドー4
−チア−1−アザビシクロ〔3,2,0〕へブタン[2
’11309(0,361mol)を塩化メチレンXt
に溶解し、これに1,8−ジアザビシクロ[5,4,0
]ウンデ−7−二75阿1(33,4mm o l )
を加えて、室温で16時間かくはんした。 反応液を冷0.IN塩酸水溶液500t(で洗浄し、つ
いで水5QQsjで洗浄、硫酸ナトリウムにて乾燥した
。溶媒を留去し、得られた結晶状残渣をベンゼンよ)再
結晶し、表題化合物を白色結晶として90?得た。 結晶化母液を濃縮し、得られる残渣をシリカゲル400
9のカラムに吸着させベンゼン−酢酸エチル(10:1
)にて溶出させ、溶出部でベンゼン/酢酸エチル(5/
1)展開のシリカゲルTLCにてRf=0.47にUV
吸収を示す区分を集めて減圧濃縮し、表題化合物を結晶
状残渣として更に38?(計1281.98.5%)得
た。 mp184186℃ l−1CI IHW     ’  1785(shoulder)
、1775、ax 1725cm’ IHNMIL(CDCI、) δ1.47 (3H,s、C,methyl)、1.6
4(38% S、   〃    )、3.76(3H
1s、 CQ2C)I、)、4.58 (I H,s、
 H−2)、5.34 (I H,、d、 J =2H
zXH5)、5.52(IH,d、J=2Hz、H−6
)、7.6−7.9 (4H,m、phenyl)。 実施例3 し3j (2R,,5R1,68)−3,3−ジメチル−2−メ
トキシカルボニル−7−オキソ−6−7タルイミドー4
−チア−1−アザビシクロ[:310]へブタン[3]
70f(194mmol)を塩化メチレン7001に溶
解し、これを−60℃に冷却し、塩素25 atを含む
四塩化炭素溶液(150m)を滴下した。反応液は一6
0℃で1時間、ついで室温で1時間かくはんした。反応
液を塩化メチレンで希釈し、冷飽和重曹水で3回、つい
で水で2回洗浄した。硫酸す) IJウムで乾燥の後、
溶媒を留去して得られたシロップを少量の塩化メチレン
を用いてシリカゲル(7soy)のカラムに吸着させ、
ベンゼン/酢酸エチル(30/1.20/1)にて段階
的に溶出させた。溶出部でベンゼン/酢酸エチル(4/
1)のシリカゲルTLC上、ILfo、54にUV吸収
をみせる区分を集めて減圧濃縮し、表題化合物42.3
 F (60%)を無色のシoツブ状として得た。 ’HN〜H(、(CDCI、) p−3o(3Hxs、   #)、 3.74(3XiH,s、cis体CO!Me)、3.
81(3%%H,s、 trans体CO1Me)、5
.53(%H% L J=1.5Hz、 trans体
H−3)、5.62 (iH,d、 J==4.3Hz
、 cis体H−3)、6.15 (iH,、ds J
==4.3Hz、  cis体H−4)、6.18(%
l(、d、J == 1.5Hz、t rans体H−
4)、7.55−7.85 (4H,m、 pheny
l )。 実施例4 −3−メチル−1−プロペニル)−3−フtpルイミド
−4−(2−7’ロベニル)−2−アゼチジノン〔5〕
の製造 (38,4几)−及び(38,4S)−4−クロロ−1
−(1−メトキシカルボニル−3−メチル−1−プロペ
ニル)−3−7タル4ミ)’−2−アゼチジノンC4]
 4.589 (12,6mmol)を塩化メチレン1
00m1に溶解し、これにアリルシラン3.05m(1
9,2mmof)を加えた。反応液を一60℃に冷却し
、四弗化ホウ素酸銀2.8?(純度90%として12.
6 mmol )を加えた。反応液を約2時間かけて0
℃まで昇温し、ついで0℃で2時間かくはんした。 不溶物を戸別し、炉液を冷飽和重曹水で2回、水、飽和
食塩水で1回づつ順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
した。 溶媒を留去して得られたシロツ゛ブを少量の塩化メチレ
ンに溶解してシリカゲル(120t)のカラムに吸着さ
せ、ベンゼン/酢酸エチル(20/1.10/1.6/
1)にて段階に展開した。溶出部のうちベンゼン−酢酸
エチル(4:1)を族8FJ系とfる’rLC上、Rf
=0.30KUV吸収をみせる区分を集めて減圧濃縮し
、表題化合物3.722(80%)を無色の無定形固体
として得た。 1720cIn−’ Z26 (3H% ss   p  )、Z46 (2
H,bt、 J=7Hz、 methylene)、3
.83 (3H,s、 CO,CH8)、4.42 (
IH,td%J=2.5及び7.0Hz、 H4)、4
.9−5.2 (2%1m、=CH,)、5.12 (
I H,d、J=2.5Hz、H−3)、7.5.5−
7.85 (4H,m、  phenyl )。 実施例5 の製造 6J (3R,4R)−1−(1−メトキシカルボニル−3−
メチル−1−フロベニル)−3−:lルイミ)”−4−
(2−プロペニル)−2−アセチジノンC5] 21.
8 f (59,2mmol)をメタノール140m%
塩化メチレン140m1の混合溶媒に溶解し、これにジ
メチルアミノプロピルアミン16.4m1(130mm
ol)を加え、 40−45℃にて17時間かくはんし
た。 反応液を減圧濃縮し、得られたシロップを少量の塩化メ
チレンに溶解させシリカゲル(6009)のカラムに吸
着させ、酢酸エチル、ついで酢酸エチル/メタノール(
10/1.8/1.6/1 )にて段階的に溶出させた
。溶出部のうち酢酸エチル/メタノール(3/1)を展
開系とするTLC上、I(、fo、52にUV吸収を持
つ区分を潰めて減圧濃縮し、表題化合物10.91(7
7%)を無色のシロップとして得た。 】640.1630cm−’ IHNMR(CDCI、) δ1.74(2H1s、NHり、 2.17(3H,s、   tr   )、2.37 
(2H,bt、J 〜7Hz、methylene)3
.6−3.8 (2H,m、、FT−3及びH−4)、
3.73(3H1s、CO2Me)、 4.9−5.2 (2H,m、ビニル)、5.4 6.
0 (I H,m、ビニル)。 実施例6 −2−アゼチジノン〔7〕の製造 〔6〕 (3R,4R)−3−アミノ−1−(1−メトキシカル
ボニル−3−メチル−1−プロペニル)−4−(2−7
’ロペニル)−2−アゼチジノン[6] 5.05 f
 (21,2mmol)をジオギサン(30ml)Ic
溶解し、これにベンジ/L/8−4.5−ジメチルピリ
ミジン−2−イルチオカーボネー) 6.4 f (2
3,3mmol)のジオキサン溶液(60d)を室温で
滴下し、さらに室温で16時間かくはんした。反応液に
ベンゼン(100M)を加え、不溶物を戸別し、炉液を
濃縮して得られたシロップを少量の塩化メチレンに溶解
してシリカゲル(5001のカラムに吸着させ、ベンセ
ン、ツいでベンゼン/酢酸エチル(10/1.5/1.
3/l)にて段階的に溶出させた。溶出部のうちベンゼ
ン−酢酸エチル(4:1)を展開系とするTLC上、a
t = 0.20 K UV吸収ヲ有スル区分を集めて
減圧濃縮し、表題化合物7.66F(97%)を無色の
シロップとして得た。 (”MCI IRy    ’3410.1755.1715cm−
”ax IHNMR(CDCI、) λ22(3H,s、   tt  )、2+47 (2
H,bt、 J 〜5Hz、 methylene)、
3.80 (3H,s、 Co、CH,)、4.02 
(I H,td、 J =45及び6 Hz% H4)
、4.62(IHlm、H−3)、 5.05(IH,b%NH)、 5.20 (2H,s、ベンジル)、 5.1〜5.2 (I H,m、  ヒニh )、5.
55〜6.20 (2H,m、 ビニル)、7.45 
(5H,s、 phenyl)。 実施例7 (3R,4R) −3−(N−ベンジルオキシカルボニ
ル)メチルアミノ−1−(1−メトキシカルボニル−3
−メチル−1−プロペニル) −4−製造 e (3R,4R)−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−1−(1−メトキシカルボニル−3−メチル−1−7
’ロペニル)−4−(2−7’ロベニル)−2−アゼチ
ジン71.15 f (3,09mmol)をN、N−
ジメチルホルムアミド20117に溶解し、これに酸化
銀3.58 f (15,5mmol)  とヨウ化メ
チル3.85 ml (618mmol)を加え、密栓
して階下40℃で16時間反応させた。 反応液に酢酸エチルを加えて不溶物を戸別し、不溶物を
酢酸エチルで洗浄した。F液で洗液を合わせて減圧濃縮
し、得られた残渣を少量の塩化メチレンに溶解してシリ
カゲル(60F)のカラムに吸着させた。このカラムを
ベンゼン/酢酸エチル(10/1.5/1.3/])に
て段階的に展開し、溶出部のうちベンゼン/酢酸エチル
(3/l)で展開系とするTLC上、Rfo、41にU
V吸収を持つ区分を集めて減圧濃縮し、表題化合物1.
0Of(92%)を無色のシロップとして得た。 HC1 1几ν   ’ 1755.1730 (should
er)、ax 1700crn ’ 2.20(3H1s1〃)、 Z37 (2HSm、 methylene)、3.0
1 (3H,s、 NMe)、 3.74 (3H,s、 Do、CH,)、3.98 
(1)1. td、 J=Z5及び6. Q Hz s
 H4)、4.8−5.2 (38%m、  ビニル、
H−3)、5.14 (2H,s、ベンジル)、 5.3−5.8 (I H,m、ビニル)、7.34(
5H,s、フェニル)0 実施例8 (3FL、4R)−3−(N−ベンジルオキシカルボニ
ル)メチルアミノ−4−カルボキシメチル−e
〔9〕 (3几、4R)−3−(N−ベンジルオキシカルボニル
)メチルアミノ−1−(]−]メトキシカルボニルー3
−メチル1−プロペニル)−4−(2−プロペニル)−
2−アセチジノン〔8〕4.9 Of (117mmo
l) をメタノール(140d)に溶解し、−65℃の
冷却下オゾンガスを4時間吹きこんだ。チッ素ガスを吹
きこみ過剰のオゾンを駆逐した後ジメチルスルフィド4
mを一65℃で加え、ついで室温で一晩かくはんした。 反応液を減圧濃縮し、更に減圧下によく乾燥して得うれ
たシロ°ツブをアセトン501に溶解し、0℃にてジョ
ーンズ試薬5.0aLl(13,4mmol)を滴下し
た。0℃で1時間反応させた後、少量の2−プロパツー
ルを加えて更に1o分間かくはんした。 反応液を減圧下に約10mまで濃縮した後、酢酸エチル
に注加し、有機層を水、飽和食塩水にて順次洗浄し、硫
酸す) IJウムにて乾燥した。 溶媒を留去し得られたシロップをメタノール5Qa/に
溶解し、60℃にて5時間加熱した。反応液を減圧濃縮
し、得られた残渣を酢酸エチルに溶解し、酸性成分を稀
重曹水にて抽出した。水層を4規定塩酸でpH2とし、
酢酸エチルで3回抽出した。 有機層を飽和食塩水で2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を留去し、表題化合物2.732(74%)
を無色のシロップとして得た。 (コHCI IRV    33270,1770,1745、la
X + 700an−’ n ’F(NMR(CDCI、) δ2.4  Z9 (2H,m、 methylene
)、2.99 (3H,s、 NMe)、 3.7−4.1 (I H,m、 H−4)、4.85
 (IH,bs、 H−3)、5.13 (2HSs、
ベンジル)、 7.2 (11−1、bs、NH)、 7.35(5T−T、sl フェニル)、9、’03 
(I H,bs、 C00H)。 実施例9 e (3FL 、 4R,)−3−(N−ベンジルオキシカ
ルボニル)メチルアミノ−4−カルボキシメチル−2−
アゼチジノンC9] 410WI9(1,40rrmo
l)をテトラヒドロフラン(5d)に溶解し、室温でカ
ルボニルジイミダゾール250 m? (1,54mm
ol)を加え、室温で2時間かくはんした。 この反応液にマロン酸水素p−ニトロベンジル603叩
(2,52mmol)とマグネシウムエトキシド144
1!(1,26mmol)よシテトラヒドロフラy中で
Mmしたマグネシウムp−ニトロペンシルマロネートの
テトラヒドロフラン溶液6117を室温で滴下した。 反応液は室温で10分間かくはんした後、55〜60℃
にて15時間加熱した。反応液を酢酸エチルで希釈し、
冷0.3規定塩酸、冷飽和重q水、飽和食塩水にて順次
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。 溶媒を留去して得られるシロップをシリカゲル(23r
)のカラムに塩化メチレンを用いて吸着させ、ベンゼン
/アセトン(10/1.7/1.5/]、3/1)にて
段階的に溶出させた。溶出部のウシベンゼン/アセトン
(2/1)i展開系とするTLC上、Rfo、35にU
V吸収を示す区分を集めて減圧濃縮し、表題化合物3 
s 1rrtq (53%)を無色のシロップとして得
た。 HCI IRν   ’ 3390.1770.1750 (s
hou Id−ax er)、1700,1520.1350an−’’HN
MR(CDCl、) δ2.70 3.15 (2Hs m、 C:、’ m
ethylene)、2.99 (3H,s、 NMe
 )、3.54 (2H,bs、 C,’ methy
lene)、3.91 (tH,m、 H−4)、 4.80(IH,bs%H−3)、 5.12 (2H,s、ベンジル)、 5.23 (2H,s、ベンジル)、 6.58(IH,b、NH)、 7.35 (5)(%  3% 7−1−ニル)、7.
52 (2H,d、 J=7Hz、 7zニル)8.2
2(2H1d、J =7Hz%tr  )。 ′:j!施例】O 〔11〕 (3FL、41(、)−3−(N−ベンジルオキ7カル
ボニル)メチルアミノ−4−(3−p−二トロベンジル
オキシカルボニル−2−オキソ)フロピルー2−アゼチ
ジノン[1o〕1.s 3 t (3,26mmol)
をアセトニトリル12 *VCR%4し、ついでトシル
アジド964呵(4,89mmol)を加えた。 これに0℃でトリエチルアミン0.73麿1(5,24
r]mol)を滴下し′そ。反応液は0℃で30分、つ
いで室温で1.5時間かくはんした。 反応液を減圧fQ縮1−て得られたシロップを少量の垣
化メチレンにてシリカゲル70fのカラムに吸着させベ
ンゼン/アセトン(10/1.8/]、6/1.4/1
)にて段階的に溶出させた。溶出T3のうちベンゼン/
アセトン(2/1)を艮開系するとTLC上、1Lfo
、56にUM吸収を示す区分を!(1めて減圧日給し、
表題化合物1.55F(96%)を無色の発泡性シロッ
プとして得t。 HCI If−Lν   ’  3390,2140,1765
、1aX 1720 (shoulder)、1710゜1690
 (shoulder) 1520.1 345 cm
−’ IHNMR(CDCI、) δ3.03 (3H,s、 NMe )、3.10−3
.70 (2H,m、methylene)、4.03
 (I H,m、 H−4)、4.93 (I H,b
s、 H−3)、7.43(5H1s 、 7 工=h
 )、7.62 (2H,d、 J=8.5Hz、フェ
ニル)、8.33 (2H,d、J=8.5Hz、7x
=ル)。 実施例11 e (3R,4B) −3−(N−ベンジルオキシカルボニ
ル)メチルアミノ−4−(3−ジアゾ−3−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−2−オキソ)プロピル−2
−アゼチジノン[1115559(1,12mmol)
をベンゼン5Qsuに溶解し、これにロジウムアセテー
ト・ダイマー約20■を加え40分間加熱還流した。 放冷後、反応液をベンゼンにて希釈し、飽和食塩水にて
2回洗浄した。硫酸ナトリウム上で乾燥後溶媒を留去し
、表題化合物を淡黄色の発泡性シロップとして5249
(100%)得た。 HC1 エルν   ’  1770,1750.1735ax (shoulder)、1695.1520゜1345
cIIL−’ IHNMR(CDCI、) δ2.60−2.93 (2B、 m、 C,meth
ylene)、3.13 (3H,s、 NMe)、 4、22 (I Hltd、 J=2.0及び7.2H
zXH−4)、4.84 (I H,s、 H−2)、
5.21 (2H,s、 ヘンシル)、5.2−5.5
 (I H,m、 H−6)5.34 (2H,bs、
ベンジル)、7.45 (5T(XS、フェニル)、7
.57(2)T、d、J=8Hz、フェニル)、8.3
0 (2)T、 d、 J=8Hz、 7z=ル)、実
施例12 e )At、N e 〔13〕 (2rL、5R,6R)  6−(N−ベンジルオキシ
カルボニル)メチルアミノ−3,7−シオキソー1−ア
ザビシクロ[3,2,0]へブタン−2−カルボン酸p
−ニトロベンジルエステル〔12〕5231n9(1,
12mmol)  をN、N−ジメチルホルムアミド8
dに溶解し、−50℃の冷却下、トリエチルアミン0.
234a/(1,68mmol)、ついでジフェニルリ
ン酸クロリド0.279 ml(1,35mm o 1
 )を滴下した。反応液を一50℃で40分間かくはん
した後、トリエチルアミンかに÷十−−0.187ar
(1,34mmoりとN−アセチルシステアミン200
19(1,68mmol)のDMF溶液(2d)を−5
0℃で滴下した。 一50℃で2時間かくはんした後、反応液を塩化メチレ
ンに性別し、冷0.1Mリン酸ナトリウム緩衝液(pH
7,0)にて3回洗浄した。硫酸ナトリウム上で乾燥し
た後、減圧濃縮し、約51の溶液とした。これをシリカ
ゲル(25f)のカラムに吸着させ、ベンゼン/アセト
ン(5/1.4/1.2/1)にて段階的に溶出させた
。 溶出部のうちベンゼン/アセトン(1/1)t−展開系
とするTBG上、Rf 0.58 KUV吸収を示す区
分を集めて減圧濃縮し、表題化合物382〜(60%)
を無色のシロップとして得た。 (shoulder)、1690.1665.1520
.1330cm−’ IHNM几(CDCIs) δ2.00(3H%s、NAc)、 2.9−3.7(60、m、 3Xmethylene
)、3.09 (3H,s、 NMe)、 4.37(IHltd、J=3.0及び9.0Hz、H
−5)、5.24 (2H,s、ベンジル)、 5.2 5.4 (1r−i、 m、 H−6)、6.
12(IH,b、 NF()、 7.46 (5H,s、 フェニル)、7.74(2H
,d、J=8Hz、7zニル)、8.30 (2H,d
、 J =8Hz、 7!=ル)。 実施例】3 オ)−6−(N−ベンジルオキシカルボニル)メチルア
ミノ−7−オキソ−1−アザビシクロ〔12,01へブ
タ−2−エン−2−カルボン酸ナトIJe 〔]4〕 (5ル、6几)−3−(2−アセタミドエチルチオ)−
6−(N−ベンジルオキシカルボニル)メチルアミノ−
7−オキソ−1−アザビシクロ1:3.2.01へブタ
−2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステ
ル〔131144〜(0,25mmol)をN、N−ジ
メチルホルムアミド(7117)に溶解し、ついでこれ
に0.1 Mリン酸ナトリウム緩衝液(pH7,8)5
aZと10%パラジウム炭素10011tiiPを加え
た。これを4気圧の水素気流下パールの装置で1.5時
間振とうした。 触媒を戸去し、0.01 Mリン酸ナトリウム緩衝液(
1)87.4)で′よく洗浄した。F液と洗液を合わせ
て、これに0. OI Mリン酸ナトリウム緩衝液(p
)17.4)を加えて総ll:55−とし、これをあら
かじめ0.01Mリン酸ナトリウム緩衝液(pH7,4
)にて平衡化したQAEセファデックス 人−25(2
5mりのカラムに吸着させた。カラムを0.01Mリン
酸ナトリウム緩衝液にて洗浄した後、0、01 Mリン
酸ナトリウム緩衝液(pH7,4,100M) −0,
4M食塩水(Zoomg)CD直線濃度勾配傾斜法にて
溶出させた。溶出部のうちUVスペクトル上で3 Q 
3 nmに吸収極大を持つ区分を集め、0.1Mリン酸
ナトリウム緩衝液(pH7,4)10az、食塩3.5
tを加え、水で希釈して総量を80m1とした、 この溶液をダイヤイオンCHP−20(25m?)のカ
ラムを通し、水洗の後、水−50%2−プロパツール水
溶液の直線濃度勾配傾斜法にて溶出させた。溶出部のう
ちUVスペクトル上で303 nmK吸収極大を持つ区
分を集めて凍結乾燥して表題化合物66■(57%)を
得た。 化合物〔14〕の理化学的性状 〔α)”+54.5°(C0,198、Hlo)UV 
λ””(#): 303.5nm (8,800)ma
x IR、KBr max  1755.1695.1660,1600c
m−’ IHNMR(D!O,DSS内部標準)δ2.00(3
t4.5SNAc)、 2.8−3.3 (4H,m、 2刈nethylan
e)、3.02 (3f−t、  S、 NMe)、3
.40 (2H,t、J=6.6Hz、、methyl
ene)、4.29 (IH,td、 J=2.9及び
g、□t−iz、 H−5)、5、07 (11−1、
d、 J=2.9Hz、 H−6)、5.22(2H,
s、ベンジル)、 7.50 (5H,s、フェニル)。 実施例14 ボニル)メチルアミノ−4−メトキシカルボニルe 〔15〕 (3R,4R)−3−(N−ベンジルオキシカルボニル
)メチルアミノ−4−カルボキシメチル−2−アゼチジ
ノン
〔9〕(実施例8)15.Of(51,3mmol
)を塩化メチL/72001に溶解し、これに0℃で少
過剰のジアゾメタン−エーテル溶液(約200m+7)
を加え、0℃で2時間かくはんした。 反応液を減圧濃縮し、得られたシロップを少量の塩化メ
チレンに溶解してシリカゲル(4009)のカラムに吸
着させベンゼン/酢酸エチル(4/1.2/1.1/1
)にて段階的に溶出させた。 溶出部のうちベンゼン/酢酸エチル(1/l)のTLC
上、几f O,30にUV吸収を示す区分を膚めて減圧
濃縮し、表題化合物13.1F(83%)を得た。 IHNMR,(CDCI、) δ2.6−3.0 (2H,m、 methylene
)、3.04 (3H,s、 HMe )、3.75 
(3H,s、 Co、CHl)、3.8〜4.15 (
I H,m、 H−4)、4.85 (I H,bs、
 H−3)、5.18 (2H,s、ベンジル)、 6.7−6.9 (I H,b、 NH)、7.45 
(5H,3,7xニル)。 実施例15 e (3に、4R) −3−(N−ベンジルオキシカルボニ
ル−N−メチル)アミノ−4−メトキシカルボニルメチ
ル−2−アゼチジノン(15]5.29? (0,01
76mole)fメタノ−# 40 mに溶解し、10
%パラジウム炭素1.25Fを加え、4.5# / m
 ”の水素圧力下、3時間、振盪した。 反応液中の触媒を戸別し、P液を減圧濃縮し、アミン体
λ842得た。このアミン体をチッソ雰囲気下、塩化メ
チレン50m1に溶解し、水冷下、クロル蟻酸メチル1
.99 d (0,0259mole)とトリエチルア
ミy4.34m(0,0311mole)を加え、】5
分間攪拌し、ニンヒドリン反応により、原料の消失を確
認した。 反応液を減圧a!c4後、析出した塩を酢酸エチルを加
えた後、戸別した。F液を減圧濃縮し、シリカゲルカラ
ム(aoor)で精製しベンゼン−アセトン(1:1)
で溶出される区分を集め、表題化合物1.70?(収率
43%)を得た。 Hc l 1几スペクトルν    m、3420.1780、a
x 1740.171O NMRスペクトル(CDC13)δ   : 2.80
(2H,m。 99m Cs HJ、3.00 (3H,s、 N−CH,)、
3.63(6Hs 8% COtMe X2 )、3.
95 (I H,m。 C4−H)、4.83 < I F(、d、 J=2.
5Hz、 C。 −)()、7−35 (I Hs br −NH’) 
。 実施例16 ジノン〔17〕の製造 Me [16]     Me 3−N−カルボメトキシ−N−メチル)アミノ−4−メ
トキシカルボニルメチル−2−アゼチジノン[16] 
741!(0,32mmole)  をメタノールQ、
 55 mと水0.32mK溶解し、0℃でIN水酸化
ナトリウム水溶液0.32 m (0,32mmole
)を加え、2時間同温度で反応した。 反応液をメタノールで洗浄したAnberliteCG
−50(Hform) 40 mのカラムを通過させ(
溶出液は水)、酸性を示す区分を濃縮乾固し、クロロホ
ルムで共沸し、発泡状の表題化合物541n9(収率7
8%)得た。 C)(CI IRスペクトル し    3cm−’ : 1770
(sh)、aX 】745、1702 NMRスペクトル(CD、OD)δ   168(2H
,d。 99m J==8Hz、 C,Ht)、2.93 (3H,S、
 N −CH3)、3.70(3H,s、coocH5
)、3.95(1)T%dt%J =2.5Hz& 3
Hz、 C4−T−[)、4.72 (I H,d、 
J =Z5HzXc、−H)。 実施例】7 −2−・アゼチジノン〔18〕の製造 [17] 〔18〕 (3J41も)−3−(N−カルボメトキシ−N−メチ
ル)アミノ−4−カルボキシ−2−アゼチジノン[17
1460Q (2,13mmole)を無水T)IFl
omに溶解し、カルボニルジイミダゾール280!n9
(Z34mmole)を加え、室温で2時間攪拌した。 この反応液にマロン酸モノp−ニトロベンジルエステル
9171n9C3,83mmole)  とマグネシウ
ムエトキシド219 m9 (1,92mmole)よ
シ調製したマグネシウム塩の無水T II F溶液IQ
*/を室温で滴下した。 室温で30分間攪拌した後、55℃で15時間反応した
。 反応液を酢酸エチルで希釈し、冷0.5N塩酸、冷飽和
炭酸水素ナトリウム水飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。 溶媒を減圧濃縮後得られたシロップをシリカゲルカラム
(20?)で展開溶媒ベンゼン/アセトン(10/1.
5/1.3/1.2/] )VCで段階的に溶出精製し
、発泡性のシロップの表題化合物408m9(収率44
9g )を得た。 TRスペクトル し   傭−’  :3400.17
70、aX 1710.1605.1520、】35ONMR,スペ
クトル(CDC+、)δ   ll−95(3,5、p
nl N−CH3)、  3.06(2)1、 m、  (:
5−Hり、3.62 (2H,s、 C,、−H,)、
3.71 (3H,s。 Co、CH,)、3.93 (I H,m、 C,−H
)、4.78 (I H,d、 J =15 Hz、 
C,−H)、5.28 (2H,s、 Co、(”:H
,−Ar)、6.61(1F
【、  br、NU)、 
 7.5 2  (2H,d、  J=9.0Hz。 Ar)、8.22 (28%d、 J=9.0f4z、
 Ar )。 実施例18 ゾブロピル〕−2−アゼチジノン〔19〕の製造〔18
〕 〔19〕 (3B、4R)−3−(N−カルボメトキシ−N−メチ
ル)アミノ−4−C3−(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−オキソプロヒル〕−2−アゼチジノン
[18]222719(0,51mmole)をアセト
ニトリル2dに溶解し、窒素気流下、氷冷し、トリエチ
ルアミン114μm(0,82mmole)  とp−
トルエンスルホニルアジド1511N?(0,77mm
ole)を加え、そのまま10分間攪拌した後、室温で
1.5時間攪拌した。 反応液を減圧濃縮し、シリカゲルカラム(10?)に付
し、展開溶媒〔ベンゼン/アセトン(10/1.5/1
.3/1,2/1 )]にて段階的に溶出精製し、発泡
性シロップとして表題化合物220rn9(収率94%
)得た01765.1705.1645.1605、5
2O NMRスペクトル(CJ)CI、)δ   : 2−9
6 (3H,s。 99m N−CH,)、133 (2HSm、 C,−Hり、3
.98(I H,m、 C,−H)、4.85(IH,
d、J=15 Hz、 C8−47)、5.38 (2
H,s、 O−CH。 −Ar)、  6.78(IH,br、   N−ト■
 )、  7.56(2ト一、  d% J=+3.0
Hz、  Ar  )、  8.24(2H。 d、 J =9.0 Hz、 Ar )。 実施例19 −2−カルゲキシレート〔20〕の製造〔19〕 e 〔20〕 (31L 、 4 B、 ) −3−(N−カルボメト
キシ−N−メチル)アミノ−4−[3−(p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)−2−オキソ−3−ジアゾプ
ロピル〕−2−アゼチジノン(191304IQ(0,
0738mmole)をペンゼア30mに溶かし、ロジ
ウムアセラードダイマーを少量加え、脱気し、20分間
還流した。 反応液を空冷し、ベンゼン30t(を加え、水洗(20
MX2)L、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
濃縮し、表題化合物234.5In9(収率82%)得
た。 1700、161O NMRスペクトル((:DCI、)δ、、m: 2.7
9(2Ld。 J=7Hz、 C,−I4.)、3.02(3f−1、
S、N−CH3)、 3.70  (3H,s、  0
H30CO−N)。 4.18 (IH,brt、J=7Hz、C,−H)、
4.8 0  (]  IHS、C,−)1)、  5
.0−5.4(3)J、br、OCH,−Ar &1C
6−H)、7.50(21(。 d、J=9Hz、Ar’)、8.17 (2F−1,d
、 J=9Hz、Ar )。 実施例20 (4)L、5R)−p−ニトロベンジル−6−(N−カ
ルボメトキシ−N−メチル)アミノ−3−アセトアミド
エチルチオ−1−アザビシクロ〔3,′LO〕ヘプトー
2−エン−7−オン−2−カルホキe 蕃 〔20〕 〔21〕 (4R,5R)−p−二トロペンジル−6−(N−カル
ボメトキシ−N−メチル)アミノ−l−アザビシクロ[
3,2,01へブタン−3,7−シオンー2−カルボキ
シレート[201228〜(0,527mmole)を
無水ジメチルホルムアミド5dに溶かし、−50℃に冷
却し、トリエチルアミン110μm (0,790mm
ole)とジフェニルリン酸クロリド131.6μl 
 (0,632mmole)を滴下し、同温度で1時間
授拌した後、さらにトリエチルアミ788.3Al (
0,632mmole)とN−アセチルシステ゛アミン
94m9C0,79mmole)のジメチルホルムアミ
ド溶液1dを一50℃で滴下した。 同温度で2時間bt拌した後、0℃で30分間攪拌した
後、反応液を塩化メチレンで希釈し、0.1M リン酸
緩衝液(p)J7.0)で3回洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム(10F)で展開溶媒〔ベンゼ
ン/アセトン:5/1.3/1.2/1.1/1.]/
2]にて段階的に溶出精製し、表題化合物222rnq
(収率78%)得た。 比旋光度〔α〕”:+31.7°(co、5、CH,C
I、)(lVスペクトル2 CH””、nm(g): 
271(12900)、aX 1几スペクトル・CHC1・α−・:1780.170
0ax NMRスペクトル(CDCl2)δ、、m: 1.97
 (3H,S。 NHCOCH、)、170−3.60 (m、 6H,
C。 −H!及び5−CH,−CH,−N)、3.00(3H
1s、N−CH5)、3.74 (3H,s、 CH,
OC鑑N)、428 (IH,d t、J=3.0Hz
及び9.0Hz、C,−H)、5.20 (IH,d、
 J=14.OHz、 0CHH−Ar)、5.21 
(I H,br、 C,−H)、5.45 (IH,d
%J =14.0Hz、 0CHH−Ar)、6.18
 (I H,br、 NHAc )、7.62(2H,
d、 J = 9.0 Hz、 Ar )、8.20(
1)1゜d、 J=9.QHz、 Ar )。 実施例21 (4Iも、5R)−6−(N−カルボメトキシ−N−メ
チル)アミノ−3−アセトアミドエチルチオ−1−アザ
ビシクロ[3,2,0]ヘプト−2−エンの製造 P ! 〔21〕 e 〔22〕 (4Iも、5I七)−p−ニトロベンジル−6−(N−
カルボメトキシ−N−メチル)アミノ−3−アセトアミ
ドチオ−1−アザビシクロ〔3,2,0〕ヘプト−2−
エン−7−オン−2−カルボキシレート[:21]19
0+n9をテトラヒドロフラン9.5dに溶かし、0.
1 Mリン酸緩衝液(pH7,38)9.5mを加え、
酸化白金190m9’i加え、4.5気圧の水素加圧下
3.5時間振盪した。 触媒をセライトで戸別し、F液を減圧濃縮し、半分にし
、さらに再びセライトで濾過しだ。 P液を0.OIMリン酸緩衡液(pH7,4)で平衡化
したQAE8ephadex A 25 (20ml 
)に吸−聾させ、0〜5%塩化ナトリウム水溶液(80
+y、so’)の直線グラージエントで溶出した。 UVスペクトル(最大波長303 nm付近)及びバイ
オアッセイで活性のある区分をあつめ(60d)、これ
に3frの塩化ナトリウムを加え、ダイヤイオンCHP
−20(20M )に吸着させ、水洗後、0〜50Xイ
ソプロパツール水溶液の直線グラージエントで溶出し、
303.5℃mにUV吸収を示す区分を凍結乾燥し、淡
黄色の粉末として57.2■(収率41X)得た。 IR,X<クトy  y KBr、、−1;  176
 o、 ] 700、aX 1660、160O NMR,x、ベクトル(D、O,DSS)δppm :
2.00 C3H,S。 NHCOCH,)、2.70−145 (6H,m、C
,−[−1,及び−8−CH,−CH,−N−)、3.
00(3■]、s、 N −CH,)、3.76 (3
H,s、 CH,0CO)、4、35 (I Hldt
、J=3.0Hz及び9.QHz。 C,−H)、5.12 (I H,d、 J =lOH
z、 c6−H)。 実施例22 メチルアミノ−4−メトキシカルボニルメチル−2−ア
ゼチジノン〔23〕の製造 Me (31(,4K)−3−(N−ベンジルオキシカルボニ
ル)メチルアミノ−4−メトキシカルボニルメチル−2
−アゼチジノン(”15]430ff+9(1,40m
mol)をメタノ−/l/ (8d )に溶解しこれに
10%パラジウム炭素(100R9)を加え、4気圧の
水素気流下バールの装置を用いて室温で3ffS間撮と
うした。 触媒を戸去し、メタノールでよく洗浄した。炉液と洗液
を合わせて減圧濃縮し、無色のシロップを得た。 このシロップを塩化メチレン4dに182”!し、0℃
でかくはんしつつトリエチルアミン0.293a/(2
,10mmol)、ついでメタンスルホニルクロリド(
0,13a/、1.68mmol)を滴下し、0℃で1
時間ついで5℃で16時間反応させた。 反応液を0℃にてかくはんしつつ、メタノール30μt
を加え、30分かくはんした後、減圧濃縮し残渣を得た
。これを少量の塩化メチレンに懸濁させ、シリカゲル1
01のカラムに吸着させ、ベンゼン/アセトン(5/1
.3/1,2/1 )にて段階的に溶出させた。溶出部
のうちベンゼン−アセトン(2:1)を展開系とするT
LC上、RfO,36にヨード発色を呈する区分を集め
て減圧濃縮し、表題化合物246睨(70%)を得た。 Br IIも  ν        3220、 1735、
 1710.、 1320、ax 1150C!FL’ l HNMIも(CDCI、) δ2.64(IH,dd、J=9.0及び16.8Hz
  、−CHH−CO,Me )、 2.95 (I H,dd、 J=4.5及び16.8
Hz、−CHH−CO、M a  )、 Z98 (3)i、、s、NMe又はN1v(s)、3
.03 (3H,s、 NMs又はNMe)、3.75
(3)i、s、 Go、CH,)、4.03 (I H
,ddd、 J=2.7.4.5及び9.01(z。 1(−4)、 4.70 (I H%d、 J =2.7Hz、 I−
(−3)、6.77 (I H,bs、 NH)。 実施例23 ビチジノン〔24〕の製造 〔23〕 (3R,4R) −3−(N−メタンスルホニル)メチ
ルアミノ−4−メトキシカルボニルメチル−2−アゼチ
ジノン[23) 1.79 t (7,15mmol)
をメタノール(16111)、水(7,5M)に溶解し
、0℃でかくはんしつつ1規定水酸化ナトリウム水溶液
7.]lI/を滴下し、0℃で2.5時間かくはんした
。 反応液にアンバーライトCG−50()l  型)約I
Qdを加え30分間かくはんした。ついで反応液を水で
希釈し、全量を80IItとして、アンバーライトCG
−50(1(型)のカラム(100d)を通過させた。 カラムを水洗し、溶出部のうち酸性(pH3〜4)を示
す区分を集めて減圧濃縮し、固体状残渣を得た。 これをメタノールから結晶化させ塩化メチレンを加えて
戸数し、表題化合物975■(58%)を得た。 1】50傭−1 ’ )i NMI((MeO)J−d 、 )δ2.5
−7−9 (28%m、 methylene)、2.
96 (3H,s、 t’QMe又はNMs)、3.0
3 (3H,、s、NMs又はNMe)、4.07 (
I H,m、 H−4)、(H−3はHDOのピークに
隠れ、検出できなかった)実施例24 (31L、41() −4−カルボキシメチル−3−(
N−メタンスルホニル)メチルアミノ−2−アゼチジノ
ン(24]800’117(3,39mmol)をテト
ラヒドロフラン9dに懸濁させ、これに室温で1、】−
カルボニルジイミダゾール604■(3,72mmol
)を加え、室温で2時間かくはんした。 この反応液にマロン酸水素p−ニトロベンジル1.30
 f (5,44mmol)とマグネシウムエトキγド
310tn9(2,71mmol)よりテトラヒドロフ
ラン20献中室温で4時間かくはんした後、乾固として
得られたマグネシウムp−ニトロベンジルマロネートの
テトラヒドロフラン溶液(12m)を加えた。反応液は
室温で】0分間かくはんの後、45−50℃で16時間
かくはんした。 反応液を減圧下に濃縮し約3dとして、これを酢酸エチ
ルにて希釈し、0.5規定塩酸水溶液、飽和重曹水、水
、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムーヒで乾燥
した。 溶媒を留去して得ら:hたシロップを少量の塩化メチレ
ンにてシリカゲル402のカラムに吸着させ、ベンゼン
/アセトン(5/l、3/1.2/1)にて段階的に溶
出させた。溶出部のうちベンゼン/アセトン(1/1)
を展開系とするTLC上、RfO,56にUV吸収を示
す区分を剰めて減圧濃縮し、表題化合物go6m9(s
s%)を得た。 (5houlder)、1715.1520.1345
.1150(−M−’ +t(NMR((:DCI、) δ2.82(1N、dd、J=9.2及び18.0Hz
。 2.96(3H1s、NMe又はNMs)、100 (
38%  5% NMs又はNMc)、3.25 (I
 H,dd、 J=4.4及び18.0Hz。 4.01 (11(、ddd、J=Z6.4.4及び9
.2Hz。 H−4)、 4.63 (1)(、d、 J =2.6Hz%H−3
 )、5.27(2H,s、ベンジル)、 6.45(IH% b、N)()、 7.55 (2H,d、 J =9Hz、フェニル)、
8.25 (2H,d、 J w9Hz、 フェニル)
。 実施例25 (N−メタンスルホニル)メチルアミノ−2−ア[26
] (3R,4R) −3−(N−メタンスルホニル)メチ
ルアミノ−4−(3−p−二トロベンジルオキシカルゲ
ニル−2−オキソプロピル)−2−アゼチジノン[25
]848m9(2,05mmol)をアセトニトリル7
dに溶解し、これにトシルアジド607”9(3,08
mmol)のアセトニトリル、容液(3a7)を加えた
。反応液を水冷下かくはんしつつ、トリエチルアミン0
.46 aj (3,30mmol)を滴下し、0℃で
30分間、ついで室温で1,5時間かくはんした。 反応液を減圧濃縮し、得られたオイルを少量の塩化メチ
レンを用いてシリカゲル30?のカラムに吸着させ、ベ
ンゼン/アセトン(8/L、6/1.4/1.2/l)
にて段階的に溶出させた。 溶出部のうちベンゼン/アセトン(1/l )t−展開
&、!l:fる’[’L、 C上、)tfo、64にU
v吸収を示す区分を集めて減圧濃縮し、表題化合物72
5m9(81%)を得た。 1720.1650.1525.1350.11557
m−’ IHNMR(CDCI、) a 2.97 (3H,s、 NMe又はNMs’)、
3.02 (3H,s%l’JM!l又はNMe)、3
.08 (I H%dd、 J=!1.0及び17.6
Hz。 −CHH−)、 3.58 (I H,dd、 J=3.9及び17.6
Hz。 −〇Hリー)、 4.06 (])1. ddd、 J=2.7.3.9
及び9.0Hz。 H−4)、 4.73 (IH,d%J=’;L7H1%H−3)、
5.40 (2H,s、ベンジル)、 6.56 (1)1.bs、NH)、 7.58 (2H,d%J =9Hz、フェニル)、8
.28 (2H,d、J=9Hz、7xニル)。 実施例26 ザビシクロra、zo)ヘプタン−2−カルボン酸p−
ニトロベンジルエステル[:27]のfA造〔27〕 (3札、4K)−1−(2−ジアゾ−3−p−二トロペ
ンジルオギシカルボニルブロピル)−3−(N−メタン
スルホニル)メチルアミノ−2−アゼチジノン[26]
 600Q7(1,37mmol)をベンゼン60R1
に懸濁させ、これにロジウムアセテート・ダイマー約3
0〃qを加え、50分間加熱還流した。 放冷後、反応液をベンゼンで希釈し、飽和食塩水で2回
洗浄しだ1、硫!ナトリウム上で乾燥した後、溶IS′
を留去すると表題化合物503rn9(909K)が固
体状残渣として得られた。 Br IRν   1760.1740,15]0.1340
、ax 1HNM几(DMF’−d、、TM8内部標準)δ3.
09 (3H,s、NMe又はNMs)、3.13 (
3H,s、NMs又はNMe)、3.2−3.6 (2
)1%m、  メチレン)、4.55(1)(、td、
J=2.7及び7.2Hz%l(5)、4.98(IH
%s、H−2)、 5.32 (I L d、 J=Z7Hz%H−6)、
5.47(2比 31ベンジル)、 7.79 (2H,d%J=9Hz、フェニル)、8.
35 (21−1,d、 J=9Hz、フェニル)。 実施例27 (5R,6R)−3−(2−アセタミドエチルチオ)−
6−(N−メタンスルホニル)メチルアミジルエステル
〔28〕の製造 e 〔28〕 (2n 、 5 R1,6I(l)  3 、7−シオ
キソー6−(N−メタンスルホニル)メチルアミノ−1
−アザビシクロ(: 3.Zo )へブタン−2−カル
ボン&p−ニトロベンジルエステル[27]502η(
1,22mmol)をN、N−ジメチルホルムアミド4
1に溶解し、−30〜−40℃の冷却下かくはんしつつ
、トリエチルアミン0.256 az(1,84mmo
l)、ついでジフェニルリン酸クロリド0.304a/
 (1,47mmol)をゆっくり滴下した。 −30〜−40℃で1時間かくはんした後、N−アセチ
ルシステアミン233叩(1,95mmol)とトリエ
チルアミン0.221 a/ (1,59mmof)の
N、N−ジメチルホルムアミド溶液(2,7M)をゆっ
くり滴下し、−35℃で1.5時間かくはんした。反応
液を塩化メチレンに江別し、0.1Mリン酸緩衝液(+
)R7,O)Kて3′01.!和食塩水で1回洗浄し、
Ta 5Nナトリウム上で乾燥した。溶媒を注意深く減
圧溌縮すると残分約5dとなったところで結晶が析出し
た。これにエーテルを加え、析出した結晶をF取し、塩
化メチレン/エーテル(]/1)にて洗浄し、表題化合
1勿344η(55%)を淡黄色の結晶として得た。 mp172−175℃(分解) 323(12700)。 1515.1340.1150cm−’IHNMR,(
flDCl、) δ1.98(3H,s%NAc)、 aol (6H,!I、NMe及びNMs)、2.8−
3.1 (2H,m、メチレン)、3.25−3.60
 (4)1%m、  メチL/7X2)、4.37 (
1)4% td、J、49及び9.2 Hz、
【l−5
χ5.06(IHld、J=Z9Hz、H−6)、5.
51 (I Tl、d 、 J = 13.2 Hz 
、−at−+H÷o、)、6.18 (I H,bt、
 J 〜6Hz%N)1 )、7.66 (2H,d、
J=9ト]z、ニアzニル)、8.25 (2H,d、
 J=9Hz、 7zニル)。 実施例28 ノー7−オキソ−1−アザビシクロ[3,2,01への
製造 し28〕 (53(、,6R) −3−(2−アセタミドエチルチ
オ) −6−(N−メタンスルホニル)メチルアミノ°
−7−オキソー1−アザビシクロC3,2,01へブタ
−2−エン−2−カルボン酸p−ニトロベンジルエステ
ルC281153m9 (0,298mmo I )を
N、N−ジメチルホルムアミド(10at )に溶解し
、これにO,1Mリン酸ナトリウム緩衝液(pH7,8
)5m+7,1d化白金120In9に加え、パールノ
装置を用いて4気圧の水素気流下、室温で1時間振とう
した。0.1Mリン醒ナナトリウム緩衝液5d酸化白金
30m9f新たに加え、4気圧の水素気流下室温で更に
1.5時間振とうした。 反応液に0.01Mリン酸緩衝液(pH7,4)5dを
加え、触媒を戸別し、上記溶液でよく洗浄した。泥液に
0.01 Mリン酸緩衝液(+)H7,4)を加え総量
を9 Q 膚/と17、これをあらかじめ0.01P、
(リン酸緩衝液(pH7,4) Kで平置化したQAE
−セファデックス人−zs(2za/)のカラムを通し
た。 このカラムを0.01Mリン酸緩衝液(pH7,4)2
011/ニテ洗浄シタ後、0.0】M+Jyfs、緩衝
液(p)17.4 ) 〜o、4M食塩水(7)Ma濃
度勾配傾斜法にて展開し、溶出部のうちUVスペクトル
上で305 nm付近に吸収概犬を持つ区分を臭めで、
0.1Mリン酸緩衝液(pH7,4) 16 mg、食
塩4.51を加え、水を加えて総1100suとした。 この溶液をダイヤイオンCHP−20(20aZ)のカ
ラムを通し、水洗の後、水−5,0%2−プロパツール
水浴液の直1w濃度勾配傾斜法にて導出させた。溶出部
のうちUVスペクトル上で305nmに吸収極大を持つ
区分を集めて凍結乾燥し、表題化合物461119(3
8%)を白色の固体として得た。 〔α1”+64.2° (co、123、H,O) O [JVλ ! nm(g):305(8300)ax 】330.1150cm−’ IHNMH,(D、02DSS内部標準)δ1.98 
(3H,s、 NAc )、3.00 (3H,s%N
Me又はNMs)、3.12 (3H,s、 NMs又
はNMe)、Z75−3.50 (6H,m、  メチ
L/7X3)、4.43 (I H,td%J=Z7及
び9.QHz、H−5)、5.11 (IH%d、 J
=2.7Hz、 H−6)。 ’ ” cNMFL (D t O−D S 8 内部
標$ )624°4(q、 N−C−(”:H9)、3
3、3 (t 、 −8−CH,−(7H,−NHAc
 )、34.3(q、ヘーCH5)、 39、6 (q、 N−8otCH,)、40.2 (
t%C−4又は−8−(:H,−CH,−NHAc)、
42.0 (t、 C−4又は−一〇)1.−℃H,−
NHkc)、58.9 (d、 C−5)、 71.8 (d、 C−6)、 129.8 (s、 C−3又はC−2)、141.3
 (s、 C−3又はC−2)、170.4 (s、 
−cO,Na ’+、176、2 (s %N−、、−
g  CI(8、又はC−7)、176.8 (s、 
N−n−C1−1,,又はC−7)。 実施例29−1 の製造 e Li2」 e (3几、4R)−3−(N−ベンジルオキシカルボニル
−N−メチル)アミノ−4−メトキシカルボニル−メチ
ル−2−アゼチジノン[15159(0,016mol
e)をメタノ−/I/80111/に溶解し、10%パ
ラジウム−炭素1.4tを加え、4気圧、室温で4時間
接触還元を行った。触媒を戸別し、P液を減圧濃縮しア
ミン体を得た。このアミン体をメタノール150dに溶
解後、水冷下ジアゾメタンエーテル溶液を】50u加え
4時間同温度で反応させた後、減圧濃縮した。残液を酢
酸エチルに溶解し、不溶物は戸数して除き、母液をシリ
カゲルカラムに吸着させ、酢酸エチル/メタノール(5
/1.3/l)にて段階的に溶出させた。溶出区分で同
混合(3/1)展開のシリカゲルにてRf値0.48に
ヨード発色する区分を溝めて減圧濃縮すると表題化合物
〔30〕が859■得られ、I(、f値0.36のメチ
ルアミノ体647ダが回収された。 Z53 (I H,dd、 J−9,0及び16.QH
z。 CHI(−COO) Z78 (IH%dd、J=4.5及び16.0Hz。 CHリーC00) 3.53 (I H,d、 J=1.5Hz、 H−3
)3.72 (3H,s、 OMe ) a 90 (I H% m1H4) 6.53 (IH,br%NH) 実施列29−2 実施例29−1で回収されたメチルアミノ体304rn
9(1,76mmole)t−メタノール5ajに溶解
し、トリエチルアミン491μj(3,s3mmole
)、ヨウ化メチル220μt(3,53mmo l e
 )を加えて、室温で15時間反応させた。 反応液を減圧濃縮後、前記と同様にシリカゲルカラムに
て精製すると表題化合物が113In9得られた。 実施例3,0 製造 〔30〕 〔31〕 (3R,4B、)−3−ジメチルアミノ−4−メトキシ
カルボニルメチル−2−アゼチジノン[:3016BI
n9(0,365mmole)をメタノール3.6−に
溶解後O℃に冷却し0.IN水酸化ナトリウム3.6d
を加え、同温度で2時間反応させた。 反応液にIRC−CG50()J )3*を加え、1時
間攪拌後反応液をCG50(H)10a/を通過させた
。通過液を減圧乾固すると表題化合物のフリ一体が51
η得られた(収率82%)。どのフリ一体を水1dに溶
解し、水冷下0.IN)(CI2.7*を加えて減圧乾
固し、塩酸塩とした。 NMR,(CD、OD) δ;z91(2)(% m、Cも<00)()4.30
(1)T、di、J=2.5及び7.0Hz、H−4.
55(1、d、 J =Z5Hz、 H−3)実施例3
1 キングミピル)−2−アゼチジノン〔32〕の製造〔3
2] (3几、4R)−4−カルボキシメチル−3−ジメチル
アミン−2−アゼジノン〔31〕塩酸塩105■(0,
5mmole)をジメチルホルムアミド2dに溶解させ
、室温でカルボニルジイミダゾ−/L;95ap(0,
6mmole)  を加え、同温度で2時間反応させた
。 この反応液にマロン酸水素p−ニトロベンジル239〜
(1mmole)  とマグネシウムエトキシド58■
(0,5mmole)よりテトラヒドロフラン中]Q鑓
/中室温で15時間攪拌した後、乾固して得うれたマグ
ネシウムp−ニトロベンジルマロネートのジメチルホル
ムアミド溶液2 mlを加え50℃で15時間反応させ
た。反応液を酢酸エチル100 at中に注ぎ炭酸水素
ナトリウムで洗浄後、洗浄液を合せ再び酢酸エチルにて
抽出した。抽出液は飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムにて乾燥した。溶媒を留去後、残渣を少量の酢
酸エチルに溶解し、シリカゲル(20X20α)4枚に
吸着させ、酢酸エチル/メタノール(3/1)の混合溶
液にて展開させた。Rf値0.52にUV吸収を有する
区分を集めると表題化合物23〜が得られた。 C0) 1720(ケトンC0) 3、 OO(2H,m、 −CH,−CO)3.50 
(IH,d、 J =1.5Hz、 H−3)3.60
 (2H,s、CH,−COOPNB)3.95 (I
 H,m、 H−4) 5.30 (2H,s、C00CH,−Ar)実施例3
2           − 〔33〕の型造 (3R,,4R) −3−ジメチルアミノ−4−(3−
p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−オキソ)プ
ロピル−2−アゼチジノンC32〕188119(0,
57mmole)をアセトニトリル5dに溶解後氷冷し
、トシルアジド148Wt9(0,75mmole)を
含むアセトニトリル1.5m%  トリエチルアミyl
 13 μt(0,80mmole)を加えた。反応液
を室温に戻し、1時間反応させた。酢酸エチル100m
中に反応液を注ぎ炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水にて洗浄した。抽出液を無水硫酸す) IJウムにて
乾燥後、溶媒を留去し残渣を少量の酢酸エチル溶解し、
シリカゲル1stのカラムに吸着させた。酢酸エチル5
0m1.酢酸エチル/メタノール(10/1)110a
/。 (5/1)120a(にて溶出させた。溶出区分で酢酸
エチル展開のシリカゲルTLCにてRf値0.08にU
V吸収を有する区分を減圧乾固すると表題化合物が15
211147得られた(収率75%)。 1760(β−ラクタムC0) 1720(ケトンCo) 3.00 (I H,dd、 J =9.0及び17.
5Hz。 C)IH−CO) 3.42 (] H,dd、 J =4.0及び17.
5Hz。 CHH−CO) 3.56 (I H,d、 J =2.5 Hz、 H
−3)4.00(IH,ddd、J=2h5及び4.0
及び9.0Hz、H−4) 5.37 (2H,s、CH,Ar) 6.82(IH,s、NH) 耳 実施例33 3.7−シオキソー1−アザビシクロ[3,2,01(
3R,4R) −4−(3−ジアゾ−3−p−二トロペ
ンジルオキシ力ルボニル−2−オキソ)プロピル−3−
ジメチルアミン−2−アゼチジノン(33)78m9(
0,22mmole)をベンゼン15s/に溶解し、ロ
ジウムアセテートダイマー7■を加え、1時間還流させ
た。反応液を酢酸エチル50u中に注ぎ飽和食塩水で洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去
すると表題化合物〔34〕が6911I9得られた(収
率97%)。 ClCl ・  Ca1−’  ;  □ 76 、 
(β−ラ、い、  エ、、、ヶヤ、aX ケトンCO) NMR,(C:DCI、) δ: 2.50 (1)1. dd、 J=18.5及
びJ=9.0Hz。 2.83 (IH,dd%J=l s、s及びJ=7.
0Hz。 C)11(−Co ) 4.0−4.35 (2H%m、 H−5及びH−6)
4.80 (IH,s、 H−2) 5.20 (IH,d% J−13,5Hz、CHH−
人r)5.36 (I H,d、 J=13.5Hz、
 CHH−Ar)実施例34 チオ−6−シメチルアミノー7−オキソー1−アザビシ
クロ(3101ヘプト−2−エン−2−力(2R,5R
,6R)−6−シメチルアミノー3.7−シオキソー1
−7ザビシクロ〔3,λO〕へブタン−2−カルボンミ
ルーニトロペンシルエステルC34〕69叩(0,21
mmo le )をジメチルホルムアミド1.5117
に溶解後−35℃に冷却シ、トリエチルアミン45 t
tt (0,32mmole)、ジフェニルホスホリル
クロリド58μt(0,28mmole)  を加え、
同温度で30分反応させた。 反応の進行を酢酸エチル展開のシリカゲルT L Cに
て)Lf値0.46に[JV吸収を示すスポットの生成
で見極め次の反応を行った。すなわち反応液にトリエチ
ルアミン54 μL(0,38mmole)、N−アセ
チルシステアミン461V(0,38mmole)のジ
メチルホルムアミド溶液0.5 mlを一35℃で徐々
に滴下した。同温度で30分間反応させた後、反応液を
酢酸エチル50d中に注ぎ0.1 Mリン酸緩衝液(p
H&9 ) 30s/、飽和食塩水2011/にて洗浄
した。洗浄液は再び酢酸エチルにて抽出後、飽和食塩水
で洗浄した。抽出液は合せて無水硫酸ナトリウムにて乾
燥した。溶媒を減圧濃縮し生成した表題化合物の結晶2
6■を戸数した。更に母液を減圧乾固後塩化メチレンに
溶解しシリカゲル7Fのカラムに吸着させ、酢酸エチル
、アセトン、酢酸エチル/メタノール(2/1.)にて
溶出させた。溶出区分でアセトン展開のシリカゲルTL
Cにて几f(i!0.15にUV吸収を有するフラクシ
ョンを集めて減圧乾固すると表題化合物が49■得られ
た(収率83.ぢ)。 〔α]%’  +57.4° (c=0.5、CHC1
、)CHCI。 λ  ”    nm(ε):325(12500)a
x 1695(エステルC0) 1670(アミドC0) 1520.1350にトロ) NMR,(CDCI、) δ: 2−00 (3H,s、 C0CH,)2.85
 3.60(6H,m、 CH,X3)3.93 (I
H,d、 J=3.0Hz、 H−6)431 (IH
,d t、 J=3.0及び9.OHzs )l  5
 )5.25(11−1、d、 J =13.5Hz、
 C!(H−Ar)5.53 (IH,d、 J =1
3.5Hz、 CHH−Ar)5.97(IH,br、
 NH) 実施例35 チオ−6−シメチルアミノー7−オキソー1−ア「35
〕 (5R,61も)−3−(2−アセトアミノエチル)チ
オ−6−シメチルアミノー7−オキソーl−アザビシク
ロ〔3,2,、O〕ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
p−ニトロベンジルエステル[:35]40■(o、o
 9 mmole)をテトラヒドロ7ラン5a/、0.
01Mリン酸緩衝液2*(pH7,2)に溶解し酸化白
金50Qの存在下4気圧、室温にて3時間接触還元した
。−過後、減圧濃縮し、泥液及び洗液を合せ、塩化ナト
リウムを5%になるように加え、CHP−20のカラム
(20ml)K吸着後、脱イオン水にて溶出させた。溶
出区分で307 nmにUV吸収を示す区分を凍結乾燥
すると表題化合物が2mg得られた。 1672(アミドC0) 1600(カルボキシレート)
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の化合物から誘導されるカルバペネム
系抗生物質のイヌの腎デヒドロペプチダーゼに対する安
定性試験の結果を示すグラフで′らる。 図中、     は抗生物質P8−5、−o−o−は化
合物〔22〕、−・−・−は化合物〔14〕、−一一一
一一は化合物〔29〕の試験結果である。 手続補正書(自発〉 昭和62年5月13日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、 R_1は低級アルキル基又は低級ハロアルキル基を表わ
    し、 R_2は低級アルキル基、低級ハロアルキル基、アラル
    キル基、−COOR_4又は−SO_2R_5を表わし
    、ここでR_4はアルキル基又は置換もしくは未置換の
    アラルキル基を表わし、R_5はアルキル基又は置換も
    しくは未置換のアリール基を表わし; R_3は水素原子又は容易に離脱し得るカルボキシル保
    護基を表わす、 で示される化合物。 2、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、 R_1は低級アルキル基又は低級ハロアルキル基を表わ
    し、 R_2は低級アルキル基、低級ハロアルキル基、アラル
    キル基、−COOR_4又は−SO_2R_5を表わし
    、ここでR_4はアルキル基又は置換もしくは未置換の
    アラルキル基を表わし、R_5はアルキル基又は置換も
    しくは未置換のアリール基を表わす、 で示される化合物。
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