JPS62205100A - ステロイド誘導体及びその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はサメの忌避物質であるパボニニン（Ｐａｖｏｎ
ｉｎｉｎ　）などの原料として有用なステロイド化合物
及びその製法に関する。

〔従来の技術〕

サメの忌避物質であるパボニニンハＴｅｔｒａｈｅｄ−
ｒＯｎ＋エユ、１０２７（１９８５）においてＫ　−Ｔ
ａｃｈｉ　ｂａｎａ。

Ｍ、　５ａｋａｉｔａｎｉ　、　Ｋ−Ｎａｋａｎｉｓｈ
ｉ等により単離されその構造が であると決定された。

〔発明が解決しようとする問題点〕

パボニニンは、前記のよ５に極く最近になって構造が決
定されたこともあり、その合成方法がまだ知られていな
い。したがってパボニニンを効率よく合成する方法ある
いは、その合成のための有用な中間体が望まれている。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明はパボニニンを合成するために有用な中間体とな
る下記式（９）のステロイド化合物の新規な製法を提供
しようとするものである。

示し、Ｒ２低級アルキル基、低級アルコキシアルキル基
、子トラヒドロピラニル基又は Ｓｉ　　ｎｓを示し、Ｒ４，Ｒｓ＋　Ｒ６はそれぞれ独
立に低級アルキル基又はフェニル基を示し、　Ｒ３は低
級アルキル基を示す。） 式（９）の化合物は以下のようにして製造することがで
きる。

式 合物のアセチレン結合を部分還元することによ合物を製
造する。

上記の部分還元は、好ましくは以下のように行う。すな
わちパラジウム系触媒（例えばＰｄ／ＢａＣＯ３−キノ
リ７　Ｐｄ／ＣａＣ０ａ、　Ｐｄ／ＣａＣ０３Ｐｂ（Ｏ
ＡＣ）２（リンドラ−触媒））を式（１）の化合物１重
量部に対し０．０５〜０．３部用い、０〜室温でメタノ
ールなどのアルコール溶媒中又はテトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル溶媒中理論量の水素を用いて
１気圧周辺で水添することができる。次に式（２）の化
合物式（２）の化合物１モルに対し式 ％式％（３１ （式中Ｒ３は低級アルキル基を、ＹＩはハロゲン原子を
示す）の化合物を好ましくは１〜１．２モル用いて、好
ましくは一５〜３０℃で有機塩基の存在下不活性溶媒中
反応（エステル化）させることにより式　　。

の化合物を製造することができる。

次に式（４）の化合物に［３，３］　Ｃ１ａｉｓｅｎ転
位反応を行わせ式 の化合物を得ることができる。

上記の（３，３）　Ｃ１ａｉｓｅｎ転位反応は好ましく
は以下のようにして行う。すなわち式（４）の化合物１
モルに対し、リチウムジアルキルアミドなどの強塩基（
例えばリチウムジイソプロピルアミド、リチウムモロ−
プロピルアミド、リチウ譬−ｔｅｒ−ブチルアミドなど
〕を好ましくは１〜２．５モル用いて、不活性溶媒中−
９５〜０℃で反応させ、仄いでこの反応溶液に式 ％式％（５１ （式中Ｙ２は〕・イゲン原子を示し、Ｒａ、　Ｒｓ、　
Ｒｓはそれぞれ独立に低級アルキル基又はフェニル基を
示す。）で示される化合物を加え好ましくは一９０〜０
℃で反応させる。次に温度を好ましくはＯ〜６．０℃に
上げＣ１ａｉｓｅｎ転位反応を行わせ式 く式中榎３．ル＋　Ｒ４１Ｒ５１Ｒｅば前記と同じ意味
を有する）の化合物を製造することができる。

次に不活性溶媒中、好ましくは一５〜室温で式（７）の
化合物１モルに対し、１〜３モルのリチウムアルミニラ
ムノ・イドライド、ＮａＡｌＨ４（ＯＣＲ２ＣＨ２ＱＣ
）ｈ）２Ｌｉ　ＢＨ４ＢＨ３などの還元剤を用いて式（
６）造し、次いで好ましくはメタノール、エタノール、
プロピルアルコールなどのアルコール溶媒中好ましくは
０〜３０℃で式（７）の化合物１重量部に対し、Ｐｔ０
２Ｐｄ　　ＣＰｄ黒ラネーＮｉなどの触媒０．１〜０．
５重量部の存在下水添を行い、この式（７）の化合物の
５員環（Ｄ環）と側鎖の二重結合を還元し式 の化合物を得ることができる。

本発明で用いることができる不活性溶媒としては例えば
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、などのエーテル類
、塩化メチレン、四塩化炭素、ヘプタン、ペンタン、ヘ
キサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン、モノクロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類
、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、ヘキ
サメチルリン酸トリアミド又はＮ、Ｎ−ジメチルアセタ
ミドなどのアミド類があげられる。

また式（３）で示される化合物としては例えば、ＣＩ（
３ＣＨ２ＣＯＣＩ　、　ＣＨ３Ｃ）（２ＣＯＢｒ、　Ｃ
Ｈ３”ＨＣＣＨｚ　ＣＯＣ１，Ｃ）ｂＨ３− ＣＨ２ＣＩ（２Ｃｏ　Ｃ１、Ｃトｌ３ＣＩ（２ＣＨ２Ｃ
０Ｂｒなどがあげられる。

さらに式（７）で示される化合物としては例えば、ＣＩ
　Ｓｉ　（ＣＨ３）３．　Ｂｒ　Ｓｉ　（ＣＩ（３）３
．　ＣＩ　Ｓｉ　（Ｐｈ）　（ＣＨ３，）２又はＢｒＳ
ｉ　（Ｐｈ）　（Ｃ４Ｈ９）２．　ＣＩ　ＳｉＭｅｚ　
（ｔ　Ｂｕ）などがあげられる。

〔発明の効果〕

本発明の方法で得られる式（８）のステロイド化合物を
中間体として用いることによりサメの忌避物質として有
用なパボニニン誘導体が収率よく得られるようＫなりた
。

〔実施例〕

以下実施例により本発明を説明する。

実施例１．水　添 下記式（９）のアセチレン化合物（０，３３ｇｔ　０．
９０ｍｍｏｌ）のメタノール溶液に、リンドラ−触媒０
．０３ｇを加え、室温、１気圧水素存在下で攪拌し１こ
。水素を理論量吸収（２０，０ｍｌ　）　シだところで
攪拌をやめ、シリカゲルでろ過した。

溶液を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し
、下記式で表わされる式（１１）オレフィン化合物０．
３３ｇ（収率１００％）　（ＴＬＣＲｆ＝０．５８．　
Ｈｅｘａｎｅ　：　ＥｔＯＡｃ＝２　：　１　）’を得
た。

文献既知 に、　Ｍｉ　Ｋａｍｉ　、　Ｋ−Ｋａｗａｍｏｔｏ、　
Ｔ−ＮａＫａｉ　、　ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ
−，１９８５，２６，５７９９゜ＩＲ，８１０，１０２
０，１０９０，１２６０，１３８０゜１４６０．３０７
０．３３３０．３４２０ｃｍ−’’ＮＭＲ（９０ＭＨｚ
　、　ＣＤＣｌ３　）δ０．９０（３Ｈ，ｓ）、１．０
７（３Ｈ，ｓ）、１１８（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．９Ｈｚ
）、　　２．４２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２．４Ｈｚ）、　
２．７９　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝３Ｈｚ）、　３．３７（
３Ｈ，ｓ　）、　４．４４　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　２．４
Ｈｚ、　６．０Ｈｚ）。

５．７１　（Ｉ　Ｈ，ｂｒｔ、　５．６７〜５．７８　
）（ＴＬＣＲｆ　＝　０．５４Ｈｅｘａｎｅ：　ＥｔＯ
Ａｃ＝２　：　１　）ＩＲ，８１０，９２０，９６５，
１０２０，１１００゜１３７０．１４５０．２９００．
３４５０ｃｍ″″１’ＨＮＭＲ（９０ＭＨ２，ＣＤＣｌ
５）０．８８（３Ｈ，ｓ）、１．０５（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝
６．９Ｈｚ、）。

１．０８　（３Ｈ，ｓ　）、　　２．７０　（ＩＨ，ｂ
ｒ、ｔ　）、　　３．３２（３Ｈ，ｓ）、３．９８〜４
．３３（ｍ、ＩＨ）、５．０４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１０．
５Ｉ−１ｚ）、５．１８　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、　　５．（１（ＩＨ，ｂｒｔ）、
　　５．８５（ＩＨ，ｄｄｄ、　Ｊ＝６．６Ｈｚ、　１
０．５Ｈｚ、　１６．２Ｈｚ）実施例２．エステル化 前記式（１０）のオレフィン（０，３８ｇ、　１．０３
ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液にピリジン（０，１７
ｍ１．　２．０６　ｍｍｏｌンを加え、０℃でプロピオ
ニルクロライド（０，１３ｍ１．　１．５４ｍｍｏｌ）
のジクロロメタン溶液を滴下した。３０分攪拌したのち
反応混合物？水にあけた。有機層を０．５Ｎ塩酸で３回
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回ぶつた。さらに
飽和ＮａＣ１水溶液で洗浄した後、無水Ｍｇ　Ｓ　０４
上で乾燥した。＃縮ののち、粗生成物をシリカゲルクロ
マトグラフィーで精製し下記式で表わされる下記式（１
１）のエステル０．４１ｇ（収率９３％）　（ＴＬＣＲ
ｆ　＝　０．６６　Ｈｅｘａｎｅ　：　ＥｔＯＡｃ＝２
　：　Ｉ　）を得た。

ｏＪ”− Ｍｅ ＩＲ，８１０，１０２０，１１００，１１９０，１３８
０゜１４６０．１７２０．２９５０ｃｍ−’’ＨＮＭＲ
（９０ＭＨｚ　、　ＣＤＣｌ３　）０．８３（３Ｈ，ｓ
）、１．０８（３Ｈ，ｓ）、１．１６（３Ｈ，ｄ、Ｊ−
６，９Ｈｚ　）、２．２８　（ＩＨ，ｑ。

Ｊ＝８．７Ｈｚ　）、　　２．６８　（ＬＨ，ｂｒｔ）
、　　３．２５　（３Ｈ。

ｓ　）、　　５．００　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝９．６Ｈ
ｚ）、　　５．０４（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝１７．１Ｈｚ
）、　　５．２９　（ＩＨ，ｂｒｄｄ。

Ｊ＝　６．３Ｈｚ）　、　　５．６９　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ
ｄ、　６．３　Ｈｚ、　９．６Ｈｚ、１７．１Ｈｚ） ジイソプロピルアミン（０，０６ｍ１．、０．４１ｍｍ
ｏｌ）のＴＨＦ溶液（４，５ｍ１）に０℃で、１．５７
Ｎ−ｎ−Ｂｕ　Ｌｉのヘキサン溶液（０，２１ｍｌ　、
　０．３２　ｍｍｏｌ　）を篩下し３０分攪拌した。−
７８℃に冷やし、ＨＭＰＡ　１．６　ｍｌを滴下し、つ
づいて前記式（１１）の％式％（１０ ｍｌ　）溶液をゆっくり滴下した。３０分攪拌した後、
ｔＢｕＭｅｚｓｉｃｌ　（０，０６ｇ　、　０．４１　
ｍｍｏｌ）を２３％ＨＭＰＡ−ＴＨＦ溶液にとかし、ゆ
っくり滴下した。−７８℃で２分攪拌したのち、室温で
３時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルでうすめ飽和
Ｎａ　ＨＣＯ３水溶液を加えた。水層を酢エチで２回抽
出し、有機層を飽和ＮａＣ１水溶液で洗浄した後、無水
ＭｇＳ　Ｏａ上で乾燥した。粗生成物をシリカゲルクロ
マトグラフィーで精製し、下記式で表わされる下記式（
１２）のシリルエステル０．０５ｇ（収率５７％）　（
ＴＬＣＲｆ　＝　０．６４　、　Ｈｅｘａｎｅ　：Ｅｔ
ＯＡｃ＝　１　：　１　）を得た。

Ｍｅ ＩＲ，８００，８３０，１２６０，１４６０，１７２０
゜２９００　ｃｍ、’ ’ＨＮＭＲ（９０ＭＨ２，ＣＤＣｌ３　）０．８３（３
Ｈ，ｓ）、１．０８（３Ｈ，ｓ）、２．７３（ＩＨ，ｂ
ｒｔ）、　３．３１　（３Ｈ，ｓ　）、　５．３５　（
３Ｈ，ｂｒｔ） 実施例４．　エステルの還元 前記式（１２）のエステル（０，３７ｇ、　０．６８ｍ
ｍｏｌ）のエーテル溶液に０℃で、ＬｉＡｌ）Ｌ（０，
０４ｇ　。

１、０２　ｍｍｏｌ　）を加え、３０分攪拌した。飽和
Ｎａ２Ｓ　０４水溶液を滴下し、過剰のＬｉＡｌＨ４を
つぶした後ろ過し、濃縮した。粗生成物をシリカゲルク
ロマトで精製し、下記式で表わされる下記式（１３）の
アルコール（５）を得た。（０，２８ｇ、収率１００　
％　）　　（ＴＬＣＲｆ　＝　０．５　０　、ｕｅｘｈ
ｈｅ：ＥｔＯＡｃ＝　２：１） ＩＲ，８１０，８３０，９７０，１０５０，１１００゜
１２５０、１３７０．１４５５．２９００゜３４００　
ｃｍ−’ ’ＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ　、　ＣＤＣ１１）０．８９（
３Ｈ，ｓ）、１．０６（３Ｈ，ｓ）、２．７６（ＩＨ，
ｂｒｔ　）、　３．３３　（３Ｈ，ｓ　）、　３．３８
　ａｎｄ３．４７　（ＡＢ、Ｊ”２．７Ｈｚ　）、　５
．３５　（３Ｈ，ｂｒｔ　）実施例５．水　添

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼（８） （式中▲数式、化学式、表等があります▼は▲数式、化
   学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があ
   ります▼を 示し、Ｒ＿１は低級アルキル基を示し、Ｒ＿２は低級ア
   ルキル基、低級アルコキシアルキル基、テトラヒドロピ
   ラニル基又は▲数式、化学式、表等があります▼を示し
   、 Ｒ＿４、Ｒ＿５、Ｒ＿６はそれぞれ独立に低級アルキル
   基又はフェニル基を示し、Ｒ＿３は低級アルキル基を示
   す。）で示されるステロイド化合物。
2. （２）式▲数式、化学式、表等があります▼（１） （式中▲数式、化学式、表等があります▼は▲数式、化
   学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があ
   ります▼ を示し、Ｒ＿１は低級アルキル基を示し、Ｒ＿２は低級
   アルキル基、低級アルコキシアルキル基、テトラヒドロ
   ピラニル基又は▲数式、化学式、表等があります▼を示
   し Ｒ＿４、Ｒ＿５、Ｒ＿６はそれぞれ独立に低級アルキル
   基又はフェニル基を示す。）で示される化合物を水添し
   、式▲数式、化学式、表等があります▼（２） （式中▲数式、化学式、表等があります▼は前記と同じ
   意味を有する。）で示される化合物を製造し、この化合
   物と式Ｒ＿３−ＣＨ＿２ＣＯＹ＿１（３） （式中Ｒ＿３は低級アルキル基を示し、Ｙ＿１はハロゲ
   ン原子を示す）で示される化合物と反応させ式 ▲数式、化学式、表等があります▼（４） （式中▲数式、化学式、表等があります▼は前記と同じ
   意味を有する。）で示される化合物を得、次いでこの化
   合物を強塩基と反応させ、次いで式 ▲数式、化学式、表等があります▼（５） （式中Ｙ＿２はハロゲン原子を示し、Ｒ＿４、Ｒ＿５、
   Ｒ＿６は前記と同じものを意味する）で示される化合物
   と反応させたのちＣｌａｉｓｅｎ転位を行わせ式▲数式
   、化学式、表等があります▼（６） （式中▲数式、化学式、表等があります▼、Ｒ＿４、Ｒ
   ＿５、Ｒ＿６は前記と同じ意味をする）で示される化合
   物を得、次いでこの化合物の▲数式、化学式、表等があ
   ります▼基を還元し、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（７） （式中Ｒ＿３、▲数式、化学式、表等があります▼は前
   記と同じ意味を有する）で示される化合物を得、さらに
   この化合物を水添することを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼（８） （式中Ｒ＿３、▲数式、化学式、表等があります▼は前
   記と同じ意味を有する）で示される化合物の製法。