JPS62204967A - サ−マルヘツドの製造方法 - Google Patents
サ−マルヘツドの製造方法Info
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- JPS62204967A JPS62204967A JP4770386A JP4770386A JPS62204967A JP S62204967 A JPS62204967 A JP S62204967A JP 4770386 A JP4770386 A JP 4770386A JP 4770386 A JP4770386 A JP 4770386A JP S62204967 A JPS62204967 A JP S62204967A
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- Japan
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- layer
- photoresist
- electrode layer
- dry etching
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- Pending
Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/335—Structure of thermal heads
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、サーマルヘッドの製造方法に関する。
通常、サーマルヘッドは感熱記録に用いられているが、
この種のサーマルヘッドを製造するには、＊膜技術や厚
膜技術を使用する場合が一般的であシ、特！／ｃ薄膜技
術を使用したものが性能１優れているため、広く実用化
されている。
この種のサーマルヘッドを製造するには、＊膜技術や厚
膜技術を使用する場合が一般的であシ、特！／ｃ薄膜技
術を使用したものが性能１優れているため、広く実用化
されている。
この薄膜技術によシ得られたサーマルヘッドは。
＠４図に示すように構成され、良伝導体である例えばア
ルミナ焼結体からなる高抵抗基板上１１には、保温のた
めの硝子等からなるグレーズ層１２゜発熱抵抗体＠Ｉ
Ｊ、この発熱抵抗体層１３を一部露出するために開口部
１４ｍが設けられた配線導体用の電極層１４．及びこの
一部露出した発熱抵抗体層１３の酸化防止かつ摩耗防止
のための保護層１５（この保護層１５は酸化防止層及び
摩耗防止層とを別々く形成しても良い）とが順次積層さ
れている。
ルミナ焼結体からなる高抵抗基板上１１には、保温のた
めの硝子等からなるグレーズ層１２゜発熱抵抗体＠Ｉ
Ｊ、この発熱抵抗体層１３を一部露出するために開口部
１４ｍが設けられた配線導体用の電極層１４．及びこの
一部露出した発熱抵抗体層１３の酸化防止かつ摩耗防止
のための保護層１５（この保護層１５は酸化防止層及び
摩耗防止層とを別々く形成しても良い）とが順次積層さ
れている。
このようなサーマルヘッドは１通常１表面にグレーズ層
１２を形成した基板１１上に１発熱抵抗体層１３．電極
層１４を一様に順次積層した後。
１２を形成した基板１１上に１発熱抵抗体層１３．電極
層１４を一様に順次積層した後。
電極層１４をフォトレゾストを使用してフォトエツチン
グによシエッチングして、配線／４ダーンを形成する０
次に、一旦フオドレジストを剥離し。
グによシエッチングして、配線／４ダーンを形成する０
次に、一旦フオドレジストを剥離し。
再度フォトレジスト塗布後、電極１４の一部を配線ノ！
ターンを横断するようにフォトエツチングによシ除去し
二開ロ部１４ｍを設ける。その後、もう一度フオドレジ
ストを剥離し、電極層１４と発熱抵抗体層１３の一部を
被覆するように保護層１５を形成する。
ターンを横断するようにフォトエツチングによシ除去し
二開ロ部１４ｍを設ける。その後、もう一度フオドレジ
ストを剥離し、電極層１４と発熱抵抗体層１３の一部を
被覆するように保護層１５を形成する。
ところが、上記のような従来の製造方法は、高価なフォ
トレジストの使用量が多く生産性が悪い。
トレジストの使用量が多く生産性が悪い。
又１発熱抵抗体層１３０幅人と電極層１４の幅Ｂとの間
に人〈Ｂなる関係が生じ、保護層１５の被覆状態を悪化
させる等の欠点を有していた。
に人〈Ｂなる関係が生じ、保護層１５の被覆状態を悪化
させる等の欠点を有していた。
この発明の目的は、上記従来の製造方法が有していた問
題点を解消し、サーマルヘッドの価格低減化、生産性向
上１品質向上を図ったサーマルヘッドの製造方法を提供
することである。
題点を解消し、サーマルヘッドの価格低減化、生産性向
上１品質向上を図ったサーマルヘッドの製造方法を提供
することである。
〔発明の概要〕
この発明は、グレーズ層を形成した基板上に発熱抵抗体
層と電極層を順次積層し、更にフォトレゾストを介しフ
ッ素系ガスを用いてドライエツチングし、配ヲ臂ダーン
を形成した後、上記フォトレジスト上に形成されたフッ
素化合物をプラズマ処理にて除去し、その後、上記同一
フォトレジストで電極層をドライエツチングして開口部
を設け。
層と電極層を順次積層し、更にフォトレゾストを介しフ
ッ素系ガスを用いてドライエツチングし、配ヲ臂ダーン
を形成した後、上記フォトレジスト上に形成されたフッ
素化合物をプラズマ処理にて除去し、その後、上記同一
フォトレジストで電極層をドライエツチングして開口部
を設け。
上記発熱抵抗体層の一部を露出させるサーマルヘッドの
製造方法である。
製造方法である。
この発明、によるサーマルヘッドの製造方法は。
８１図乃至第３図に示すように構成され、先ず。
セラミックからな）表面にグレー１９１２が形成された
高抵抗の基板１１上に１例えばＴ ａ −８ｉ０゜から
なる発熱抵抗体Ｒ１３及び例えばＡノからなる電極層１
４を一様に順次積層形成する。
高抵抗の基板１１上に１例えばＴ ａ −８ｉ０゜から
なる発熱抵抗体Ｒ１３及び例えばＡノからなる電極層１
４を一様に順次積層形成する。
その後、第２図に示すよう忙、基板１１上に形成された
発熱抵抗体層１３及び電極層１４をフォトレジスト１６
及び例えばフッ素系のガスを用いたドライエツチングに
よシエッチングして、配線ノダター／を形成する。
発熱抵抗体層１３及び電極層１４をフォトレジスト１６
及び例えばフッ素系のガスを用いたドライエツチングに
よシエッチングして、配線ノダター／を形成する。
次に、このフォトレジスト１６上に形成されたフッ素系
化合物を１例えばＯｔガス１００’ｌ。
化合物を１例えばＯｔガス１００’ｌ。
１．２Ｔｏｒｒ、高周波電力１． ＯＫ ｗの条件にて
、１２０秒間プラズマ処理して除去する。
、１２０秒間プラズマ処理して除去する。
その後＠３因に示すように１発熱抵抗体ｌ５Ｏ一部を露
出させるための開口部１４ｍを形成するため、電極層１
４の一部のパターンを横断するように、ドライ二ッをン
グによシ除去する。この場合、上記と同一のフォトレジ
スト１＃を使用する。
出させるための開口部１４ｍを形成するため、電極層１
４の一部のパターンを横断するように、ドライ二ッをン
グによシ除去する。この場合、上記と同一のフォトレジ
スト１＃を使用する。
りまシ、配線ノ母ダーンの形成に使用したフォトレゾス
ト１６を剥離しないで、再び使用する訳である。
ト１６を剥離しないで、再び使用する訳である。
次ＩＩｃ、フォトレゾスト１６除去後、１１４図に示す
ように１発熱抵抗体層１３の露出部と配線パターンの一
部（電極層１４）を被覆するように、保護層１５をス／
ダッダリング等によ）形成する。
ように１発熱抵抗体層１３の露出部と配線パターンの一
部（電極層１４）を被覆するように、保護層１５をス／
ダッダリング等によ）形成する。
尚、第３図くおいて保ａ層１５を形成した後。
人−λを礫で切断し九場合の断面図が１１！４図となる
。
。
又、この実施例では、開口部１４烏のフォトエツチング
前に、フォトレジスト１６表面のデ９ズ實処胤を行々っ
ている。これは、Ｔａ−８１０１の発熱抵抗体Ｐ＠１３
のエツチングＫＣＦ、と０■の混合ガスグラズマを使用
することによシ、フォトレジスト１６表面に形成された
汚染層（フッ素系化合物）を除去するためである。従っ
て１発熱抵抗体層１３をウェットエツチングする場合に
は。
前に、フォトレジスト１６表面のデ９ズ實処胤を行々っ
ている。これは、Ｔａ−８１０１の発熱抵抗体Ｐ＠１３
のエツチングＫＣＦ、と０■の混合ガスグラズマを使用
することによシ、フォトレジスト１６表面に形成された
汚染層（フッ素系化合物）を除去するためである。従っ
て１発熱抵抗体層１３をウェットエツチングする場合に
は。
レジスト表面のプラズマ処理が不要であることは言うま
でもない。
でもない。
この発明によれば、サーマルヘッドの製造工程よシフオ
ドレジスト１６の塗布工程を１回減らすことが可能とな
シ、この結果、フォトレジスト１６の使用量を減少させ
、生産性を向上させることが出来る。又、電極Ｗ１１４
が必然的にオーバーエツチングされるため１発熱抵抗体
層１３の福＾と電極層１４の幅Ｂとの関係はＡ）Ｂとな
シ、保護層１５の被覆状態は改善される。従って、この
発明によシ安価で品質の良いサーマルヘッド″を生産性
良く提供することが出来る。
ドレジスト１６の塗布工程を１回減らすことが可能とな
シ、この結果、フォトレジスト１６の使用量を減少させ
、生産性を向上させることが出来る。又、電極Ｗ１１４
が必然的にオーバーエツチングされるため１発熱抵抗体
層１３の福＾と電極層１４の幅Ｂとの関係はＡ）Ｂとな
シ、保護層１５の被覆状態は改善される。従って、この
発明によシ安価で品質の良いサーマルヘッド″を生産性
良く提供することが出来る。
’＠１図乃至＄３図はこの発明の一実施例に係るサーマ
ルヘッドの製造方法の各工程を示す斜視図、第４図はサ
ーマルヘッドを示す断面図である。 １１・・・基板、１２・・・グレーズ層、１３−・・発
熱抵抗体層、１４・・・電極層、１４暑・・・開口部、
１５−・・保ｒａＷ１．Ｉｌ；・・・フォトレゾスト。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第４図
ルヘッドの製造方法の各工程を示す斜視図、第４図はサ
ーマルヘッドを示す断面図である。 １１・・・基板、１２・・・グレーズ層、１３−・・発
熱抵抗体層、１４・・・電極層、１４暑・・・開口部、
１５−・・保ｒａＷ１．Ｉｌ；・・・フォトレゾスト。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第４図
Claims (1)
- グレーズ層を形成した基板上に発熱抵抗体層と電極層を
順次積層し、更にフォトレジストを介し所定ガスを用い
てドライエッチングし、配線パターンを形成した後、上
記フォトレジスト上に形成された化合物をプラズマ処理
にて除去し、その後、上記同一フォトレジストで上記電
極層をドライエッチングして開口部を設け、上記発熱抵
抗体層の一部を露出させることを特徴とするサーマルヘ
ッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4770386A JPS62204967A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | サ−マルヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4770386A JPS62204967A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | サ−マルヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62204967A true JPS62204967A (ja) | 1987-09-09 |
Family
ID=12782658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4770386A Pending JPS62204967A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | サ−マルヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62204967A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002225325A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-14 | Kyocera Corp | サーマルヘッドの製造方法 |
-
1986
- 1986-03-05 JP JP4770386A patent/JPS62204967A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002225325A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-14 | Kyocera Corp | サーマルヘッドの製造方法 |
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