JPS5877019A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS5877019A JPS5877019A JP16646082A JP16646082A JPS5877019A JP S5877019 A JPS5877019 A JP S5877019A JP 16646082 A JP16646082 A JP 16646082A JP 16646082 A JP16646082 A JP 16646082A JP S5877019 A JPS5877019 A JP S5877019A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- conductor
- lower magnetic
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3133—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は電算機の磁気ドラム、磁気テープ或いは磁気デ
ィスクに使用される薄膜磁気へレドに関する。
ィスクに使用される薄膜磁気へレドに関する。
薄膜磁気ヘッドは、磁気ドラム、磁気テープ或いは磁気
ディスクの磁気記録密度を高くするために薄膜技術で形
成した磁気ヘッドで、通常一部に磁気ギャップを有する
磁気回路全形成する下部磁性膜及び上部磁性膜と、両磁
性膜間を通り磁気回路と交差するコイルを形成する導体
膜とを１基板上に必要個所に絶縁膜を介して積層し次構
成管採っている。
ディスクの磁気記録密度を高くするために薄膜技術で形
成した磁気ヘッドで、通常一部に磁気ギャップを有する
磁気回路全形成する下部磁性膜及び上部磁性膜と、両磁
性膜間を通り磁気回路と交差するコイルを形成する導体
膜とを１基板上に必要個所に絶縁膜を介して積層し次構
成管採っている。
従来この種薄膜磁気ヘッドの絶縁膜としては、５ｉσ＊
ｅ Ａｔｓ Ｏｓ等の無機絶縁物が使用されている。
ｅ Ａｔｓ Ｏｓ等の無機絶縁物が使用されている。
しかし、無機絶縁物のみで絶縁膜を形成する場合には、
基板上と下部磁性膜上とで絶縁膜に段差が生じ、この段
差により絶縁膜上に形成する導体膜が断線するおそれが
ある。また、段差部では絶縁膜の膜厚が小さくなったシ
或いは絶縁膜が角部でと切れ、下部磁性膜と導体膜との
絶縁耐力が低下するおそれがある。
基板上と下部磁性膜上とで絶縁膜に段差が生じ、この段
差により絶縁膜上に形成する導体膜が断線するおそれが
ある。また、段差部では絶縁膜の膜厚が小さくなったシ
或いは絶縁膜が角部でと切れ、下部磁性膜と導体膜との
絶縁耐力が低下するおそれがある。
これらの点ｔ−線除去るためには、絶縁膜を厚くするこ
左が考えられるが、無機絶縁物は導体膜及び磁性膜と熱
膨張係数が異なることから、絶縁膜を厚くすると絶縁膜
の割れ或いは剥離が生じ、導体膜相互が短絡したり、導
体膜と磁性膜とが短絡するおそれがある。
左が考えられるが、無機絶縁物は導体膜及び磁性膜と熱
膨張係数が異なることから、絶縁膜を厚くすると絶縁膜
の割れ或いは剥離が生じ、導体膜相互が短絡したり、導
体膜と磁性膜とが短絡するおそれがある。
本発明の目的は、導体膜のｉ１？＃の除去、導体膜相互
間及び導体膜と磁性膜との間の短絡のおそれｔ−ｔｓ去
した薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
間及び導体膜と磁性膜との間の短絡のおそれｔ−ｔｓ去
した薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
かかる目的１ｃ萎する本発明薄膜磁気ヘッドの特徴とす
るところは、下部磁性膜と導体膜との間の絶縁膜ｔ−１
板上の少なくとも導体膜を形成すべき個所に延在すると
共に、Ｊａ縁膜の導体［’に形成した面奮略平坦とした
点にある６本発明薄膜磁気ヘッドの他の物像は、絶縁属
ヲ有機樹脂とした点にある。
るところは、下部磁性膜と導体膜との間の絶縁膜ｔ−１
板上の少なくとも導体膜を形成すべき個所に延在すると
共に、Ｊａ縁膜の導体［’に形成した面奮略平坦とした
点にある６本発明薄膜磁気ヘッドの他の物像は、絶縁属
ヲ有機樹脂とした点にある。
第１図及び第２図において、ｌは基板、２は基板ｌの選
択された個所上に形成された下部磁性膜３は基板ｌの下
部磁性膜２を形成した姑及び下部磁性Ｊｉｌ［２ｔ−破
うように形成した有機樹脂膜で、この膜は下部磁性膜２
の有るｉｌ！１所と無い個所とで膜表面に凹凸ができな
いように下部磁性膜２より厚く形成されている。４は一
部が下部磁性膜２と交差するように有機樹脂膜３上に形
成し良導体膜、５は一端５１が下部磁性膜２の一端に有
機樹脂膜３の窓部を通して接触し、他端５２が下部磁性
膜２の他端に磁気ギャップＧｔ−介して対向するように
下部磁性膜２及び導体膜４上に形成された上部磁性膜で
、下部磁性膜２と共に一部に磁気ギャップを有し導体膜
４で形成されるコイルと交差する磁気回路を構成してい
る。６は導体膜４と上部磁性膜５との間に介した絶縁膜
である。
択された個所上に形成された下部磁性膜３は基板ｌの下
部磁性膜２を形成した姑及び下部磁性Ｊｉｌ［２ｔ−破
うように形成した有機樹脂膜で、この膜は下部磁性膜２
の有るｉｌ！１所と無い個所とで膜表面に凹凸ができな
いように下部磁性膜２より厚く形成されている。４は一
部が下部磁性膜２と交差するように有機樹脂膜３上に形
成し良導体膜、５は一端５１が下部磁性膜２の一端に有
機樹脂膜３の窓部を通して接触し、他端５２が下部磁性
膜２の他端に磁気ギャップＧｔ−介して対向するように
下部磁性膜２及び導体膜４上に形成された上部磁性膜で
、下部磁性膜２と共に一部に磁気ギャップを有し導体膜
４で形成されるコイルと交差する磁気回路を構成してい
る。６は導体膜４と上部磁性膜５との間に介した絶縁膜
である。
かかる構成の薄膜磁気ヘッドによれば、導体膜４１を形
成すべき面は段差がなく平坦面となっているため、従来
の欠点を一掃することができ、即ち導体膜の断線、導体
膜相互或いは導体膜と磁性膜間の短絡等のおそれ七完全
に除去することができる。
成すべき面は段差がなく平坦面となっているため、従来
の欠点を一掃することができ、即ち導体膜の断線、導体
膜相互或いは導体膜と磁性膜間の短絡等のおそれ七完全
に除去することができる。
次にかかる薄膜磁気ヘッドの製法の一例について説明す
る。
る。
まず、非磁性の基板１を準備し、その−面上にパーマロ
イ等の磁性材料で下部磁性膜２を形成する。この工程は
基板１の一面全体に蒸着、めっき等によシ磁性膜を形成
した後、ホトエツチング技術で所定形状にする方法、或
いは基板１の一面の下部磁性膜を形成すべき個所を残し
て他の個所をマスクで被って蒸着、めっき等によって磁
性膜を形成する方法により行なわれる。次に、基板１の
下部磁性＊２ｍ−形成した面に、ポリインキナゾリンジ
オのようなポリイミド系樹Ｊ１ｍｔ−回転塗布法によシ
下部磁性膜表面を含む全面に塗布する。塗布されたポリ
イミド系樹脂は、゛電気炉で３００−４００Ｃ８！度の
温度で焼成され信頼性の高い有機樹脂膜３となる。この
有機樹脂膜３は、酸素グラズマ或いはヒドラジン系ｑ水
溶液でホトレジるトｔマδりＫて精密なエツチング加工
ができる利点を持っている。ついで有機樹脂Ｉｘｓ上に
導体膜４ｍ：形成する。この工程は膜の材料を除き上部
磁性＠２と同じ方法で行なわれる。導体膜４上に有機樹
脂３と同じ方法によシ絶縁１［６ｔ−形成する。しかる
後、上部磁性膜５を下部磁性膜２と同じ方法によシ形成
する。上部磁性Ｉ！Ａ５は一端５１が下部磁性膜２の一
端と接触しているため、磁性膜５ｔ−形成する前に有機
樹脂膜３に例えばホトエツチング技術によシ下部磁性膜
２を露出させる窓部を形成しておく必要がある。これに
よって、本発明を適用したｌターンの薄膜磁気ヘッドが
得られる。
イ等の磁性材料で下部磁性膜２を形成する。この工程は
基板１の一面全体に蒸着、めっき等によシ磁性膜を形成
した後、ホトエツチング技術で所定形状にする方法、或
いは基板１の一面の下部磁性膜を形成すべき個所を残し
て他の個所をマスクで被って蒸着、めっき等によって磁
性膜を形成する方法により行なわれる。次に、基板１の
下部磁性＊２ｍ−形成した面に、ポリインキナゾリンジ
オのようなポリイミド系樹Ｊ１ｍｔ−回転塗布法によシ
下部磁性膜表面を含む全面に塗布する。塗布されたポリ
イミド系樹脂は、゛電気炉で３００−４００Ｃ８！度の
温度で焼成され信頼性の高い有機樹脂膜３となる。この
有機樹脂膜３は、酸素グラズマ或いはヒドラジン系ｑ水
溶液でホトレジるトｔマδりＫて精密なエツチング加工
ができる利点を持っている。ついで有機樹脂Ｉｘｓ上に
導体膜４ｍ：形成する。この工程は膜の材料を除き上部
磁性＠２と同じ方法で行なわれる。導体膜４上に有機樹
脂３と同じ方法によシ絶縁１［６ｔ−形成する。しかる
後、上部磁性膜５を下部磁性膜２と同じ方法によシ形成
する。上部磁性Ｉ！Ａ５は一端５１が下部磁性膜２の一
端と接触しているため、磁性膜５ｔ−形成する前に有機
樹脂膜３に例えばホトエツチング技術によシ下部磁性膜
２を露出させる窓部を形成しておく必要がある。これに
よって、本発明を適用したｌターンの薄膜磁気ヘッドが
得られる。
本発明において重要な点は、有機樹脂膜３が下□部磁性
膜によって生じる段差を吸収してその表面が略平坦化さ
れていることに°ある。平坦化面を得る方法としては、
上述した回転塗布後焼成する方法があるが、これだけで
は有機樹脂膜表面の凹凸を完全に除去することは難しく
、磁気ヘッドの用途によってはこの方法では不十分な場
合が生じる。
膜によって生じる段差を吸収してその表面が略平坦化さ
れていることに°ある。平坦化面を得る方法としては、
上述した回転塗布後焼成する方法があるが、これだけで
は有機樹脂膜表面の凹凸を完全に除去することは難しく
、磁気ヘッドの用途によってはこの方法では不十分な場
合が生じる。
有機樹脂膜表面の凹凸を更に除去して平坦化する有効な
方法を第３図によ）説明する。
方法を第３図によ）説明する。
まず、基板１の下部磁性膜２ｔ−形成した面にポリイミ
ド系樹脂３０ｔ−厚く形成する。その方法としては、例
えば未硬化の樹脂の粘度が高いものｔ使用した）、或い
は回転塗布の際の回転数？減少することが考えられる。
ド系樹脂３０ｔ−厚く形成する。その方法としては、例
えば未硬化の樹脂の粘度が高いものｔ使用した）、或い
は回転塗布の際の回転数？減少することが考えられる。
これによって、１〜１０□μｍの厚さをもつ有機樹脂膜
３０を得ることができる（第３図ａ）。次に、下部磁性
膜２上の有機１１脂１Ｋ３０ｔ−エツチングしたり、研
摩する仁とによって樹脂膜３０の凸Ｗｔ除去する。これ
によって、平坦面を持つ有機樹脂膜３を得ることができ
る（第３図ｂ）。
３０を得ることができる（第３図ａ）。次に、下部磁性
膜２上の有機１１脂１Ｋ３０ｔ−エツチングしたり、研
摩する仁とによって樹脂膜３０の凸Ｗｔ除去する。これ
によって、平坦面を持つ有機樹脂膜３を得ることができ
る（第３図ｂ）。
以上は本発明會−実施例として示したｌターンコイルを
備える薄膜磁気ヘッドを例に採って説明したが、本発明
はこれに限定されることなく複数ターンコイルを備える
薄膜磁気ヘッドにも適用することができる。更に、本発
明の思想の範囲内で檀々の変形が可能である。
備える薄膜磁気ヘッドを例に採って説明したが、本発明
はこれに限定されることなく複数ターンコイルを備える
薄膜磁気ヘッドにも適用することができる。更に、本発
明の思想の範囲内で檀々の変形が可能である。
第１図は本発明薄膜磁気ヘッドの一界施例を示。
す概略斜視図、第２図は第１図の［−ＩＮＦ沿う断面図
、第３図は本発明薄膜磁気ヘッドに用いる有機樹脂膜の
形成法を示す工程図である。
、第３図は本発明薄膜磁気ヘッドに用いる有機樹脂膜の
形成法を示す工程図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下−磁性膜と、下部磁性膜上に形成され一端が下部
磁性膜の一端に接し他端が下部磁性膜の他端に磁気ギャ
ップを介して対向し、下部磁性膜と共に一部に磁気ギヤ
ツブ倉吉する磁気回路全形成する上部磁性膜と、下部磁
性膜と上部磁性膜との間を通９磁気回路と交差する所定
巻回数のコイルを形成する導体膜と、導体膜と下部磁性
膜及び上部磁性膜とを電気的に絶縁する絶縁膜とを有し
、これらが基板上に薄膜技術によシ一体に形成されてな
るものにおいて、導体膜と下部磁性膜との間の絶縁膜が
基板上の少なくとも導体膜を形成すべき個所に延び、該
絶縁膜の導体膜を形成した面は略平坦であること全特徴
とすする薄膜磁気ヘッド。 ２、特許請求の範囲第１項において、絶縁膜が有機樹脂
で形成されていることｔ−籍ｉ；とする薄膜磁気ヘッド
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16646082A JPS5877019A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16646082A JPS5877019A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5223976A Division JPS52135713A (en) | 1976-05-10 | 1976-05-10 | Formation of magnetic head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5877019A true JPS5877019A (ja) | 1983-05-10 |
Family
ID=15831808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16646082A Pending JPS5877019A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5877019A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60111312A (ja) * | 1983-11-18 | 1985-06-17 | Sanyo Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
-
1982
- 1982-09-27 JP JP16646082A patent/JPS5877019A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60111312A (ja) * | 1983-11-18 | 1985-06-17 | Sanyo Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
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