JPS6220117A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS6220117A JPS6220117A JP15909285A JP15909285A JPS6220117A JP S6220117 A JPS6220117 A JP S6220117A JP 15909285 A JP15909285 A JP 15909285A JP 15909285 A JP15909285 A JP 15909285A JP S6220117 A JPS6220117 A JP S6220117A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- exposing
- photoresist
- thin film
- magnetic head
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
写真食刻法によるスパイラルコイル形の薄膜磁気ヘッド
の製造において、斜め入射光による感光性樹脂膜の露光
精度の低下を防止し、スパイラルコイルのパターン精度
を向上したもの。
の製造において、斜め入射光による感光性樹脂膜の露光
精度の低下を防止し、スパイラルコイルのパターン精度
を向上したもの。
本発明はコイル導体のパターン精度の向上を図ったスパ
イラルコイル形の薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。
イラルコイル形の薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。
磁気記憶装置の磁気ヘッドには、一括生産によるコスト
ダウン、ならびに加工精度の向上および磁気的性質の劣
化防止による高密度記録化等の面から、感光性樹脂（ホ
トレジスト）を用い写真食刻法（ホトエツチング）によ
って製造した薄膜磁気へ・ノドが用いられるようになっ
た。
ダウン、ならびに加工精度の向上および磁気的性質の劣
化防止による高密度記録化等の面から、感光性樹脂（ホ
トレジスト）を用い写真食刻法（ホトエツチング）によ
って製造した薄膜磁気へ・ノドが用いられるようになっ
た。
薄膜磁気ヘッドは、従来のバルク形磁気ヘッドのように
コイルを用いるものと、磁気抵抗効果素子を用いるもの
とに大別されるが、コイルを用いるものには、所要の起
磁力を得るため、コイル導体をスパイラル状に形成する
ことによってコイルｆｔ’数を増加したものがある。
コイルを用いるものと、磁気抵抗効果素子を用いるもの
とに大別されるが、コイルを用いるものには、所要の起
磁力を得るため、コイル導体をスパイラル状に形成する
ことによってコイルｆｔ’数を増加したものがある。
第３図はコイル導体をスパイラル状のに形成したスパイ
ラルコイル形の薄膜磁気ヘッドの要部の説明図であり、
１は基板、２は下部磁極、３は上部磁極、４は読み書き
ギャップを表す。
ラルコイル形の薄膜磁気ヘッドの要部の説明図であり、
１は基板、２は下部磁極、３は上部磁極、４は読み書き
ギャップを表す。
また５ａと５ｂはコイル導体を表し＋ ５ａは下部磁極
２と上部磁極３とに囲まれた内側を通る部分であり、下
部磁極２上に絶縁Ｍ（図示省略）を介して形成されてい
る。これに対して５ｂは、下部磁極２と上部磁極４との
外側を通る部分であり、基板１上に形成されている。
２と上部磁極３とに囲まれた内側を通る部分であり、下
部磁極２上に絶縁Ｍ（図示省略）を介して形成されてい
る。これに対して５ｂは、下部磁極２と上部磁極４との
外側を通る部分であり、基板１上に形成されている。
このため、下部磁極２と上部磁極３とに囲まれた内側を
通るコイル導体５ａと、外側を通るコイル導体５ｂとの
間に、薄膜面に対し垂直方向の段差が生ずる。
通るコイル導体５ａと、外側を通るコイル導体５ｂとの
間に、薄膜面に対し垂直方向の段差が生ずる。
この際、前記段差のためにコイル導体のパターン精度が
低下することは好ましくない。
低下することは好ましくない。
第４図は従来例の説明図であり、以下、企図を通じて同
一符号は同一対象を指すものとし、第４図において、６
はホトレジスト膜、７はホトマスク、また７１はホトマ
スク７の下面に形成された遮光膜パターンであり７２は
窓部を示す。
一符号は同一対象を指すものとし、第４図において、６
はホトレジスト膜、７はホトマスク、また７１はホトマ
スク７の下面に形成された遮光膜パターンであり７２は
窓部を示す。
すなわち１片面側にのみ遮光膜パターン７１を形成した
ホトマスク７を用い、これを段差のあるホトレジスト膜
６の上段に遮光膜パターン７１側を接触させた状態で露
光を行うものである。
ホトマスク７を用い、これを段差のあるホトレジスト膜
６の上段に遮光膜パターン７１側を接触させた状態で露
光を行うものである。
上記従来例の方法によると、ホトマスク７の照射光は必
ずしもすべて光軸に対し平行とは限らないので２図示例
におけるように段差のあるホトレジスト膜６を露光する
場合、低い方の露光部（図において左側）は、斜め入射
光のために点線によって示すようにホトマスク７の窓部
７２の幅よりも広い範囲が露光される。
ずしもすべて光軸に対し平行とは限らないので２図示例
におけるように段差のあるホトレジスト膜６を露光する
場合、低い方の露光部（図において左側）は、斜め入射
光のために点線によって示すようにホトマスク７の窓部
７２の幅よりも広い範囲が露光される。
このため、隣接するパターン（図示省略）との間隔に余
裕を設ける必要があり、パターン密度を上げられないと
いう問題点がある。
裕を設ける必要があり、パターン密度を上げられないと
いう問題点がある。
すなわち本発明の目的は、コイル導体パターンを正確に
形成し、パターン密度を向上することのできる薄膜磁気
ヘッドの製造方法を提供することにある。
形成し、パターン密度を向上することのできる薄膜磁気
ヘッドの製造方法を提供することにある。
第１図は本発明の原理図である。図中。
８は斜め入射光を遮断するように構成されたホトマスク
であり、これを段差のあるホトレジストＩＩ！ ６の上
段に重ねて露光している状態を示す。
であり、これを段差のあるホトレジストＩＩ！ ６の上
段に重ねて露光している状態を示す。
なお、ホトマスク８のうちハンチングを施した部分８１
は遮光部を、また８２は窓部を表す。
は遮光部を、また８２は窓部を表す。
すなわち、斜め入射光を除かれた照射光にょっ １ホ
トレジスト膜６の露光が行われる。
トレジスト膜６の露光が行われる。
このため、ホトレジスト膜６に段差があってホトレジス
ト膜６とホトマスク８との間に隙間が生ずる個所でも、
隙間が生じない個所と同様な条件によって露光が行われ
る。
ト膜６とホトマスク８との間に隙間が生ずる個所でも、
隙間が生じない個所と同様な条件によって露光が行われ
る。
第２図（ａ）は実施例の構成図であり、ホトマスク８は
、比較的厚みのある例えば２〜３ｍｍの透明基板８ａの
上面および下面に、パターン形状が合同な遮光膜パター
ン８ｂｌおよび８ｂ２を１面に対し垂直左向に一致する
ように位置合わせして形成したもつである。
、比較的厚みのある例えば２〜３ｍｍの透明基板８ａの
上面および下面に、パターン形状が合同な遮光膜パター
ン８ｂｌおよび８ｂ２を１面に対し垂直左向に一致する
ように位置合わせして形成したもつである。
すなわち９本実施例は、ホトマスク８の両面に鷹光膜パ
ターン８ｂｌおよび８ｂ２を形成するとともこ、全体の
厚みを従来のものより大きくしたものであり、第２図（
ｂ）に示すように、上面の遮光膜パターン８ｂｌの開口
部８２から入射した斜め入射光を。
ターン８ｂｌおよび８ｂ２を形成するとともこ、全体の
厚みを従来のものより大きくしたものであり、第２図（
ｂ）に示すように、上面の遮光膜パターン８ｂｌの開口
部８２から入射した斜め入射光を。
Ｆ面の遮光膜パターン８ｂ２の遮光部８１によって遮断
することができる。このため、斜め入射光のたｂにホト
レジストＭ６が余分に露光されることを怪減することが
できる。
することができる。このため、斜め入射光のたｂにホト
レジストＭ６が余分に露光されることを怪減することが
できる。
以上説明したように１本発明によれば段差によってホト
マスクとホトレジスト膜との間に隙間がちる個所でも、
Ｆ！Ｊ間のない個所と同様に正確な露光を行うことがで
きる。
マスクとホトレジスト膜との間に隙間がちる個所でも、
Ｆ！Ｊ間のない個所と同様に正確な露光を行うことがで
きる。
このため、隣接するパターンとの間の間隔を必四以上に
拡げる必要がないので、スパイラルコイルのパターン密
度を高くすることができる。
拡げる必要がないので、スパイラルコイルのパターン密
度を高くすることができる。
第１図は本発明の原理図。
第２図（ａ）は実施例の構成図。
第２図（ｂ）は実施例の説明図。
第３図は薄膜磁気ヘッドの説明図。
第４図は従来例の説明図である。
図中。
２は下部磁極、 ３は上部磁極。
６はホトレジスト膜、 ８はホトマスク。
８１は遮光部、８２は窓部。
８ａは透明基板、８ｂ１ と８ｂ２は遮光膜パタＣｂ’
）実施例の悦呵園 草２ｚ
）実施例の悦呵園 草２ｚ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 スパイラルコイル形の薄膜磁気ヘッドの製造方法であっ
て、 スパイラルコイルの導体パターン形成用のホトレジスト
（６）の露光において、 斜め入射光を遮断するように構成されたホトマスク（８
）を用いることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15909285A JPS6220117A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15909285A JPS6220117A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6220117A true JPS6220117A (ja) | 1987-01-28 |
Family
ID=15686059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15909285A Pending JPS6220117A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6220117A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5721651A (en) * | 1995-08-02 | 1998-02-24 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head and manufacturing method of the same |
| JP2008095616A (ja) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Honda Motor Co Ltd | シリンダヘッドのウォータジャケット |
| JP2009074380A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Mazda Motor Corp | エンジンの２系統式冷却装置 |
-
1985
- 1985-07-18 JP JP15909285A patent/JPS6220117A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5721651A (en) * | 1995-08-02 | 1998-02-24 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head and manufacturing method of the same |
| US5837963A (en) * | 1995-08-02 | 1998-11-17 | Tdk Corporation | Method of manufacturing a thin film magnetic head with identification marks |
| JP2008095616A (ja) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Honda Motor Co Ltd | シリンダヘッドのウォータジャケット |
| JP2009074380A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Mazda Motor Corp | エンジンの２系統式冷却装置 |
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