JPS6219856A - パタ−ン被形成基板の位置合わせ方法 - Google Patents

パタ−ン被形成基板の位置合わせ方法

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JPS6219856A
JPS6219856A JP60159444A JP15944485A JPS6219856A JP S6219856 A JPS6219856 A JP S6219856A JP 60159444 A JP60159444 A JP 60159444A JP 15944485 A JP15944485 A JP 15944485A JP S6219856 A JPS6219856 A JP S6219856A
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隆也 長畑
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Rohm Co Ltd
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0246458A (ja) * 1988-08-08 1990-02-15 Nec Corp マスク目合せパターン
JPH0326230A (ja) * 1989-06-26 1991-02-04 Kanebo Ltd 皮膚特性チェック装置
JPWO2012133760A1 (ja) * 2011-03-30 2014-07-28 ボンドテック株式会社 電子部品実装方法、電子部品実装システムおよび基板
CN106004096A (zh) * 2016-05-13 2016-10-12 清华大学深圳研究生院 一种用于打印石英晶体传感器敏感层的喷墨打印托盘
CN109358475A (zh) * 2018-12-05 2019-02-19 全普光电科技(上海)有限公司 对准标记、掩膜版及其制备方法
JP2021173921A (ja) * 2020-04-28 2021-11-01 ローム株式会社 サーマルプリントヘッド及びその製造方法並びにサーマルプリンタ

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