JPS62197850U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS62197850U JPS62197850U JP8654686U JP8654686U JPS62197850U JP S62197850 U JPS62197850 U JP S62197850U JP 8654686 U JP8654686 U JP 8654686U JP 8654686 U JP8654686 U JP 8654686U JP S62197850 U JPS62197850 U JP S62197850U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction gas
- electrodes
- pair
- reservoirs
- gas introduction
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例を説明する要部断面
図、第２図は従来例を説明する要部断面図、第３
図はエツチング速度の処理室圧力依存性を示すグ
ラフである。 １１……処理室、１２……上部電極、１２ａ…
…支持部、１３……下部電極、１４……第１の反
応ガス溜槽、１４ａ……第２の反応ガス溜槽、１
５……第１の反応ガス導入孔、１５ａ……第２の
反応ガス導入孔、１６……第１の反応ガス導入管
、１６ａ……第２の反応ガス導入管、１７……第
１の反応ガス流量制御部、１７ａ……第２の反応
ガス流量制御部、１８……排気口。
図、第２図は従来例を説明する要部断面図、第３
図はエツチング速度の処理室圧力依存性を示すグ
ラフである。 １１……処理室、１２……上部電極、１２ａ…
…支持部、１３……下部電極、１４……第１の反
応ガス溜槽、１４ａ……第２の反応ガス溜槽、１
５……第１の反応ガス導入孔、１５ａ……第２の
反応ガス導入孔、１６……第１の反応ガス導入管
、１６ａ……第２の反応ガス導入管、１７……第
１の反応ガス流量制御部、１７ａ……第２の反応
ガス流量制御部、１８……排気口。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 処理室内に対向する一対の電極を有する平行平
板電極型プラズマ装置において、 上記一対の電極の一方の電極にて、その内部に
中心部から周辺部に向かう方向に複数の反応ガス
溜槽を設けると共に、この複数の各反応ガス溜槽
に夫々対応して連通する複数のガス導入管及び反
応ガス測量制御部を通して外部のガス供給源に接
続し、更に上記複数の反応ガス溜槽下方に夫々複
数の反応ガス導入孔を設けるよう構成したことを
特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8654686U JPS62197850U (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8654686U JPS62197850U (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62197850U true JPS62197850U (ja) | 1987-12-16 |
Family
ID=30942946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8654686U Pending JPS62197850U (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62197850U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02111887A (ja) * | 1988-10-19 | 1990-04-24 | Ulvac Corp | 真空処理装置 |
-
1986
- 1986-06-09 JP JP8654686U patent/JPS62197850U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02111887A (ja) * | 1988-10-19 | 1990-04-24 | Ulvac Corp | 真空処理装置 |