JPS62191Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS62191Y2 JPS62191Y2 JP1983016597U JP1659783U JPS62191Y2 JP S62191 Y2 JPS62191 Y2 JP S62191Y2 JP 1983016597 U JP1983016597 U JP 1983016597U JP 1659783 U JP1659783 U JP 1659783U JP S62191 Y2 JPS62191 Y2 JP S62191Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- potential
- circuit
- electron beam
- measured
- measurement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1659783U JPS58150839U (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 電子ビ−ムを用いた測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1659783U JPS58150839U (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 電子ビ−ムを用いた測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58150839U JPS58150839U (ja) | 1983-10-08 |
JPS62191Y2 true JPS62191Y2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1987-01-07 |
Family
ID=30028960
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1659783U Granted JPS58150839U (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 電子ビ−ムを用いた測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58150839U (enrdf_load_stackoverflow) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5120255B2 (enrdf_load_stackoverflow) * | 1972-11-17 | 1976-06-23 |
-
1983
- 1983-02-07 JP JP1659783U patent/JPS58150839U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58150839U (ja) | 1983-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4706019A (en) | Electron beam test probe system for analyzing integrated circuits | |
JP3534582B2 (ja) | パターン欠陥検査方法および検査装置 | |
KR100775437B1 (ko) | 패턴검사장치및그방법 | |
US20090189075A1 (en) | Inspection method and inspection system using charged particle beam | |
JPH11326247A (ja) | 基板検査装置およびこれを備えた基板検査システム並びに基板検査方法 | |
JP2001127125A (ja) | 半導体デバイスパターンの欠陥検査・不良解析方法、半導体デバイスパターンの欠陥検査・不良解析システム、および、半導体デバイスパターンの検査装置 | |
US5045783A (en) | Method for testing a printed circuit board with a particle probe | |
JPH10134757A (ja) | マルチビーム検査装置 | |
US5053699A (en) | Scanning electron microscope based parametric testing method and apparatus | |
JPH11154695A (ja) | 集積回路の故障箇所特定方法および故障箇所特定装置 | |
JP3330382B2 (ja) | 集積回路の試験・修復装置 | |
JPS62191Y2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JP2002139464A (ja) | 半導体装置の検査方法および検査装置 | |
JPH03146951A (ja) | 集束イオンビーム装置におけるアパーチャー検査方法 | |
JP2000077019A (ja) | 電子顕微鏡 | |
JPS6089050A (ja) | ストロボ走査電子顕微鏡 | |
JP2978971B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビーム位置決め方法 | |
JPH0815173B2 (ja) | 半導体集積回路の動作評価方法 | |
JP2000304827A (ja) | 非接触導通検査方法及びその装置 | |
JPS6164135A (ja) | 半導体解析装置 | |
JPS61156627A (ja) | 試料電圧測定装置 | |
JPH0725724Y2 (ja) | マイクロパッド | |
JP2557847B2 (ja) | 半導体集積回路の動作解析方法及び動作解析装置 | |
JPH0417250A (ja) | 電子ビーム装置 | |
JPH10223709A (ja) | 電子素子評価装置 |