JPS61156627A - 試料電圧測定装置 - Google Patents
試料電圧測定装置Info
- Publication number
- JPS61156627A JPS61156627A JP59278266A JP27826684A JPS61156627A JP S61156627 A JPS61156627 A JP S61156627A JP 59278266 A JP59278266 A JP 59278266A JP 27826684 A JP27826684 A JP 27826684A JP S61156627 A JPS61156627 A JP S61156627A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- filter
- shift
- voltage
- sample
- Prior art date
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- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Measurement Of Current Or Voltage (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、例えば大規模集積回路（以下、ＬＳＩと称
する）等の内部回路を解析するときに使用される電子ビ
ーム試験装置（以下、ＥＢテスタと称する）のような試
料電圧測定装置に関する。
する）等の内部回路を解析するときに使用される電子ビ
ーム試験装置（以下、ＥＢテスタと称する）のような試
料電圧測定装置に関する。
近年、ＬＳＩの内部回路の解析は、プローブとして金線
の代シに電子ビームを用いたＥＢテスタによって行われ
るのが一般的である。このＥＢテスタは、電子ビームを
試料駆動信号に同期してパルス化するパルスｆｆ−）機
能を有する点を除げば、基本的には、走査型電子顕微鏡
（以下、ＳＥＭと称する）と同じである。すなわち、パ
ルス化された電子ビームを試料に照射し、これによって
発生する２次電子を用いて試料電圧を測定するわけであ
る。
の代シに電子ビームを用いたＥＢテスタによって行われ
るのが一般的である。このＥＢテスタは、電子ビームを
試料駆動信号に同期してパルス化するパルスｆｆ−）機
能を有する点を除げば、基本的には、走査型電子顕微鏡
（以下、ＳＥＭと称する）と同じである。すなわち、パ
ルス化された電子ビームを試料に照射し、これによって
発生する２次電子を用いて試料電圧を測定するわけであ
る。
これらＥｌテスタやＳＥＭにおいては、試料電圧の測定
精度を向上させるために、第４図に示すようなエネルギ
ーフィルタが用いられる。第４図において、１ノはエネ
ルギーフィルタで、引き出し電極１２、引き出しグリッ
ド１３、フィルタグリッド１４を有する。１５はＬＳＩ
等の試料である。１６は電子ビームの照射路である。
精度を向上させるために、第４図に示すようなエネルギ
ーフィルタが用いられる。第４図において、１ノはエネ
ルギーフィルタで、引き出し電極１２、引き出しグリッ
ド１３、フィルタグリッド１４を有する。１５はＬＳＩ
等の試料である。１６は電子ビームの照射路である。
ところで、試料電圧を正確に測定するには、電子ビーム
の偏向中心とエネルギーフィルタ１ノの軸中心が一致し
ている必要がある。このため、従来は、エネルギーフィ
ルタ１１をＸ。
の偏向中心とエネルギーフィルタ１ノの軸中心が一致し
ている必要がある。このため、従来は、エネルギーフィ
ルタ１１をＸ。
Ｙ方向に動かすとともに、その傾きを変えながら、ＳＥ
Ｍ像を監視し、所定のＳＥＭ像が得られるようにすると
いう機械的かつ試行錯誤的なやυ方で、電子ビームの偏
向中心とフィルタ１ノの軸中心の一致を図っていた。
Ｍ像を監視し、所定のＳＥＭ像が得られるようにすると
いう機械的かつ試行錯誤的なやυ方で、電子ビームの偏
向中心とフィルタ１ノの軸中心の一致を図っていた。
しかし、機械的操作によシ、電子ビームの偏向中心とフ
ィルタ１１の軸中心を一致させる場合、次のような問題
がある。
ィルタ１１の軸中心を一致させる場合、次のような問題
がある。
すなわち、フィルタ１ノにおけるフィルタグリッド１４
や引き出しグリ、ド１３が真球であれば、フィルタ電界
が常に予じめ定めた所定の電界となる。したがって、こ
の場合は、フィルタ１１の軸中心が常に一義的に決まシ
、機械的操作によっても、上記両中心を一致させること
は比較的容易である。
や引き出しグリ、ド１３が真球であれば、フィルタ電界
が常に予じめ定めた所定の電界となる。したがって、こ
の場合は、フィルタ１１の軸中心が常に一義的に決まシ
、機械的操作によっても、上記両中心を一致させること
は比較的容易である。
しかし、フィルタグリッド１４や引き出しグリッド１３
を真球に加工することは非常に難しく、これらに加工誤
差が生じると、その誤差の程度に応じてフィルタ電界が
変化し、電子ビームがシフトする。これによシ、フィル
タ１１の軸中心が一義的に決まらなくなり、機械的操作
によって上記２つの中心を一致させることは非常に難Ｌ
くなる。
を真球に加工することは非常に難しく、これらに加工誤
差が生じると、その誤差の程度に応じてフィルタ電界が
変化し、電子ビームがシフトする。これによシ、フィル
タ１１の軸中心が一義的に決まらなくなり、機械的操作
によって上記２つの中心を一致させることは非常に難Ｌ
くなる。
ここで、ＳＥＭであれば、解像度を上げるために、電子
ビームが高電圧で加速されるので、フィルタ電界が変化
しても、電子ビームがｌ’Ｌとんどシフトしない。した
がって、このＳＥＭでは、上述したような問題はほとん
ど生じない。
ビームが高電圧で加速されるので、フィルタ電界が変化
しても、電子ビームがｌ’Ｌとんどシフトしない。した
がって、このＳＥＭでは、上述したような問題はほとん
ど生じない。
これに対し、ＥＢテスタにおいては、試料１５へのダメ
ージを軽減するために、および試料の帯電を防ぐために
電子ビームは低電圧で加速される。したがって、電子ビ
ームのエネルギーが小さいことになり、フィルタ電界の
変化により、電子ビームが大きくシフトし、フィルタ１
１の軸中心が一義的に決まらなくなる。
ージを軽減するために、および試料の帯電を防ぐために
電子ビームは低電圧で加速される。したがって、電子ビ
ームのエネルギーが小さいことになり、フィルタ電界の
変化により、電子ビームが大きくシフトし、フィルタ１
１の軸中心が一義的に決まらなくなる。
このように、ＥＢテスタにおいては、エネルギーフィル
タ１１の機械的精度によシ、電子ビームのシフト量が変
化するため、機械的操作により、ビームの偏向中心とフ
ィルタ１ノの軸中心を一致させることは非常に難しい。
タ１１の機械的精度によシ、電子ビームのシフト量が変
化するため、機械的操作により、ビームの偏向中心とフ
ィルタ１ノの軸中心を一致させることは非常に難しい。
また、試料１５が超ＬＳＩである場合、電子ビームを照
射するパターンの幅が１μｍ以下となるので、上記２つ
の中心のずれをサブミクロン以下に抑える必要があるが
、これを機械的操作によって達成することは、非常に難
しくなる。
射するパターンの幅が１μｍ以下となるので、上記２つ
の中心のずれをサブミクロン以下に抑える必要があるが
、これを機械的操作によって達成することは、非常に難
しくなる。
この発明は上記の事情に対処すべくなされたもので、電
子ビームのエネルギーが弱く、エネルギーフィルタの加
工精度に応じて電子ビームがシフトする場合であっても
、電子ビームの偏向位置をフィルタ電圧を変えても容易
に一致させることができる試料電圧測定装置を提供する
ことを目的とする。
子ビームのエネルギーが弱く、エネルギーフィルタの加
工精度に応じて電子ビームがシフトする場合であっても
、電子ビームの偏向位置をフィルタ電圧を変えても容易
に一致させることができる試料電圧測定装置を提供する
ことを目的とする。
この発明は、予め電子ビームのシフト量を測定しておき
、この測定結果に従って、試料電圧測定時、電子ビーム
の走査手段に負帰還をかげることによシ、電子ビームの
シフトを無くすように構成したものである。
、この測定結果に従って、試料電圧測定時、電子ビーム
の走査手段に負帰還をかげることによシ、電子ビームの
シフトを無くすように構成したものである。
以下、図面を参照してこの発明の実施例を詳細に説明す
る。
る。
第１図はこの発明の一実施例の構成を示す図である。な
お、以下の説明では、この発明をＥＢテスタに適用する
場合を代表として説明する。
お、以下の説明では、この発明をＥＢテスタに適用する
場合を代表として説明する。
第１図において、２１は電子ビームを出力する電子銃で
あシ、２２はこの電子ビームをダートすることにより、
パルス状にして出力するブランキングプレートである。
あシ、２２はこの電子ビームをダートすることにより、
パルス状にして出力するブランキングプレートである。
２３．２４はそれぞれ第１．第２のコンアンサレンズで
あシ、２５．２６はそれぞれＸ方向、Ｙ方向の走査コイ
ルである。２７は対物レンズであシ、２８はエネルギー
フィルタであり、引き出し電極２９、引き出しグリッド
３０、フィルタグリッド３１を有する。３２は走査信号
発生装置であシ、３３はこの発明の特徴とするビームシ
フト補正装置であり、３４．３５は加算アンプである。
あシ、２５．２６はそれぞれＸ方向、Ｙ方向の走査コイ
ルである。２７は対物レンズであシ、２８はエネルギー
フィルタであり、引き出し電極２９、引き出しグリッド
３０、フィルタグリッド３１を有する。３２は走査信号
発生装置であシ、３３はこの発明の特徴とするビームシ
フト補正装置であり、３４．３５は加算アンプである。
３６はＬＳＩのような試料である。
上記構成において動作を説明する。試料駆動信号に従っ
て、ブランキングプレート２２によってパルス状にされ
た電子ビームは試料３６に照射される。これにより、試
料３６から２次電子が発生し、この２次電子のエネルギ
ーが所定のしきい値を越えると、２次電子はエネルギー
フィルタ２８を通過する。このエネルギーフィルタ２８
を通過した２次電子は、図示しない検出器により検出さ
れ、試料電圧の測定がなされる。
て、ブランキングプレート２２によってパルス状にされ
た電子ビームは試料３６に照射される。これにより、試
料３６から２次電子が発生し、この２次電子のエネルギ
ーが所定のしきい値を越えると、２次電子はエネルギー
フィルタ２８を通過する。このエネルギーフィルタ２８
を通過した２次電子は、図示しない検出器により検出さ
れ、試料電圧の測定がなされる。
この試料電圧の測定では、フィルタグリッド３１に印加
されるフィルタ電圧ＣＶ、 ）を変えることにより、各
種フィルタ電圧（Ｖ、）に対する試料電圧の測定がなさ
れる。フィルタ電圧は第１図の場合、ビームシフト補正
装置３３から出力される。また、この試料電圧の測定に
当っては、引き出し電極２９や引き出しグリッド３０の
電位は、測定上の最適値（一定値）に保持される。
されるフィルタ電圧ＣＶ、 ）を変えることにより、各
種フィルタ電圧（Ｖ、）に対する試料電圧の測定がなさ
れる。フィルタ電圧は第１図の場合、ビームシフト補正
装置３３から出力される。また、この試料電圧の測定に
当っては、引き出し電極２９や引き出しグリッド３０の
電位は、測定上の最適値（一定値）に保持される。
さらに、電子ビームは、走査信号発生装置３２から出力
される走査信号（Ｓｘ） 、 （Ｓ、 ）に従って走査
コイル２５．２６によって振られることにより、例えば
Ｘ方向の走査を水平方向に繰り返すように試料３６を走
査する。
される走査信号（Ｓｘ） 、 （Ｓ、 ）に従って走査
コイル２５．２６によって振られることにより、例えば
Ｘ方向の走査を水平方向に繰り返すように試料３６を走
査する。
ここで、この発明の特徴とする構成を説明する。
第２図はビームシフト補正装置３３の具体的構成を示す
回路図である。図において、３７はフィルタ電圧発生回
路で、フィルタ電圧（Ｖｆ）をデジタルデータとして出
力する。このフィルタ電圧（Ｖｆ）はデジタル／アナロ
グ変換器（以下、Ｄ／Ａ変換器と称する）３８でアナロ
グ信号に変換され、出力アンプ３９で増幅された後、エ
ネルギーフィルタ２８のフィルタグリッド３１に与えら
れる。
回路図である。図において、３７はフィルタ電圧発生回
路で、フィルタ電圧（Ｖｆ）をデジタルデータとして出
力する。このフィルタ電圧（Ｖｆ）はデジタル／アナロ
グ変換器（以下、Ｄ／Ａ変換器と称する）３８でアナロ
グ信号に変換され、出力アンプ３９で増幅された後、エ
ネルギーフィルタ２８のフィルタグリッド３１に与えら
れる。
４０．４１はフィルタ電圧発生回路３７から出力される
各フィルタ電圧（Ｖｆ）に応じた電子ビームのシフト量
を示すデジタルデータを格納するＦＲＯＭである。この
うち、ＦＲＯＭ ４ ｏはＸ方向のシフト量を示すデジ
タルデータを格納し、ＦＲＯＭ ４１はＹ方向のシフト
量を示すデジタルデー夕を格納するものである。すなわ
ち、この発明では、予め、各種フィルタ電圧（Ｖｆ）に
対する電子ビームのシフト量を、例えば、第３図のフロ
ーチャートに従って測定し、この測定結果に応じたデー
タをＦＲＯＭ ４０ 、４１に格納しておくようになっ
ている。
各フィルタ電圧（Ｖｆ）に応じた電子ビームのシフト量
を示すデジタルデータを格納するＦＲＯＭである。この
うち、ＦＲＯＭ ４ ｏはＸ方向のシフト量を示すデジ
タルデータを格納し、ＦＲＯＭ ４１はＹ方向のシフト
量を示すデジタルデー夕を格納するものである。すなわ
ち、この発明では、予め、各種フィルタ電圧（Ｖｆ）に
対する電子ビームのシフト量を、例えば、第３図のフロ
ーチャートに従って測定し、この測定結果に応じたデー
タをＦＲＯＭ ４０ 、４１に格納しておくようになっ
ている。
ＦＲＯＭ ４０ 、４１に格納されているデータは、フ
ィルタ電圧発生回路３７から出力されるフィルタ電圧（
Ｖｆ）をアドレスデー夕として読み出され、Ｄ／Ａ変換
器４２．４３でアナログ信号に変換される。これらアナ
ログ信号はそれぞれ出力アンプ４４．４５を介して上記
加算アンプ３４．３５に与えられ、対応する走査信号（
ＳＸ）、（３丁）と加算される。これにより、走査コイ
ル２５．２６は電子ビームのシフトが無くなるように、
この電子ビームの走査を制御する。
ィルタ電圧発生回路３７から出力されるフィルタ電圧（
Ｖｆ）をアドレスデー夕として読み出され、Ｄ／Ａ変換
器４２．４３でアナログ信号に変換される。これらアナ
ログ信号はそれぞれ出力アンプ４４．４５を介して上記
加算アンプ３４．３５に与えられ、対応する走査信号（
ＳＸ）、（３丁）と加算される。これにより、走査コイ
ル２５．２６は電子ビームのシフトが無くなるように、
この電子ビームの走査を制御する。
ここで、電子ビームのシフト量の測定を第３図を用いて
説明する。フィルタ電圧（Ｖｆ）を変える方式としては
、フィードバック方式やオーや グループ方式があるが、いずれの方式も、フィルタ電圧
（Ｖｆ）をほぼ試料電圧分だけ変えられる。今、試料電
圧の変化範囲を±１５Ｖ−とじ、必要とされる電圧測定
精度、つまシ、フィルタ′亀圧（Ｖｆ）のステップ間隔
を２０ ｍＶとする。
説明する。フィルタ電圧（Ｖｆ）を変える方式としては
、フィードバック方式やオーや グループ方式があるが、いずれの方式も、フィルタ電圧
（Ｖｆ）をほぼ試料電圧分だけ変えられる。今、試料電
圧の変化範囲を±１５Ｖ−とじ、必要とされる電圧測定
精度、つまシ、フィルタ′亀圧（Ｖｆ）のステップ間隔
を２０ ｍＶとする。
この場合において、第３図では、フィルタ電圧（Ｖｆ）
を１ｖ間隔でステップさせて電子ビームのシフト量を測
定ｔ、、１ｖ間隔内の２０ｍＶステップについては、測
定結果に従って補間処理を行うようになっている。
を１ｖ間隔でステップさせて電子ビームのシフト量を測
定ｔ、、１ｖ間隔内の２０ｍＶステップについては、測
定結果に従って補間処理を行うようになっている。
ここで、第３図の処理を説明すると、ステップＳ□でフ
ィルタ電圧（Ｖｆ）を−２ｖに設定し−、ステップＳ８
でこのときのＳＥＭ像の位置を測定する。次に、ステッ
プＳ、でフィルタ電圧（Ｖｆ）を−１５Ｖに設定ｔ２、
ステップＳ４でこのときのＳＥＭ像の位置を測定すると
ともに、ステツｆｓ、の測定値を基準として、両側定値
の偏差を計算Ｉ２、これを電子ビームのシフ）Ｉｔとす
る。次に、ステップＳ、でフィルタ電圧（Ｖｆ）を０．
１Ｖ上昇させ、次のシフト量の測定の準備をする。以上
のようにして０．１ｖ間隔で電子ビームのシフト量の測
定を繰シ返しながら、ツブＳ４に移って測定を続行ｔ７
、大きければ測定を終了させる。
ィルタ電圧（Ｖｆ）を−２ｖに設定し−、ステップＳ８
でこのときのＳＥＭ像の位置を測定する。次に、ステッ
プＳ、でフィルタ電圧（Ｖｆ）を−１５Ｖに設定ｔ２、
ステップＳ４でこのときのＳＥＭ像の位置を測定すると
ともに、ステツｆｓ、の測定値を基準として、両側定値
の偏差を計算Ｉ２、これを電子ビームのシフ）Ｉｔとす
る。次に、ステップＳ、でフィルタ電圧（Ｖｆ）を０．
１Ｖ上昇させ、次のシフト量の測定の準備をする。以上
のようにして０．１ｖ間隔で電子ビームのシフト量の測
定を繰シ返しながら、ツブＳ４に移って測定を続行ｔ７
、大きければ測定を終了させる。
なお、試料電圧の測定範囲±１５Ｖやフィルタ電圧（Ｖ
ｆ）のステップ間隔２０ ｍＶは一例であシ、これらは
試料３６の特性（試料電圧の変化範囲やパターン幅等）
に応じて適宜設定されることは勿論である。
ｆ）のステップ間隔２０ ｍＶは一例であシ、これらは
試料３６の特性（試料電圧の変化範囲やパターン幅等）
に応じて適宜設定されることは勿論である。
以上詳述したように、この実施例は、予め電子ビームの
シフト量を測定しておき、試料電圧の測定時、上記シフ
ト量の測定結果に従って走査コイル２５．２６に負帰還
なかげることによシ、電子ビームのソフトを相殺する構
成であるから、簡単、かつ確実に、電子ビームの偏向中
心とエネルギーフィルタ２８の軸中心を一致させること
ができる。
シフト量を測定しておき、試料電圧の測定時、上記シフ
ト量の測定結果に従って走査コイル２５．２６に負帰還
なかげることによシ、電子ビームのソフトを相殺する構
成であるから、簡単、かつ確実に、電子ビームの偏向中
心とエネルギーフィルタ２８の軸中心を一致させること
ができる。
なお、この発明は、半球状のエネルギーフィルタを備え
たＥＢテスタに限らず、例えば平行平板型といった各種
形状のエネルギーフィルタを備えたＥＢテスタにも適用
可能である−０また、この発明は、ＥＢテスタのように
、電子ビームをパルス状にして試料に照射する装置以外
の試料電圧測定装置にも適用でき、この場合においても
、電子ビームのエネルギーが弱く、そのシフトが問題に
なる場合には、充分、この発明の効果が期待できるもの
である。
たＥＢテスタに限らず、例えば平行平板型といった各種
形状のエネルギーフィルタを備えたＥＢテスタにも適用
可能である−０また、この発明は、ＥＢテスタのように
、電子ビームをパルス状にして試料に照射する装置以外
の試料電圧測定装置にも適用でき、この場合においても
、電子ビームのエネルギーが弱く、そのシフトが問題に
なる場合には、充分、この発明の効果が期待できるもの
である。
このようにこの発明によれば、電子ビームがシフトし易
い場合であっても、電子ビームの偏向位置をフィルタ電
圧を変えても容易に一致させることができる試料電圧測
定装置を提供することができる。
い場合であっても、電子ビームの偏向位置をフィルタ電
圧を変えても容易に一致させることができる試料電圧測
定装置を提供することができる。
第１図はこの発明の一実施例の構成を示す図、第２図は
第１図の要部の構成を示す回路図、第３図は電子ビーム
のシフト量の測定例を示すフローチャート、第４図はエ
ネルギーフィルタの構成を示す図である。 ２５．２６・・・走査コイル、２８・・・エネルギーフ
ィルタ、３２・・・走査信号発生装置、３３・・・ビー
ム７フト補正装置、３４．３５・・・加算アンプ、３７
・・・フィルタ電圧発生回路、３Ｂ 、 ４２ 、４３
・・・Ｄ／Ａ変換器、４０．４１・・・ＰＲＯＭ、 ３
９ 。 ４４．４５・・・出力アンプ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦Ｌ２Ｖ（」〜
２１ 第 ２ 図 お く 第４図 第３０
第１図の要部の構成を示す回路図、第３図は電子ビーム
のシフト量の測定例を示すフローチャート、第４図はエ
ネルギーフィルタの構成を示す図である。 ２５．２６・・・走査コイル、２８・・・エネルギーフ
ィルタ、３２・・・走査信号発生装置、３３・・・ビー
ム７フト補正装置、３４．３５・・・加算アンプ、３７
・・・フィルタ電圧発生回路、３Ｂ 、 ４２ 、４３
・・・Ｄ／Ａ変換器、４０．４１・・・ＰＲＯＭ、 ３
９ 。 ４４．４５・・・出力アンプ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦Ｌ２Ｖ（」〜
２１ 第 ２ 図 お く 第４図 第３０
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 電子ビームを試料に照射し、そこで発生する二次電子
をエネルギーフィルタを通して検知することにより、試
料電圧を測定する試料電圧測定装置において、 上記エネルギーフィルタに印加するフィルタ電圧に応じ
た上記電子ビームのシフト量情報を保持する保持手段と
、 上記フィルタ電圧に従って上記保持手段に保持されてい
るシフト量情報を読み出し、これを上記電子ビームの走
査手段に、該電子ビームのシフトが無くなるように負帰
還する帰還手段とを具備した試料電圧測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59278266A JPS61156627A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 試料電圧測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59278266A JPS61156627A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 試料電圧測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61156627A true JPS61156627A (ja) | 1986-07-16 |
Family
ID=17594941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59278266A Pending JPS61156627A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 試料電圧測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61156627A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01239949A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Tokyo Electron Ltd | 電子ビームプローブ装置 |
| JPH03254053A (ja) * | 1990-03-01 | 1991-11-13 | Mitsubishi Electric Corp | 一次電子着地誤差の補正方法 |
| WO2019021454A1 (ja) * | 2017-07-28 | 2019-01-31 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5940452A (ja) * | 1982-08-30 | 1984-03-06 | Fujitsu Ltd | 電子ビ−ム装置 |
-
1984
- 1984-12-27 JP JP59278266A patent/JPS61156627A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5940452A (ja) * | 1982-08-30 | 1984-03-06 | Fujitsu Ltd | 電子ビ−ム装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01239949A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Tokyo Electron Ltd | 電子ビームプローブ装置 |
| JPH03254053A (ja) * | 1990-03-01 | 1991-11-13 | Mitsubishi Electric Corp | 一次電子着地誤差の補正方法 |
| WO2019021454A1 (ja) * | 2017-07-28 | 2019-01-31 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| US10964508B2 (en) | 2017-07-28 | 2021-03-30 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged-particle beam device |
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