JPS621895A - 電極の製造法 - Google Patents
電極の製造法Info
- Publication number
- JPS621895A JPS621895A JP60137805A JP13780585A JPS621895A JP S621895 A JPS621895 A JP S621895A JP 60137805 A JP60137805 A JP 60137805A JP 13780585 A JP13780585 A JP 13780585A JP S621895 A JPS621895 A JP S621895A
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- Japan
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- selenium
- electrode
- nickel
- eutectoid
- plating
- Prior art date
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/36—Hydrogen production from non-carbon containing sources, e.g. by water electrolysis
Landscapes
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電極の製造法に関するものであり、特に、ニ
ッケル−セレン共析被覆を施した電極の製造法に関する
ものである。
ッケル−セレン共析被覆を施した電極の製造法に関する
ものである。
本発明よりなる電極は、種々の電気化学装置に於ける電
極として適用可能なものであるが、特に工業電解用電極
、例えば、水電解や食塩電解用の陰極としての用途に適
する。
極として適用可能なものであるが、特に工業電解用電極
、例えば、水電解や食塩電解用の陰極としての用途に適
する。
水電解や食塩電解等の工業電解の分野に於いては、電解
電圧の低減は重要な課題である。電解電圧の低減のため
に、低過電圧を示す電極を用いることは最も有効な方法
の一つであり、低水素過電圧を示す陰極が、種々検討さ
れている。
電圧の低減は重要な課題である。電解電圧の低減のため
に、低過電圧を示す電極を用いることは最も有効な方法
の一つであり、低水素過電圧を示す陰極が、種々検討さ
れている。
ニッケルとセレンの共析被膜が低水素過電圧を示すこと
は、例えば、特公昭25−2824より公知である。し
かしながら、この特公昭25−2824には、ニッケル
−セレンの共析被膜を得ろためのメッキ条件等の技術の
詳細は開示されておらず、又、本発明者等の検討によれ
ば、単に、ニッケルメッキ浴中にセレン化合物を添加し
ても、ニッケル−セレンの共析被膜を得ることは難かし
く、又、得られる場合でも通常は、もろく、デンドライ
ト状の析出物となった。
は、例えば、特公昭25−2824より公知である。し
かしながら、この特公昭25−2824には、ニッケル
−セレンの共析被膜を得ろためのメッキ条件等の技術の
詳細は開示されておらず、又、本発明者等の検討によれ
ば、単に、ニッケルメッキ浴中にセレン化合物を添加し
ても、ニッケル−セレンの共析被膜を得ることは難かし
く、又、得られる場合でも通常は、もろく、デンドライ
ト状の析出物となった。
従って、これまで、平滑かつ密着性のよい、ニッケル−
セレン共析被覆を有jiI!極の製造法に関して有効な
提案が成されていない。
セレン共析被覆を有jiI!極の製造法に関して有効な
提案が成されていない。
本発明は、この様に従来困難であった平滑かつ、密着性
のよいニッケル−セレン共析被覆を施した電極の製造法
を提供するものである。
のよいニッケル−セレン共析被覆を施した電極の製造法
を提供するものである。
本発明の要旨は、隔膜を有すセル構造内で、セレンの酸
化数が5以下の可溶性セレン化合物を含むニッケルメッ
キ浴を用い、電気メッキ法により、導電性基体表面に、
ニッケル−セレン共析被覆を施すことを特徴とする電極
の製造法にある。
化数が5以下の可溶性セレン化合物を含むニッケルメッ
キ浴を用い、電気メッキ法により、導電性基体表面に、
ニッケル−セレン共析被覆を施すことを特徴とする電極
の製造法にある。
本発明に於いて、最も重要な点は次の2点である。
第1に、ニッケル−セレン共析被膜を得るために、ニッ
ケルメッキ浴中に加えられる可溶性セレン化合物は、セ
レンの酸化数が5以下の化合物であることが必要である
。セレンの酸化数が、6以上、例えば、セレン酸又はセ
レン酸塩の様な化合物をメッキ浴中に添加しても本発明
で開示される二、ツケルーセレン共析被膜を得ることは
できない。セレンの酸化数が5以下の可溶性セレン化合
物とは例えば、亜セレン酸、又は亜セレン酸塩、亜セレ
ン酸水素塩等々である。
ケルメッキ浴中に加えられる可溶性セレン化合物は、セ
レンの酸化数が5以下の化合物であることが必要である
。セレンの酸化数が、6以上、例えば、セレン酸又はセ
レン酸塩の様な化合物をメッキ浴中に添加しても本発明
で開示される二、ツケルーセレン共析被膜を得ることは
できない。セレンの酸化数が5以下の可溶性セレン化合
物とは例えば、亜セレン酸、又は亜セレン酸塩、亜セレ
ン酸水素塩等々である。
第2に、密着性の良い平滑なニッケル−セレン共析被膜
は、たんに、可溶性セレン化合物を含むニッケルメッキ
浴を用い、電気メッキを行っても得ることは出来ない。
は、たんに、可溶性セレン化合物を含むニッケルメッキ
浴を用い、電気メッキを行っても得ることは出来ない。
通常の条件では、ニッケル−セレン共析被膜を得ること
は難しく、又得られる場合もプント“ライト状のもろい
析出物となる。
は難しく、又得られる場合もプント“ライト状のもろい
析出物となる。
本発明者らは、この問題に関し詳細な検討を重ねた結果
、メッキ反応中にメッキ浴のpHが著しく低下し、又、
メッキ浴中のセレンが陽極反応により酸化され、そのた
めに良好なニッケル−セレン共析反応が妨害されている
事がわかった。
、メッキ反応中にメッキ浴のpHが著しく低下し、又、
メッキ浴中のセレンが陽極反応により酸化され、そのた
めに良好なニッケル−セレン共析反応が妨害されている
事がわかった。
この問題の解決のために1本発明者等+まメッキを行5
セルを隔膜を有すセル構造として、陰極室と陽極室を区
分けし、かつ、電極基材となる導電性基体表面を陰極室
に配置することにより、緻密。
セルを隔膜を有すセル構造として、陰極室と陽極室を区
分けし、かつ、電極基材となる導電性基体表面を陰極室
に配置することにより、緻密。
平滑かつ密着性の良い、ニッケル−セレン共析被膜が得
られることを見いだし、本発明を完成するに到ったもの
である。
られることを見いだし、本発明を完成するに到ったもの
である。
本発明で用いられる導電性基材としては、金属基材や導
電性を有す、樹脂、又はセラミックス等、任意の導電性
基材が用いられる。更に、電極基体形状については、平
板、メッシェ状、多孔状等、いかなる形状のものでも良
い。本発明に用いるニッケルメッキ浴は、硫酸ニッケル
、塩化ニッケル。
電性を有す、樹脂、又はセラミックス等、任意の導電性
基材が用いられる。更に、電極基体形状については、平
板、メッシェ状、多孔状等、いかなる形状のものでも良
い。本発明に用いるニッケルメッキ浴は、硫酸ニッケル
、塩化ニッケル。
スルファミン酸ニッケル等、可溶性のニッケル塩も溶解
した公知のニッケルメッキ浴が用いられる。
した公知のニッケルメッキ浴が用いられる。
ニッケルメッキ浴中に、セレンの酸化数が5以下の可溶
性セレン化合物を加えろ事と、電気メッキ法により得ら
れる被膜は、ニッケル−セレン共析被膜となり、低過電
圧を示す電極特性を有す様になる。ニッケルメッキ浴中
に加えられるセレンの濃度は、11M濃度以下で充分で
あり、比較的微量のセレン濃度でも、数チのセレンを含
ムニッケル−セレン共析被膜を得ることができる。本発
明の電極の製造法〈於いては、メッキに用いるセルは陰
極室と陽極室を区分ゆする隔膜が必要である。
性セレン化合物を加えろ事と、電気メッキ法により得ら
れる被膜は、ニッケル−セレン共析被膜となり、低過電
圧を示す電極特性を有す様になる。ニッケルメッキ浴中
に加えられるセレンの濃度は、11M濃度以下で充分で
あり、比較的微量のセレン濃度でも、数チのセレンを含
ムニッケル−セレン共析被膜を得ることができる。本発
明の電極の製造法〈於いては、メッキに用いるセルは陰
極室と陽極室を区分ゆする隔膜が必要である。
隔膜材料としては公知のイオン交換膜や、セラミックス
等を用いることが可能である。
等を用いることが可能である。
又、本発明に用いるメッキの操作条件は、特に厳密な制
限を受けないが、通常、室温より70”C程度の温度範
囲、α01〜10A/−程度の電流密度範囲で行なわれ
る。
限を受けないが、通常、室温より70”C程度の温度範
囲、α01〜10A/−程度の電流密度範囲で行なわれ
る。
本発明は、従来、困難とされてきた密着性の良い平滑な
ニッケル−セレン共析被覆を有す電極の製造法を提供す
るものである。本発明よりなる電極は、種々の電気化学
装置に於ける電極として適用可能なものであるが、特に
工業電解用電極、例えば、水電解や食塩電解用の低水素
過電圧陰極として、電解電圧を数100mv低下するこ
とが可能となり、その工業的価値は極めて大きなもので
ある。
ニッケル−セレン共析被覆を有す電極の製造法を提供す
るものである。本発明よりなる電極は、種々の電気化学
装置に於ける電極として適用可能なものであるが、特に
工業電解用電極、例えば、水電解や食塩電解用の低水素
過電圧陰極として、電解電圧を数100mv低下するこ
とが可能となり、その工業的価値は極めて大きなもので
ある。
以下、実施例を述べるが、本発明はこれに限定されるも
のではない。
のではない。
実施例1
フッ素系カチオン交換膜(Dupont社製、Nafi
on膜)により、陰極室、陽極室を区分けしたメッキセ
ル中に、メッキ液を導入した。メッキ液としては、硫酸
ニッケル(NiSO4,6H,O)132 %、 ホウ
酸(H,BO,) 15 N、亜セレ/酸力IJ (K
、5e03 ) 2%を溶解した水溶液を用いた。
on膜)により、陰極室、陽極室を区分けしたメッキセ
ル中に、メッキ液を導入した。メッキ液としては、硫酸
ニッケル(NiSO4,6H,O)132 %、 ホウ
酸(H,BO,) 15 N、亜セレ/酸力IJ (K
、5e03 ) 2%を溶解した水溶液を用いた。
電極基材として3a角の鉄板をパフ研磨、脱脂。
酸洗処理を行い、上記メッキセルの陰極室に配置した。
メッキ条件を温度50℃、α5 A / dyr/の条
件で1時間メッキした所、平滑で密着性の良いニッケル
−セレン共析被膜が得られた。得られた共析被膜は、セ
レンの含有量が、7.5 wt%で、非晶質構造を示し
た。得られた試料を陰極として、2、5 N NaOH
中で25 ”C、I A / dm’、参照電極Hg/
)(goの条件で水素ガス発生のカソード電解を行った
。
件で1時間メッキした所、平滑で密着性の良いニッケル
−セレン共析被膜が得られた。得られた共析被膜は、セ
レンの含有量が、7.5 wt%で、非晶質構造を示し
た。得られた試料を陰極として、2、5 N NaOH
中で25 ”C、I A / dm’、参照電極Hg/
)(goの条件で水素ガス発生のカソード電解を行った
。
試料の電極電位は、−1,OV 7B Hgz乍goで
、比較として、ニッケル−セレン共析被覆を施さない基
材の鉄板を測定した新約、−t 2 V vs Hg/
HgOを示した。従って、得られた試料は、鉄板に比べ
約200 mv低い水素過電圧特性を示すことがわかる
。さらに、この試料を同一の条件で一ケ月陰極としてテ
ストした所、陰極電位は一定であり陰極の劣化は、殆ど
見られなかった。
、比較として、ニッケル−セレン共析被覆を施さない基
材の鉄板を測定した新約、−t 2 V vs Hg/
HgOを示した。従って、得られた試料は、鉄板に比べ
約200 mv低い水素過電圧特性を示すことがわかる
。さらに、この試料を同一の条件で一ケ月陰極としてテ
ストした所、陰極電位は一定であり陰極の劣化は、殆ど
見られなかった。
Claims (1)
- 隔膜を有すセル構造内で、セレンの酸化数が5以下の可
溶性セレン化合物を含むニッケルメッキ浴を用い、電気
メッキ法により、導電性基体表面に、ニッケル−セレン
共析被覆を施すことを特徴とする電極の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60137805A JPS621895A (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | 電極の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60137805A JPS621895A (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | 電極の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS621895A true JPS621895A (ja) | 1987-01-07 |
Family
ID=15207261
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60137805A Pending JPS621895A (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | 電極の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS621895A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05503656A (ja) * | 1990-09-04 | 1993-06-17 | ジェームズ リバー コーポレイション オブ バージニア | プレス型トレーの改良成形 |
CN113373476A (zh) * | 2021-06-07 | 2021-09-10 | 山东大学深圳研究院 | 一种磷掺杂的单金属元素电子结构可调的双金属硒化物电催化剂材料及其制备方法与应用 |
FR3142469A1 (fr) * | 2022-11-30 | 2024-05-31 | C3 Chaix Et Associes, Consultants En Technologie | Procédé et installation de production de dihydrogène par activation catalytique |
-
1985
- 1985-06-26 JP JP60137805A patent/JPS621895A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05503656A (ja) * | 1990-09-04 | 1993-06-17 | ジェームズ リバー コーポレイション オブ バージニア | プレス型トレーの改良成形 |
CN113373476A (zh) * | 2021-06-07 | 2021-09-10 | 山东大学深圳研究院 | 一种磷掺杂的单金属元素电子结构可调的双金属硒化物电催化剂材料及其制备方法与应用 |
FR3142469A1 (fr) * | 2022-11-30 | 2024-05-31 | C3 Chaix Et Associes, Consultants En Technologie | Procédé et installation de production de dihydrogène par activation catalytique |
WO2024115615A1 (fr) * | 2022-11-30 | 2024-06-06 | Elhytec | Procédé et installation de production de dihydrogène par activation catalytique |
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