JPS589988A - 電解槽 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、隔膜を用ｉた塩化アルカリ水溶液の電解にお
いて、鉄の溶出が全くなく、長期間安定して、かつ少な
い消費電力にて苛性アルカリを製造するに適した新規な
′電解槽に関するものである。

例えｉ１□陽イオン交換膜を隔膜として食塩水溶液の電
解を行な込、塩素および苛性ソーダを製造する方法は公
知である゛。この陽イオン交換膜を用いる電解方法は、
電極で生成する苛性ソーダ中に混入する食塩の量か極め
て少なく、又、水銀法やアスベスト法などに比較上て公
害問題龜なく、辺部になりて特に注目されてきた。

陰極室で得られ・為榊性ソーダの濃度及び電流効率を高
め為ぺに陽イオン交換膜の開発、改良がなされ、最近で
は２”’Ｏｖｔ％以上の苛性ソーダが９０−以上の為い
□電流効□率で得ることができる。パーフルオロカーポ
ジ重合体ｔｍ材とじ次階イオン交換膜が開発され、一部
では商業化なされようとしている。一方、近年□エネル
ギー節約の重畳性が世界的Ｋｆ！識され’ｐ−ｐ□あり
、ζめ見地からこめ分野においては電解電力ｔｉｔカー
委なくすること、即ち電槽電圧を極力低下さ讐ることか
強く望まれてい石。これまで電槽電圧を低下させる目的
で、発生するガスを電極の背後に抜は易くするためＫ、
エキスバンドメタル、パンチメタル、金網状などの多孔
性電極の使用、これらの電極自体の組成や極間距離をコ
ントロールしたり、あるｉは陽イオン交換膜の組成、交
換基の種類を特定化する等の種々の手段が提案されてｉ
る。

この内、特に隔膜を用いた水素発生反応を陽極主反応と
する塩化アルカリ水溶液の電解においては、主に前述の
形状の鉄陰極がコスト的に安価であり、かつ、かたり低
い水素過電圧を示すという理由で使用されて−る。しか
し、前述したように特に陽イオン交換膜性食塩電解技術
の発展と共に省エネルギーの面から電力消費の一層の低
下が望まれ、特開昭５５−９２２９５号、特開昭５６−
６２１４８号等に見られるように鉄よりも低い水素過電
圧を有する陰極の開発が種々なされてｉる。

これらの低水素過電圧！有する金属被覆を施してなる陰
極自体それなりに当初の目的は達成しうるものの新たに
下記の重大な問題点を含んでいることが明らかＫなった
。

即ち、これまでの鉄陰極に代えて、鉄または鉄系金属か
らなる基材表面に低水素過電圧を看する金属被後を施し
てなる陰極を、内面が鉄または鉄系金属からなる陰極室
に取付けて用いた場合は、鉄の溶出量が短期間に極端に
増加する現象が認められるのである。この現象は更に高
温、高アルカリ＃Ｉｔ指向というきびしｉ電解条件下に
おいては一層顕著に現われると埴う傾向を示す。

この鉄の溶出は、取得苛性アルカリの品質悪化、陽イオ
ン交換膜等の隔膜の性能劣化を来たすばかりでなく、鉄
または鉄系金属で構成された電極室内面の腐食が進行し
て電解槽自体の寿命の短縮という深刻な問題に発展する
。この鉄の溶出を防止する手段として、対アルカリ耐食
性を有するニッケル等の金属にて陰極室を構成すること
が考えられる。しかしながら、陰極室の構成金属のすべ
てに、対アルカリ土類金属を用いることは高価となり、
実用的ではない。更に、この場合は陰極基材も対アルカ
リ耐食性の金属を用ｉなければならないのである。なぜ
ならば、鉄１＋は鉄系金属の基体にニッケル等の低い水
素過電圧を有する被覆をメッキ法等によシ施した陰極を
用いた場合は、該陰極を陰極室に＠接等の方法により取
付ける際、いかに注意深く行なっても被膜に損傷を来た
して鉄の素、地が露出し、この露出部からの鉄の溶出が
進行するからである。従って、鉄または鉄系金輌からな
る陰極室内面および＃に極にそれぞれ対アルカリ耐食性
を有する被覆をメッキ法等によシ施し、しかる後に溶接
等の方法によって両者を一体化する方法も同様の理由に
よ）問題がある。

他の手段として、プラスチック製の電解槽を採用するこ
とが考えられる。しかしこれは加工および強度の点で問
題があると共に、仮に採用できたとしても、鉄の溶出防
止の抜本的な手段とはなり得ないのである。

本発明者らは、これらの問題点を一挙に解決すべく徨々
検討の結果、低水、素通電圧を有する金属被覆を施して
なる陰極を使用してち、これまで使用していた鉄または
鉄系金属で構成された鉄陰極、陰極室枠がそのまま使用
可能で、ｉかなる複雑な電解槽構造であっても、鉄の溶
出を防ぎ、しか４長期間安定して、かつ少ない消費電力
にて苛性アルカリを製造しうる電解槽を完成したのであ
る。

即ち、本発明は隔膜を用い陽極室と陰極室とを区割し、
陽極室に塩化アルカリ水溶液を供給して陽極室よシ塩素
、陰極室よシ水素並びに苛性アルカリを製造するに用い
る電解槽におｉて鉄もしくは鉄系金属から成る陰極室内
面、陰極およびその他の陰極室内部材表面の全てにニッ
ケル塩を含むニッケｋ）ツキ浴からニッケルメッキを施
した後、ニッケル塩と含硫黄化合物を含む活性ニッケル
メッキ浴を用ｉて、活性ニッケルメッキを施して成る電
解槽にある。ζζでｉうその他の電極室内部材とは、導
電棒、集電体、溶接部など陰極室内に　゛存在する部材
を意味する。

これまで鉄または鉄系金属から成る陰極基材に含硫黄化
合物、例えば、ロダンニッケルを溶解したニッケルメッ
キ浴を用いてニッケルメッキを行なうと、得られた被膜
は低水素過電圧を示すことは古くから知られてｉる。し
かしながら、このようにして得られた被膜社、顕微鏡等
で表面を注意深く観察すると、多数の亀裂が入っている
ことが認められ、かつまた被膜自体、鉄素地との密着性
に欠ける。したがって、鉄素地上に直接このような活性
被覆を施し九場合、被覆の剥離、脱落等の現象が起こり
やすく、ｔ７を仮に素地に密着していたとしても、クラ
ックから鉄の溶出が進行して素地と被膜の間に空隙を生
じ、被膜の脱落を来たす。

その結果、素地の鉄が露出し、この部分から鉄の溶出が
進むため、活性被膜の剥離、脱落は促進されることにな
る。

鉄または鉄系金属からなる基体と、例えばロダンニッケ
ル等を含む活性ニッケルメッキ浴から施した活性ニッケ
ルメッキとＯ密着性を改良する目的で、鉄または鉄系素
地上に銅の被覆を施し、しかる後に活性ニッケルメッキ
を行なう方法が提案されている。しかしながら、本発明
者らのこれまでの経験では、調合体アルカリに対する耐
食性が優れて−るとはいい難く、シたがって活性ニッケ
ルメッキを施して密着性そのものは改善され良に活性被
膜の脱落を来たすことは、鉄素地に直接活性ニッケルを
施した場合と同様であることが確認された。

本発明者らは、これらの問題点を改善すべく探求の結果
、ニッケル塩を含むニッケルメッキ浴から施したニッケ
ルメッキとニッケル塩及び含硫黄化合物を含む活性ニッ
ケルメッキ浴から施した活性ニッケルメッキとが優れた
密着性を有するものであることの知見を得た。本発明は
この知見に基づいて完成したものである。

即ち、鉄また社鉄系金属素地上に１含硫黄化合物を含ま
ずニッケル塩を含むニッケルメッキ浴を用いてニッケル
メッキを行なった後、ニッケル塩および含硫黄化合物を
含む活性ニッケルメッキ浴を用−て更に活性ニッケルメ
ッキを行なうことＫよシ、全体として陰極室、陰極郷の
鉄素地との密着性の極めて優れ良活性被榎を得る仁とが
できるのである。

ニッケルメッキ浴の組成は以下のような本のである。

ニッケル塩は可溶性の塩であればよく、通常、硫酸ニッ
ケル、塩化ニッケル、硫酸ニッケルアンモニウム、スル
ファきン酸ニッケル勢任意ｏ水溶性ニッケル塩の一種以
上が用いられる。ニッケル塩の濃度は特に制限を受けな
いが、通常、（１１モル濃度から２．０モル濃ｔｏ範囲
で用いられる。

この場合、ニッケルメッキ浴に用いられたニッケル塩と
同種の塩を活性ニッケルメッキ浴にも用−て活性ニッケ
ルメッキを施せば、ニッケルメッキと活性ニッケルメッ
キとの密着性は更に優れた４０になる。そして、ニッケ
ルメッキに用いられたニッケル塩のみならず、その他の
成分及びそれらの濃ｔまで同一にした活性ニッケルメッ
キ浴を用いた場合が最もその密着性Ｋをいて有効である
。

本発明において、陰極室、陰極等の鉄素地にニッケル塩
を含むニッケルメッキ浴を用−てニッケルメッキを施す
方法としては、電気メツキ法、無電解メッキ法ｉずれも
行なう仁とができるが、このうち無電解メッキ法が好ま
しい。そして特に９着性の極めて優れ、強固で、かつ長
期間にわたりて安定して低め水素過電圧を示す被覆を有
する陽極および電極室を得る最良の方法としては１、論
極室内面、隘極およびその他の陰極室内部材表面すべて
に無電解ニッケルメッキを施し、更に電気ニッケルメッ
キを行ない、最後に活性ニッケルメッキを行なう方法で
ある。従って、鉄または鉄系金属製の陰極室、陰極およ
びその他Ｏ隆極室内部材表面をあらかじめ無電解ニッケ
ルメッキして組立てられた電解槽に本発明の手段を適用
することも有効な方法である。

本発明の優れた特徴の一つは、陰極を陰極室に取付妙た
後に、隘極室内面、隘極およびその他の陰極室内部材表
面すべてにわ几って被覆を施すことができるので、鉄素
地の露出は皆無であるということである。仮シに陰極室
および陰極それぞれに被覆を施し、これを溶接等の方法
によって一体化せしめようとすると、被覆の損傷を来た
し、活性の劣化および鉄素地の露出を免れることができ
なめことは前述の通りである。　　　。

本発明の更に優れ良特徴の一つは、陰極のみならず、陰
極室内面まで活性ニッケルメッキが施されるので、電槽
電圧はｊ！に低下するということである。即ち、陰極の
みに活性被覆を施した場合に比べ、活性被覆を施した面
積が大きくなるので、実質的に電流密度が低下したと同
じ効果をもたらし、電槽電圧が低下するのである。この
ことは特に複極式電解槽を用いる場合に顕著である。

勿論、複雑な形状をした陰極室、陰極およびその他の陰
極室内部材に均一に活性被覆を施すことは一般的には困
難であるが、本発明においては、このことはいささかも
障害となるものではない。

なぜなら最も電流が流れやすいところは、陰極の対陽極
面であるから、この部分に最も厚く活性被膜が施される
。そして食塩水の電解を行なう場合も最も多く電流が流
れるところは陰極の対陽極面であるから、この部９Ｋ１
４厚く活性被覆が施されているということは、むしろ効
率的であるとめえる。

鉄素地にニッケルメッキを施す場合、その厚さは４〜１
００声が適当である。陰極、陰極−室およびその他の陰
極室内部材表面全面が均一な厚さにメッキされる必！！
はなく、この範囲の中に入っていればよい。

鉄素地に無電解ニッケルメッキを施してからニッケルメ
ッキを行なう場合、無電解ニッケルメッキの厚さは２〜
５０μが適当である。これよシ薄いと鉄の溶出を防止す
る効果が小さく、またこれより厚いと不経済である。無
電解ニッケルメッキの上に施すニッケルメッキの厚さは
２啼５０μが適当である。２声以下では活性ニッケルメ
ッキとの密着力が弱く、また５０声以上の厚さにメッキ
することは不経済である。

ニッケルメッキの上になされる活性ニッケルメッキの厚
さは、５声以上１００声以下が好ましい。

５声以下の厚さでは水素過電圧低下の効果が小さく、ま
た１００声以上の厚さにメッキすることはコスト高にな
る。

活性ニッケルメッキに用φられる含硫黄化合物は、チオ
シアン酸塩、チオ尿素、備化アンモニウム吟の硫化物、
更には亜硫酸塩９、重亜硫酸塩、亜ニチオン酸塩等の化
合物であシ、チオシアン酸塩および／もしくはチオ尿素
が殊に効果的である□。

そしてメッキ浴中に加えられるこれらの含硫黄化合物の
濃度は、α０１モル濃度以上、ｔ５モル濃度以下、好ま
しくＦｉ１０５モル−１以上、α５モル濃度以下に制限
される。その理由はｌ１０１モル以下の濃度では水素過
電圧低下の効果が不充分で’）り７％　　ｔ５モル以上
の濃度になると、活性ニッケルメッキのニッケルメッキ
に対す６１着性が低下するためである。

なお、ニッケル塩を含むとツケルメツキ浴ならびにニッ
ケル塩および含硫黄化合物を含む活性ニッケルメッキ浴
は、あらかじめ別途に調整したものを採用することも可
能であるが、−極室、隘極等Ｏ鉄素材に始めにニッケル
塩を含む三ツケルメッキ浴にてニッケルメッキを施した
後、使用済みの該ニッケルメッキ浴に含硫黄化合物を溶
解調整した活性ニッケルメッキ浴を用いる仁とができる
。

本発明においては、ｌ！はニッケルメッキし良畿に、含
硫黄化合物を含む活性ニッケルメッキ浴にて活性ニッケ
ルメッキをすれば、いかなる態様も採用しうろことは勿
論である。

また、電気メツキ法によりニッケルメッキおよび活性ニ
ッケルメッキを行なうときの電流密度は必ずしも同一で
ある必要はなく、適宜選択し得るが、通常［ＬＩＡ／＾
２以上１０Ａ／血２以下の範囲で行なわれる。これまで
イオン交換膜法について主として言及してきたが、本発
明の電解槽はアスベスト等の隔模法゛にも適用しうろこ
とは言うまでもない。

以上のように、陰極室内面、＠極およびその他の電極室
内部材表面ナベてにニッケル塩を含むニッケルメッキ浴
からニッケルメッキを施した後、ニラ夢ル塩と含硫黄化
合物を含む活性ニッケルメッキ浴を用ｖｒｍ桂ニッケル
メッキを施すことにより、鉄の一出一分が無く、従って
鉄の溶出が防止され、かつ活性被膜を有する陰極室と極
めて低い水素過電圧を長期−にわたって安定して保つ附
極を有する電解槽を製造することができる。

即ち、本発明は極めて簡便な方法によシ採用している鉄
系金属製陰極室を有する電解槽をなんら変更なくして、
高温、高アルカリ濃度という厳しい条件下においても、
水素過電圧の上昇なく、シかも苛性アルカリ中への鉄の
爵出を来たすことなくして、長期間安定して極めて少な
い消費電力で苛性アルカリを製造するに有効な電解槽で
ある。

以下、本発明を実施例によって詳細に説明する。

実施例１ 内面が鉄からなる隘極室、鉄製エキスバンドメタルから
なる陽極およびその他の陰極室内部材表面すべてをアル
カリ脱脂、酸洗後、表１に示し次ニッケルメッキ浴を用
いて表２に示した条件でニッケルメッキを行なりた。

表１＝ツケルメッキ浴組成 硫ｅｌｌ二ｙケｈ　　　ｌ　９１　ｍｏ’１７’１塩化
ニッケル　　α１９　ｌ ホウ酸　　　　　　α４９　　ｚ 表２　ニッケルメッキ条件 浴温　　　６０℃ 電流密ｌｆ　６ム／陰極投影面積ｔｈ２メッキ時間　ｓ
Ｏ分 しかる後、表３に示した活性ニラオルメッキ浴を用いて
表４に示した条件で活性ニッケルメッキを行なった。

表五 塩化二りケル　　　α５　ｍｏ１７’１塩化アンモニウ
ム　１．Ｏｌ チオ原木　　　　　（Ｌ２　　ｚ 表４ 浴温　　　５０℃ 電流密１．　１．５Ａ／陰極投影面積がメッキ時間　３
時間 かくして得られ九隘極室および陰極をパー７０ロスルホ
ン酸イオン交換膜を介して、チタンラス上に酸化ルテニ
ウムをコーティングした陽極を有する陽極室と組合せて
電解槽を構成し、表５に示す電解条件にて食塩水の電解
を行なった。その結果表６に示す。

表五 陰極室ＮａＯＨ＠ｆｉｌ　　３２　％ 温［８０℃ 電流密［５０Ａ　／＊２ 比較例１ 内面が鉄からなる陰極室および陰極を、パー７０ロスル
ホン酸イオン交換膜を介して、チタンラス上に酸化ルテ
ニウムをコーディングし九陽極を有する陽極室と組合せ
て電解槽を構成し、表５に示した電解条件で食塩水の電
解を村なった。

比較例２ 内面が鉄からなる陰極室、陰極およりその他の陰極室内
部材表面すべてを実施例１０表３に示した活性ニッケル
メッキ浴を用いて、表４に示した条件で活性ニッケルメ
ッキを施した。かくして得られた陰極室及び陰極を、バ
ーフロ四スルホン酸イオン交換膜を介してチタンラス上
に酸化ルテニウムをコーチイブした陽極を有する陽極室
と組合せて電解槽を構成し、表５に示した電解条件で電
解を行なった。その結果を表６に示す。

比較例３ 鉄製エキスバンドメタルからなる陰極のみを実施１Ｐ１
１１の表１に示したニッケルメッキ浴を用いて、表２に
示し次メッキ条件でニッケルメッキを行なった。次ｉで
表３に示した活性ニッケルメッキ浴を用いて表４に示し
たメッキ条件で活性ニッケルメッキを施した。かくして
得られた陰極を内面が鉄からなる陰極に溶接によって取
付けた。しかる後にパーフロルスルホン酸イオン交換膜
を介して、チタンラス上Ｋｒ１ｌ化ルテニウムをコーテ
ィングした陽極を有する陽極室と組合せて電解槽を構成
し表５に示しに電解条件で食塩水あ電解を行なりた。

その結果を表６に示す。

５．′ 実施例１ 電槽電圧（Ｖ）　　五３９　五４２　五４４　五４６　
五４７鉄濃度（Ｐ）　　α１　　α１５　　α１５　　
α１５　　（Ｌ１５比較例１ 電槽１１１８１）　　３７５　　五７１　　五７１　１
７２　　五７２鉄濃度（２）→　　５．１　　５．９　
　　＆９　　４０　　　瓜０比較例２ 電槽電圧（Ｖ）　　五３９　五４４　五４８　五５３　
五５Ｂ鉄濃度（ｐｐｍ）　　α１　　２．０　　２．５
　　五〇４．０比較例３ 電槽電圧（Ｖ）　五４５　　五５１　　五５６　　五６
１　　五６５鉄濃度（ＰＰ）　　＆１　　１５５　１９
．２　１９．５　１９．８実施例２ 内面が鉄からなる陰極室及び鉄製エキスＩくンドメタル
からなる陰極を、アルカリ脱Ｌ　Ｈ洗後、実施例１表１
に示したニッケルメッキ浴を用ｉ１実施例１表２に示し
た条件でニッケルメッキを行なりた６次ｉで表７に示し
比活性ニッケルメッキ浴を用い、表４に示した条件で活
性ニッケルメッキを施した。

表１ 硫酸ニッケル　　α４６ｍ０Ｖ！ 塩化ニッケル　　α１０　Ｉ ホウ酸　　　　　α４９　Ｉ チオ尿素　　　　α２０　ｌ かくして得られた陰極室および陰極を、パー７０ロスル
ホン酸イオン交換膜を介して、チタンラス上に酸化ルテ
ニ、ウムをコーティングした陽極を有する陽極室と組合
せて電解槽を構成し、実施例１表５に示した条件で食塩
水の電解を行なった。

摺電圧およびＮａＯＨ中の鉄濃度の経時変化を表８に示
す。

電槽電圧（力　五５９　３４１　　　五４１　　　五４
２　　工４２鉄１１ｆ（ｐｐ）　　ａｔｏ　　　ａｌｓ
　　　（Ｌ１５　　　ａｌｓ　　ａ１ｓ夾施ｙｒ４ｓ −内面が鉄からなる陰極室及び鉄製エキス／（ンドメタ
ルからなる陰極を、アルカリ脱脂、ｓＩ洗後、実施ｆ１
４１表１に示したニッケルメッキ浴を用い、実施例１表
２に示し九条件でニッケルメッキを行なった。次いで表
９に示し比活性ニッケルメッキ浴を用い、表４に示した
条件で活性ニッケルメッキを施した。

表２ 硫酸ニッケル　　１９１　ｍｏｌ／１ 塩化ニッケル　　（１１９＃ ホウａ！　　　　　　　α４９　　ｌ チオ尿素　　　　（Ｌ２０　　＃ かくして得られた陰極室及び陰極をパー７０ロスルホン
ーイオン交換膜を介して１．、チタンラス上にａ化＆テ
ニウムをコーティングした一極を有する陽極室と組合せ
て＠Ｓに示した条件で食塩水の電解を行なった。電槽電
圧およびＮａ０Ｂ中の鉄濃度の経時変化を表１０に示す
。

電槽−圧（Ｖ）　　　五５９　　　五５９　　　リ９　
　五４０　　　＆４０鉄濃度（ｐｐｍ）　　α１　　α
１５　　　α１５Ｉｉ１５　　　α１５実施例４ 内面が鉄からなる陰極室及び鉄製エキスノ（ンドメタル
からなる陰極を、アルカリ脱脂、酸洗後、カニゼンブル
ーシューマー無電解ニッケルメッキ液を用い９０℃で５
０分間無電解ニッケルメッキを施した。次いで実−例３
表９に示した活性ニッケルメッキ浴を用い、表４に示し
次条件で活性ニッケルメッキを行なりた。かくして得ら
れた陰極室及ヒ隘極を、パーフロロスルホン酸イオン交
換膜を介してチタンラス上に酸化ルテニウムをコーティ
ングした陽極を有する陽極室と組合せ九電解槽を構成し
、表５に示した条件で食塩水の電解を行なった。電槽電
圧及びＮａＯＨ中の鉄濃度の経時変化を表１１に示す。

電槽電圧（Ｖ）　　３３９　９＄４　１４７　１５０　
１５３鉄濃１１ｉ（Ｐ）　　（１１（Ｌｌ　　　ａｌ　
　　（Ｌｌ　　　１１１実施例５ 内面が鉄からなる陰極室及び鉄製エキスバンドメタルか
らなる陰極をアルカリ脱脂、酸洗後、カニゼンブルーシ
ェーマ−無電解ニッケルメッキ液を用い、９０℃で２０
分間無電解ニッケルメッキを行なり友。次いで実施ＩＰ
１１表１に示したニッケルメッキ浴を用い、表２に示し
た条件でニッケルメッキを行なった。しかる後、実施的
３表９に示した活性ニッケルメッキ浴を用い、表４に示
した条件で活性ニッケルメッキを施し友。かくして得ら
れた陰極室および陰極を、パーツ交りスルホン酸イオン
交換膜を介して、チタンラス上に酸化ルテニウムをコー
ティングした陽極を有する陽極室と組合せて電解槽を構
成し、実施１８１１表５に示した条件で食塩水の電解を
行なう友。

電槽電圧及びＮａＯＨ中の鉄濃度の経時変化を表１２に
示す。

１日　　　５０日　　１００日　　１５０日　　２００
日電摺電圧ν）　五３９　　　五３９　　五３９　　五
５９　　　Ａ！５９鉄濃ｆ　（ｐｐ）　　α１　　　α
１　　　α１　　　α１　　　α１参考例 ５０国Ｘ５０ｃＭ１の鉄製平板を用い、アルカリ脱脂、
酸洗を行なった後、カニゼンブルーシー−ｆｆ−無電解
ニッケルメッキ液を用い、９０℃で３０分間無電解ニッ
ケルメッキを施した。次ｉで実施例１表１に示した＝ｙ
ケルメッキ浴を用い、表１５に示した条件でニッケルメ
ッキを施した。

表１４ 浴温　　　　６０℃ 電流密度　　２Ａ／ｄ、” メッキ時間　　３０分 しかる後、実施例３表９に示した活性ニッケルメッキ浴
を用い表１４に示した条件で活性ニッケルメッキを行な
りた。

表１４ 浴温　　　　６０℃ 電流密度　　α５Ａ／＾２ メッキ時間　　３時間 ９０ｗＬ曲は試験による密着性の試験結果を表１５に示
す。

参考比較例 ３０ａ＊Ｘ５０ｃｌ１１の鉄製平板を用い、アルカリ脱
脂、酸洗の後、実施例３表９に示した活性ニッケルメッ
キ浴を用い、表１４に示した条件で活性ニッケルメッキ
を施した。９０度−は試験による密着性の試験結果を表
１５に示す。

表１！Ｌ 参　考　例　　１０回の曲は試験でも飼離せず。

参考比較例　　２回の曲げ試験で剥離。

特許出願人　東洋曹達工業株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 重）　隔膜を用い陽極室と陰極室とを区割し、陽極室に
   塩化アルカリ水溶液を供給して陽極室より塩−１陰極室
   より水素並びに苛性アルカリを取得するに用いる電解槽
   に於て、鉄ｉたは鉄系金属よりなる陰極室、陰極及びそ
   の他の陰極室内部材表面の全てに、ニッケル塩を含むニ
   ッケルメッキ浴を用いてニツ□ゲ□ルメッキを施し、次
   ｉでニッケル塩と含硫黄化合物とを含む活性ニッケルメ
   ッキ浴にて活性ニッケルメッキを施して成る電解槽。