JPS62187486A - 新規メチレンステロイドの製法 - Google Patents
新規メチレンステロイドの製法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J51/00—Normal steroids with unmodified cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton not provided for in groups C07J1/00 - C07J43/00
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P17/00—Drugs for dermatological disorders
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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- A61P29/00—Non-central analgesic, antipyretic or antiinflammatory agents, e.g. antirheumatic agents; Non-steroidal antiinflammatory drugs [NSAID]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J53/00—Steroids in which the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton has been modified by condensation with a carbocyclic rings or by formation of an additional ring by means of a direct link between two ring carbon atoms, including carboxyclic rings fused to the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton are included in this class
- C07J53/002—Carbocyclic rings fused
- C07J53/004—3 membered carbocyclic rings
- C07J53/008—3 membered carbocyclic rings in position 15/16
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明に、新規の張物学的に有効なメチレンステロイド
、その製法及びこの化合物を含有する製剤に関する。
、その製法及びこの化合物を含有する製剤に関する。
1frJlテレンステロイドは、次の一般式■を有する
” C)i@R。
” C)i@R。
’ (4)
〔式中Xは水素原子、弗素原子又蝶メチル基を表わし、
Yはヒドロキシメチレン基、アルカノイルオキシメチレ
ン基又はカルボニル基を表わし、R1は水素原子、ヒド
ロキシ基又はアルカノイルオキシ基を表わし、R2は、
水素原子又は遊離の又は生理学的に認容性の酸でエステ
ル化されたヒドロキシ基を表わす〕。
Yはヒドロキシメチレン基、アルカノイルオキシメチレ
ン基又はカルボニル基を表わし、R1は水素原子、ヒド
ロキシ基又はアルカノイルオキシ基を表わし、R2は、
水素原子又は遊離の又は生理学的に認容性の酸でエステ
ル化されたヒドロキシ基を表わす〕。
新規メチレンステロイドの作用開始及び作用時間並びに
生理学的認容性、溶剤中のその溶解性は、公知のコルチ
コイげにおけると同@に殊に、11.17及び/又扛2
1−位のヒドロキシ基をエステル化するか否か又はいか
なる酸でエステル化するかに依シ決まる。
生理学的認容性、溶剤中のその溶解性は、公知のコルチ
コイげにおけると同@に殊に、11.17及び/又扛2
1−位のヒドロキシ基をエステル化するか否か又はいか
なる酸でエステル化するかに依シ決まる。
エステル化された21−ヒドロキシ基R,としては、有
利にアシル基中の炭素原子1〜16を有するアシロキシ
基、スルフェート基又はホースフェート基がこれに該当
する。好適なアシロキシ基は、例えば、直鎖又は分枝鎖
の飽和又は不飽和の脂肪F!七ノー又嫁ジカルざン酸(
これらは常法で例えばヒドロキシ基、アミノ基又はハロ
ゲン原子で置換されていてよい)から誘導されるもので
ある。
利にアシル基中の炭素原子1〜16を有するアシロキシ
基、スルフェート基又はホースフェート基がこれに該当
する。好適なアシロキシ基は、例えば、直鎖又は分枝鎖
の飽和又は不飽和の脂肪F!七ノー又嫁ジカルざン酸(
これらは常法で例えばヒドロキシ基、アミノ基又はハロ
ゲン原子で置換されていてよい)から誘導されるもので
ある。
更に、アシロキシ基としては、同様忙常法で置換されて
^てよい脂1式、芳香崇、混合芳香−脂肪族又にへテロ
環式酸の残等も好適である。
^てよい脂1式、芳香崇、混合芳香−脂肪族又にへテロ
環式酸の残等も好適である。
好適なアシロキシ基の例としては次のものが挙げられる
:ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピオニルオΦシ、
ブチリールオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサンイル
オキシ、オクタノイルオキシ、ウンデカノイルオキシ、
ツメチルアセトキシ、トリメチルアセトキシ、ツメチル
アセトキシ、t・ブチルアセトキシ、ベンゾイルオキシ
、フェナセチルオキシ、シクロペンチルプロピオニルオ
キシ、ヒドロキシアセトキシ、モノクロルアセトキシ、
ジクロルアセトキシ、トリク目ルアセトキシ、更に、ジ
メチルアミノアセトキシ、トリメテルアオノアセトキシ
、ジエチルアミノアセトキシ、ピペリジノアセトキシ、
ニコチノイルオキシ、ω−カルde中シデロビオニルオ
キシ及びω−カルざキシペンタノイルオキシ基。
:ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピオニルオΦシ、
ブチリールオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサンイル
オキシ、オクタノイルオキシ、ウンデカノイルオキシ、
ツメチルアセトキシ、トリメチルアセトキシ、ツメチル
アセトキシ、t・ブチルアセトキシ、ベンゾイルオキシ
、フェナセチルオキシ、シクロペンチルプロピオニルオ
キシ、ヒドロキシアセトキシ、モノクロルアセトキシ、
ジクロルアセトキシ、トリク目ルアセトキシ、更に、ジ
メチルアミノアセトキシ、トリメテルアオノアセトキシ
、ジエチルアミノアセトキシ、ピペリジノアセトキシ、
ニコチノイルオキシ、ω−カルde中シデロビオニルオ
キシ及びω−カルざキシペンタノイルオキシ基。
水溶性作用物質の製造のために、アシル基中に塩基性窒
素を有する21−アシロキシ基を相応する酸付加塩、例
えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、g4酸塩、蓚酸塩
、酒石酸塩又はマレイン酸塩に変えることができる。更
に、21−ゾカルポン酸モノエステル並びに硫酸エステ
ル及び燐酸エステルを水溶性を高めるためにアルカリ金
属塩例えばナトリウム塩又はカリウム塩に変じることが
できる・ エステル化され九11−又は17−位ヒ)9 aキシル
基としては、有利にアシル基中の炭素原子数1〜8を有
するアシロキシ基がこれに該当する。特に好適なアシロ
キシ基は、アルカノイルオキシ基例えばアセトキシ基、
プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、ペンタノイ
ルオキシ基又はヘキサノイルオキシ基である。
素を有する21−アシロキシ基を相応する酸付加塩、例
えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、g4酸塩、蓚酸塩
、酒石酸塩又はマレイン酸塩に変えることができる。更
に、21−ゾカルポン酸モノエステル並びに硫酸エステ
ル及び燐酸エステルを水溶性を高めるためにアルカリ金
属塩例えばナトリウム塩又はカリウム塩に変じることが
できる・ エステル化され九11−又は17−位ヒ)9 aキシル
基としては、有利にアシル基中の炭素原子数1〜8を有
するアシロキシ基がこれに該当する。特に好適なアシロ
キシ基は、アルカノイルオキシ基例えばアセトキシ基、
プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、ペンタノイ
ルオキシ基又はヘキサノイルオキシ基である。
本発明による新規メチレンステロイドの製法は、次のと
おルである: 良)一般式l: H2R2 C=O ; 〔式中X% R4及びR2は1式におけると同じものを
表わす〕の化合物1に11−ヒ)I I12キクル化し
5る微生物の培養液を用りて醗酵させ、付加的に1.2
−位で脱水素し、かつ所望の場合に、11−位に存在す
るヒト四キシル基を酸化し、存在するエステル基を鹸化
するか又は存在するヒドロキシ基をエステル化する。
おルである: 良)一般式l: H2R2 C=O ; 〔式中X% R4及びR2は1式におけると同じものを
表わす〕の化合物1に11−ヒ)I I12キクル化し
5る微生物の培養液を用りて醗酵させ、付加的に1.2
−位で脱水素し、かつ所望の場合に、11−位に存在す
るヒト四キシル基を酸化し、存在するエステル基を鹸化
するか又は存在するヒドロキシ基をエステル化する。
前工程の実施の九めに、11α−又は11β−ヒドロキ
シル化する微生物を用いる慣用の醗酵法を使用する。1
1α−ヒドロキシル化の念めに、アスペルギルx (A
spergillua )属の菌(例えばアスペルギル
ス・オクラセクス(Aspe−rgillua occ
hraceus ) )を微生物として使用するのが有
利である。11β−ヒドロキシル化のために、例えば、
クルブラリア(Curvularia )属〔例えばク
ルブラリア・ルナタ(−■1arialunata )
]、カエング八へツ(Cunninghamella
)楓(例えばカニングハメツ・パイニエリ(Cunni
−ngham+5lla balnieri )、力=
yグハメラーzレガンス(Cunzhiz>ghame
lla elegana )、力=yグハメラ・エキノ
ラタ(Cunninghamella echi−Ho
lata )及びカニングハメラ#デラツクエスレアナ
(Cunninghamella black*5le
ana ) ]−アプシゾア(Abstciia )
IA (IPI[ばアデシゾア・オル中ディス(Abs
idia orchidia )及びアデシジア・コエ
ルラ(Abaidia coerula ) ] 、へ
J/ミントスポリウA (Hermintolgpro
rium ) @、リゾクトニア(Rh1zocton
ia )属〔例えばリゾクトニア・ノラ= (Rh1z
octonia 5olani ) ) 、ベルチクリ
ウA (Verticillium )属〔例えばベル
チシリウム・テオプロマエ(VertiC1llium
thθobromae ) 、スタキリジウム属〔列え
ばスbicalor ) ]、ビエリクラリア(Pie
llicula−ria ) Jim C例えばペリク
ラリア・フィラメントデ(Pe1licularia
filamentosa ) )又はコレトトリクム(
CCo11etotrichu )属〔例えばコ・ レ
トトリクム・ビシ(CCo11etotrichu p
isi )〕の1It−使用することができる。これら
微生物を周込る醗酵な慣用条件下に実施される。この反
応で、21−位のアシル基は大抵雛脱される・a)法は
有利に、21位にヒドロキシ基又はアシロキシ基を有す
る一般式Hの化合物を用^て実施するのが有利である。
シル化する微生物を用いる慣用の醗酵法を使用する。1
1α−ヒドロキシル化の念めに、アスペルギルx (A
spergillua )属の菌(例えばアスペルギル
ス・オクラセクス(Aspe−rgillua occ
hraceus ) )を微生物として使用するのが有
利である。11β−ヒドロキシル化のために、例えば、
クルブラリア(Curvularia )属〔例えばク
ルブラリア・ルナタ(−■1arialunata )
]、カエング八へツ(Cunninghamella
)楓(例えばカニングハメツ・パイニエリ(Cunni
−ngham+5lla balnieri )、力=
yグハメラーzレガンス(Cunzhiz>ghame
lla elegana )、力=yグハメラ・エキノ
ラタ(Cunninghamella echi−Ho
lata )及びカニングハメラ#デラツクエスレアナ
(Cunninghamella black*5le
ana ) ]−アプシゾア(Abstciia )
IA (IPI[ばアデシゾア・オル中ディス(Abs
idia orchidia )及びアデシジア・コエ
ルラ(Abaidia coerula ) ] 、へ
J/ミントスポリウA (Hermintolgpro
rium ) @、リゾクトニア(Rh1zocton
ia )属〔例えばリゾクトニア・ノラ= (Rh1z
octonia 5olani ) ) 、ベルチクリ
ウA (Verticillium )属〔例えばベル
チシリウム・テオプロマエ(VertiC1llium
thθobromae ) 、スタキリジウム属〔列え
ばスbicalor ) ]、ビエリクラリア(Pie
llicula−ria ) Jim C例えばペリク
ラリア・フィラメントデ(Pe1licularia
filamentosa ) )又はコレトトリクム(
CCo11etotrichu )属〔例えばコ・ レ
トトリクム・ビシ(CCo11etotrichu p
isi )〕の1It−使用することができる。これら
微生物を周込る醗酵な慣用条件下に実施される。この反
応で、21−位のアシル基は大抵雛脱される・a)法は
有利に、21位にヒドロキシ基又はアシロキシ基を有す
る一般式Hの化合物を用^て実施するのが有利である。
−ffKID!2−位飽和ステ日イドの場合により引続
く脱水素は、微生物学的操作法を用いても、純粋に化学
的な方法を用Aても実施できる。1列えば、Δ也−ステ
ロイドは、慣用の条件下にバシルス(Bacillus
) @ (例えばバシルス・レンッス(Bacill
us 1entus )又はバシルス・スファエリクx
(Bacillus aphaericus)〕又は
アルトロバクター(Arthrobactsr ) 1
MArthrobacter simplex ) )
又はコリネ/々クテリクム(Corynebacter
ium ) @ (例えばコリネ/々クテリウム・シン
プレックス(Corinebacteriumsimp
lex ) )の細菌培養液を用^て、1.2−位で脱
水素することができる。しかしながら、他方で、Δ番−
ステロイドをこの反応に貫用の酸化剤例えば二酸化セレ
ン又は2.5−ジクロル−5,6−シチアノペンゾキノ
ンを用いて、不活性溶剤中で加熱する方法で実施するこ
ともできる。
く脱水素は、微生物学的操作法を用いても、純粋に化学
的な方法を用Aても実施できる。1列えば、Δ也−ステ
ロイドは、慣用の条件下にバシルス(Bacillus
) @ (例えばバシルス・レンッス(Bacill
us 1entus )又はバシルス・スファエリクx
(Bacillus aphaericus)〕又は
アルトロバクター(Arthrobactsr ) 1
MArthrobacter simplex ) )
又はコリネ/々クテリクム(Corynebacter
ium ) @ (例えばコリネ/々クテリウム・シン
プレックス(Corinebacteriumsimp
lex ) )の細菌培養液を用^て、1.2−位で脱
水素することができる。しかしながら、他方で、Δ番−
ステロイドをこの反応に貫用の酸化剤例えば二酸化セレ
ン又は2.5−ジクロル−5,6−シチアノペンゾキノ
ンを用いて、不活性溶剤中で加熱する方法で実施するこ
ともできる。
反応終了後に、場合により存在するエステル−、エーテ
ル−基を公知方法で噛脱させ、例えば、場合により存在
するトリメチルシリルオキシ基、t−ブチロキシ基又は
エチレンジオキシ基を酸性触媒(例えば塩酸、硫酸、過
塩素酸又Up−)ルオールスクホン酸)を用い、水F有
低級アルコール又はケトン中、即ち、水含有極性エーテ
ル(例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン)中で加
水分解するQ 所望手段として、引続き一般式■の11β−ヒドロキシ
ステロイドを酸化して相応する11−ケトンにすること
は、公知め操作法で例えばクロム酸、N−プロムスクシ
ンイミド又HN−デロムアセタミげを用^て行なう。
ル−基を公知方法で噛脱させ、例えば、場合により存在
するトリメチルシリルオキシ基、t−ブチロキシ基又は
エチレンジオキシ基を酸性触媒(例えば塩酸、硫酸、過
塩素酸又Up−)ルオールスクホン酸)を用い、水F有
低級アルコール又はケトン中、即ち、水含有極性エーテ
ル(例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン)中で加
水分解するQ 所望手段として、引続き一般式■の11β−ヒドロキシ
ステロイドを酸化して相応する11−ケトンにすること
は、公知め操作法で例えばクロム酸、N−プロムスクシ
ンイミド又HN−デロムアセタミげを用^て行なう。
′エステルの所望によシ引続く鹸化は公知操作法で行な
う。
う。
例として、酸性触媒例えば塩酸、硫酸、p−ドルオール
スルホ/酸又は塩基性触媒例えば炭酸水素カリウム、炭
酸カリウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの存
在で水又は含水アルコール中でのエステルの鹸化が挙げ
られる。
スルホ/酸又は塩基性触媒例えば炭酸水素カリウム、炭
酸カリウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの存
在で水又は含水アルコール中でのエステルの鹸化が挙げ
られる。
場合によシ引続く遊離ヒドロキシ基のエステル化は、同
様に公知の操作法を用いて行なう。
様に公知の操作法を用いて行なう。
91、tば、とドロ中システロイfをアシルクロリド又
はアシルアンヒドリドを用いて、酸例えば塩化水素酸5
p−)ルオールスルホン酸、トリフルオル酢酸の存在で
又は塩基例えば炭酸カリウム、ピリシン、コリジン又h
p−ジメチルアミノピリジンの存在でエステル化するこ
とができる。
はアシルアンヒドリドを用いて、酸例えば塩化水素酸5
p−)ルオールスルホン酸、トリフルオル酢酸の存在で
又は塩基例えば炭酸カリウム、ピリシン、コリジン又h
p−ジメチルアミノピリジンの存在でエステル化するこ
とができる。
他方とドロ中シ化合物をカルボン酸の使用にヨシ、無水
トリフルオル酢酸の存在でエステル化することができる
。
トリフルオル酢酸の存在でエステル化することができる
。
−1[lの21−ヒドロキシ化合物かう、公知方法で2
1−七)硫酸エステルのアルカリ金属スルフェートが製
造でき、列えば、この際、21−ヒドロキシ化合物をピ
リジン中の三酸化(iiI!黄と反応させ、得られたR
酸エステルをアルカリ塩基で処理することによタアルカ
リ塩に変じる。
1−七)硫酸エステルのアルカリ金属スルフェートが製
造でき、列えば、この際、21−ヒドロキシ化合物をピ
リジン中の三酸化(iiI!黄と反応させ、得られたR
酸エステルをアルカリ塩基で処理することによタアルカ
リ塩に変じる。
更に、一般式■の21−ヒドロキシ化合物から公知方法
で、21−モノ燐酸エステルが製造でき、この際例えば
21−ヒドロキシ化合物をスルホン酸クロリドを用いて
、21−tでエステル化し、21−スルホネートをアセ
トン中で沃化アルカリを用いて、21−ヨード化合物に
変じ、ヨード化合物を有機塩基の存在で燐酸と反応させ
、得られる燐酸モノエステルをアルカリを用^てシアル
カリ金属塩に変じる・一般式Iの新規コルチコイドは、
殊に局所適用の際に、優れた抗炎症作用を有する点で顕
著な薬物学的に有効な物質である。
で、21−モノ燐酸エステルが製造でき、この際例えば
21−ヒドロキシ化合物をスルホン酸クロリドを用いて
、21−tでエステル化し、21−スルホネートをアセ
トン中で沃化アルカリを用いて、21−ヨード化合物に
変じ、ヨード化合物を有機塩基の存在で燐酸と反応させ
、得られる燐酸モノエステルをアルカリを用^てシアル
カリ金属塩に変じる・一般式Iの新規コルチコイドは、
殊に局所適用の際に、優れた抗炎症作用を有する点で顕
著な薬物学的に有効な物質である。
更に1これら化合物は屡々迅速な作用開始、高い作用強
度及び長^作用時間によル優れていて1これらは、好適
な吸収性及びガVヌス製剤として比較的良好な安定性を
有する。
度及び長^作用時間によル優れていて1これらは、好適
な吸収性及びガVヌス製剤として比較的良好な安定性を
有する。
新規化合物は、dレヌス製剤に慣用の賦形剤と組合せて
、接触性皮膚炎、1重々の湿疹、神経皮膚炎、紅皮症、
火傷、外陰及び肛門掻痒症、酒皺鼻、皮膚紅斑性狼債、
乾1、扁平及び症状。
、接触性皮膚炎、1重々の湿疹、神経皮膚炎、紅皮症、
火傷、外陰及び肛門掻痒症、酒皺鼻、皮膚紅斑性狼債、
乾1、扁平及び症状。
紅色苔廖及び類似の皮膚病の局所適用のために好適であ
る。
る。
個々の医薬品の製造は慣用方法で行ない、この際、作用
物質は、好適な添加物と共に所望の適用形式例えばmg
10−ション、軟膏1クリーム又は硬膏に変じる。この
ように形成した医薬品中の作用物質濃度は、適用形式に
依り決まる。ローション及び軟膏の場合には、0.00
1〜2%の作用物質濃度を使用するのが有利であるO 更に、これら新規化合物:2慣用の賦形剤及び助剤と組
合せて、吸入剤の製造のなめにも良好に適する。
物質は、好適な添加物と共に所望の適用形式例えばmg
10−ション、軟膏1クリーム又は硬膏に変じる。この
ように形成した医薬品中の作用物質濃度は、適用形式に
依り決まる。ローション及び軟膏の場合には、0.00
1〜2%の作用物質濃度を使用するのが有利であるO 更に、これら新規化合物:2慣用の賦形剤及び助剤と組
合せて、吸入剤の製造のなめにも良好に適する。
次に実施例につき本発明を説明する・
例 1(参考例)
a)11β−ヒドロキシ−1,4,16−ブレグナトリ
エンー3,20−ジオン50gに無水ビリシン300M
中でトリメチルクロルシラン50m1を加え、室温で2
4時間攪拌する。次いで氷水中に攪拌導入し、生じる沈
殿を吸引し、水で洗浄し、塩化メチレン中に入れる。蒸
発濃縮の後に、ffl!t!!11β−トリメチルシリ
ルオキシ−1,4,16−デレグナトリエンー3,2〇
−ジオン56−5 !/が得られる。ゾイソデロビルエ
ーテルから再結晶させた試料は、196〜197.5℃
で融解する。
エンー3,20−ジオン50gに無水ビリシン300M
中でトリメチルクロルシラン50m1を加え、室温で2
4時間攪拌する。次いで氷水中に攪拌導入し、生じる沈
殿を吸引し、水で洗浄し、塩化メチレン中に入れる。蒸
発濃縮の後に、ffl!t!!11β−トリメチルシリ
ルオキシ−1,4,16−デレグナトリエンー3,2〇
−ジオン56−5 !/が得られる。ゾイソデロビルエ
ーテルから再結晶させた試料は、196〜197.5℃
で融解する。
b) を−酪酸カリウム6.72 、Fをジメチルホ
ルムアミド79m/及びt−ブタノール15..2nl
中VC溶かす。−25℃に冷却した溶液に亜燐酸トリメ
チル5.5 mlを加え、乾燥酸素を導入する。
ルムアミド79m/及びt−ブタノール15..2nl
中VC溶かす。−25℃に冷却した溶液に亜燐酸トリメ
チル5.5 mlを加え、乾燥酸素を導入する。
次いで無水テトラヒドロフラン62ゴ中に溶かした11
β−トリメチルシリロキシ−1,4゜16−ブレグナト
リエンー5.20−ジオン8.8gを滴加し、引続き、
更に15分間酸素を導入シ、−25℃で!KiO分間j
trFすル。弱い酢酸涜性氷水中に撹拌導入の後くい生
じる沈H1t−濾噌し、水で洗浄し、塩化メチレン中に
入れ、乾葉させる。残分をシリカゾルでのクロマトグラ
フィにかけ、ゾイソデロビルエーデル/塩化メチレンか
ら再結晶させると、融点195〜195.5’Oの17
−ヒド四ヤシ−11β−トリメチルシリロキシ−1,4
,15−プレグナトリエン−3,20−ジオン1.95
flが得られる。
β−トリメチルシリロキシ−1,4゜16−ブレグナト
リエンー5.20−ジオン8.8gを滴加し、引続き、
更に15分間酸素を導入シ、−25℃で!KiO分間j
trFすル。弱い酢酸涜性氷水中に撹拌導入の後くい生
じる沈H1t−濾噌し、水で洗浄し、塩化メチレン中に
入れ、乾葉させる。残分をシリカゾルでのクロマトグラ
フィにかけ、ゾイソデロビルエーデル/塩化メチレンか
ら再結晶させると、融点195〜195.5’Oの17
−ヒド四ヤシ−11β−トリメチルシリロキシ−1,4
,15−プレグナトリエン−3,20−ジオン1.95
flが得られる。
C)17−ヒrロキシ−11β−トリメチルシリロ争シ
ー1.4.15−プレグナトリエン−5,20−ジオン
1.5,1m、無水テトラヒドロフラン55”tag中
でリチウム−トリーt−デトキシアラネー) 1.55
gを加え、室温で50分攪拌する。次Aで、氷水中に
攪拌導入し、稀硫酸で酸性にし、塩化メチレンで抽出す
る。有機相を水で中性になるまで洗浄し、乾燥させ、か
つ蒸発渋約する。残分をシリカゾルのクロマトグラフィ
にかけると、17,20ξ−ジヒドロキシ−11β−ト
リメチルシリロキシ−1,4゜15−プレグナトリヱン
ー、5−オン1.171が油状物として得られた。
ー1.4.15−プレグナトリエン−5,20−ジオン
1.5,1m、無水テトラヒドロフラン55”tag中
でリチウム−トリーt−デトキシアラネー) 1.55
gを加え、室温で50分攪拌する。次Aで、氷水中に
攪拌導入し、稀硫酸で酸性にし、塩化メチレンで抽出す
る。有機相を水で中性になるまで洗浄し、乾燥させ、か
つ蒸発渋約する。残分をシリカゾルのクロマトグラフィ
にかけると、17,20ξ−ジヒドロキシ−11β−ト
リメチルシリロキシ−1,4゜15−プレグナトリヱン
ー、5−オン1.171が油状物として得られた。
d)17,20ξ−ジヒfロキシー11β−トリメチル
シリロキシ−1,4,15−プレグナトリエン−5−オ
ン3.81を無水エーテル25m1及び無水1,2−ジ
メトキシエタン25m中に溶かし、#、鉛−鋼一対7.
61及び沃化メチレン6.15rnlを加え、層流下に
7.5時間加熱する。
シリロキシ−1,4,15−プレグナトリエン−5−オ
ン3.81を無水エーテル25m1及び無水1,2−ジ
メトキシエタン25m中に溶かし、#、鉛−鋼一対7.
61及び沃化メチレン6.15rnlを加え、層流下に
7.5時間加熱する。
次いでもう一度前記と同じ漬のZn −Cu一対及び沃
化メチレンを加え、RR下に更に18時間加熱する。反
応溶液t−塩化メチレンで稀釈し、飽和塩化アンモニウ
ム溶液及び水で洗浄する。
化メチレンを加え、RR下に更に18時間加熱する。反
応溶液t−塩化メチレンで稀釈し、飽和塩化アンモニウ
ム溶液及び水で洗浄する。
蒸発濃縮の後にシリカゾルのクロマトグラフィにかける
表、17,20ξ−ジヒドロキシ−11メチレン−1,
4−−f’レグナシエン−3−オン2.5Iが油状物と
して得られる。
表、17,20ξ−ジヒドロキシ−11メチレン−1,
4−−f’レグナシエン−3−オン2.5Iが油状物と
して得られる。
e)17,20ξ−ジヒドロキシ−11β−トリメチル
シリロキシ−15α、16α−メチレン−プレグナシエ
ン−3−オン2.5 jlをジメチルスルホキシド75
.5wt1中に溶かし、10〜15℃に冷却し、トリメ
チルアミン6.74tdfr:加え、25分かかつて、
ジメチルスルホキシド19.54中のピリシン−5o3
−錯体4.9gの溶液を滴加する。次^で、室温で1時
間攪拌し、氷水中に攪拌導入し、生じる沈殿を濾暇し、
塩化メチレン中に入れる。乾燥及び蒸発濃縮の後に、残
分をシリカビルのクロマトグラフィKかけ、17−ヒド
ロキシ−11β−トリメチルシリロキシ−15α、16
α−メチレン−1,4−デレグナゾエン−3,20−ジ
オン2.OIIが得られる。ゾイソデロビルエーテル/
塩化メチレンから再結晶させた生成物は216〜218
.5℃で融解する。
シリロキシ−15α、16α−メチレン−プレグナシエ
ン−3−オン2.5 jlをジメチルスルホキシド75
.5wt1中に溶かし、10〜15℃に冷却し、トリメ
チルアミン6.74tdfr:加え、25分かかつて、
ジメチルスルホキシド19.54中のピリシン−5o3
−錯体4.9gの溶液を滴加する。次^で、室温で1時
間攪拌し、氷水中に攪拌導入し、生じる沈殿を濾暇し、
塩化メチレン中に入れる。乾燥及び蒸発濃縮の後に、残
分をシリカビルのクロマトグラフィKかけ、17−ヒド
ロキシ−11β−トリメチルシリロキシ−15α、16
α−メチレン−1,4−デレグナゾエン−3,20−ジ
オン2.OIIが得られる。ゾイソデロビルエーテル/
塩化メチレンから再結晶させた生成物は216〜218
.5℃で融解する。
ヂ) 1 フ − W n PJ 4 //
−41ρ −1−II J 第Ar Xiソロキシ
−15α、16α−メチレン−1,4−プレグナシエン
−5,20−ジオン2.0gをメタノール40膚!中で
稀塩酸(1+1)2m/と共に室温で1.5時間攪拌す
る。次いで、氷水中に攪拌導入し、得られる沈殿を吸引
し、水で洗浄し、塩化メチレン中に入れる。
−41ρ −1−II J 第Ar Xiソロキシ
−15α、16α−メチレン−1,4−プレグナシエン
−5,20−ジオン2.0gをメタノール40膚!中で
稀塩酸(1+1)2m/と共に室温で1.5時間攪拌す
る。次いで、氷水中に攪拌導入し、得られる沈殿を吸引
し、水で洗浄し、塩化メチレン中に入れる。
乾燥及び蒸発濃縮の後に残分を酢酸エステルから再結晶
させると、融点233〜248℃(分解)の11β、1
7−シヒドロキシー15゜16α−メチレン−1,4−
7’レクナソエン−3,20−ジオンi、os、pが得
られる。
させると、融点233〜248℃(分解)の11β、1
7−シヒドロキシー15゜16α−メチレン−1,4−
7’レクナソエン−3,20−ジオンi、os、pが得
られる。
例 2(#考例)
a) 5β−アセトキシ−15α、16α−メチレン
−5−プレグネン−17,20ξ−ジオール11.0.
9ft−ツメチルスルホキシド250m1中に醇かし、
15℃に冷却し、トリエチルアミン50.8 mlを加
え、50分かかつてジメチルスルホキシド100wj中
のピリジン−酸化イオウ(Vl)−一体22.9の溶液
を滴加する。室温で1時間攪拌し、次^で弱い酢は酸性
氷水中に攪拌導入し、生じる沈殿を濾取し、光分に洗浄
しかつ塩化メチレン中〈入れる。乾燥及び蒸発濃縮の後
に、残分を酢酸エステルから再結晶させると、融点24
5〜247℃(分解)の17−ヒドロキシ−3β−アセ
トキシ−15α、16α−メチレン−5−プレグネン−
20−オン7.59が得られる。
−5−プレグネン−17,20ξ−ジオール11.0.
9ft−ツメチルスルホキシド250m1中に醇かし、
15℃に冷却し、トリエチルアミン50.8 mlを加
え、50分かかつてジメチルスルホキシド100wj中
のピリジン−酸化イオウ(Vl)−一体22.9の溶液
を滴加する。室温で1時間攪拌し、次^で弱い酢は酸性
氷水中に攪拌導入し、生じる沈殿を濾取し、光分に洗浄
しかつ塩化メチレン中〈入れる。乾燥及び蒸発濃縮の後
に、残分を酢酸エステルから再結晶させると、融点24
5〜247℃(分解)の17−ヒドロキシ−3β−アセ
トキシ−15α、16α−メチレン−5−プレグネン−
20−オン7.59が得られる。
b)17−ヒドロキシ−3β−アセトキシ−15α、1
6α−メチレン−5−プレグネン−20−オン10.0
、Fを酢酸35〇−及びクロロホルム100H1中に
部分的に溶かし、酢酸中の臭化水素(37%)0−1m
/を加え、1・5時間かかつて酢酸100d中の臭素2
.85mの溶液を滴加する。人込で1時間攪拌、シ、反
応酸P/1.を塩化メチレンで稀釈し、水、炭酸水素ナ
トリウム溶液及び水で洗浄し、乾燥させる。蒸発I11
#iilの後に、徂[5,6β、21−トリデーム−1
フーヒトロキシー6β−アセトキシ−15α。
6α−メチレン−5−プレグネン−20−オン10.0
、Fを酢酸35〇−及びクロロホルム100H1中に
部分的に溶かし、酢酸中の臭化水素(37%)0−1m
/を加え、1・5時間かかつて酢酸100d中の臭素2
.85mの溶液を滴加する。人込で1時間攪拌、シ、反
応酸P/1.を塩化メチレンで稀釈し、水、炭酸水素ナ
トリウム溶液及び水で洗浄し、乾燥させる。蒸発I11
#iilの後に、徂[5,6β、21−トリデーム−1
フーヒトロキシー6β−アセトキシ−15α。
16α−メチレン−5α−プレグナン−20−オン17
.9 IIが得られる。
.9 IIが得られる。
C)粗製5,6β、21−)リゾロム−17−ヒドロキ
シ−5β−アセトキシ−15α、16α−メチレン−5
α−プレグナン−20−オン17.9 IIをアセトン
400d中、沃化ナトリウム9.11i及び酢酸カリウ
ム40Iと共に攪拌下、a流下に4時間加熱する。氷水
沈殿の後く濾取した沈殿を塩化メチレン中忙入れ、乾燥
させ、蒸発濃縮させる・残分をシリカデルのクロマトグ
ラフィにかけ、ジイソプロピルエーテル/アセトンから
再結晶させると、融点197.5〜199℃の17−ヒ
ドロキシ−3β、21−ジアセトキシ−15α、16α
−メチレン−5−プレグネン−20−オン4.75.9
が得られる。
シ−5β−アセトキシ−15α、16α−メチレン−5
α−プレグナン−20−オン17.9 IIをアセトン
400d中、沃化ナトリウム9.11i及び酢酸カリウ
ム40Iと共に攪拌下、a流下に4時間加熱する。氷水
沈殿の後く濾取した沈殿を塩化メチレン中忙入れ、乾燥
させ、蒸発濃縮させる・残分をシリカデルのクロマトグ
ラフィにかけ、ジイソプロピルエーテル/アセトンから
再結晶させると、融点197.5〜199℃の17−ヒ
ドロキシ−3β、21−ジアセトキシ−15α、16α
−メチレン−5−プレグネン−20−オン4.75.9
が得られる。
d)内8201のガラス製醗酵槽〈騨母エキス0.6%
、コーンステイープリカー0.5%及びデンプン曙0.
2%を含む栄養液15ノを加え、120℃に半時間加熱
することによ!りffcl!flu、冷却後に、フラ♂
バクテリウム・デヒドロデナンス(Flavobact
erium dehydrogenana ) ATC
C15950の2日振動フラスコ培養g250ilt″
接櫨する(振動フラスコ培養液は、同じ培地250−を
7日傾斜培養物の洗浄液の接種によ)#!造する)。3
0℃で、攪拌(220回/mLn)及び通気(15J/
m1n)下に24時間培養の後く、得られる培養液の9
00dtTJRH条件下に:Jil出し、同じ培地14
1を有する同じ大きさの醗酵槽中〈移す。6時間後く、
培養液は15ノまで減少するから、ゾメチルホルムアζ
ド10〇−中の17−ヒドロキシ−3β、21−ジアセ
トキシ−・15α、16α−メチレン−5−プレグネン
−20−オン6.51の無i濾過溶液を加え、同じ東件
下に更VCl3時間醗酵させる。
、コーンステイープリカー0.5%及びデンプン曙0.
2%を含む栄養液15ノを加え、120℃に半時間加熱
することによ!りffcl!flu、冷却後に、フラ♂
バクテリウム・デヒドロデナンス(Flavobact
erium dehydrogenana ) ATC
C15950の2日振動フラスコ培養g250ilt″
接櫨する(振動フラスコ培養液は、同じ培地250−を
7日傾斜培養物の洗浄液の接種によ)#!造する)。3
0℃で、攪拌(220回/mLn)及び通気(15J/
m1n)下に24時間培養の後く、得られる培養液の9
00dtTJRH条件下に:Jil出し、同じ培地14
1を有する同じ大きさの醗酵槽中〈移す。6時間後く、
培養液は15ノまで減少するから、ゾメチルホルムアζ
ド10〇−中の17−ヒドロキシ−3β、21−ジアセ
トキシ−・15α、16α−メチレン−5−プレグネン
−20−オン6.51の無i濾過溶液を加え、同じ東件
下に更VCl3時間醗酵させる。
醗酵終了後に、培養?fflをメチルイソブチルケトン
各6Itで3回抽出する。果めた抽出物を真空中で蒸発
乾個させる。残分から熱いヘキサン100−で使用消泡
剤シリコンSHを洗浄除去すると、粗生成物4.7 I
Iが得られるから、これを少量の活性炭をla′!Ja
シた酢酸エステルから再結晶させる。融点225〜22
6℃の17.21−pヒドロ午シー15α、16α−メ
チレン−4−プレグネン−3,20−ジオン5.151
1C’収率:理論量の68%)が得られる。
各6Itで3回抽出する。果めた抽出物を真空中で蒸発
乾個させる。残分から熱いヘキサン100−で使用消泡
剤シリコンSHを洗浄除去すると、粗生成物4.7 I
Iが得られるから、これを少量の活性炭をla′!Ja
シた酢酸エステルから再結晶させる。融点225〜22
6℃の17.21−pヒドロ午シー15α、16α−メ
チレン−4−プレグネン−3,20−ジオン5.151
1C’収率:理論量の68%)が得られる。
例 3
20!−ガラス製醗酵fIIVcグルコース5%コーン
ステイープリカー1%、NaNO30−2%、KH2P
O,Q、1%、K、HPo、 0.2%、MgSO40
,05%、FeSO40,002%及びKCtO,05
%をきむ栄養液141を入れ、120℃釦半時間加熱す
ることによシ滅菌し、冷却後にペリクラリア・フィラメ
ントサ・f・sp・ナナ中(Pellicularia
filamentosa/−sp −aasakii
) IFO6675の6日愚動フラスコ培養液900d
を接種する(振動フラスコ培養液は、7日傾斜培養物の
洗lfiを同じ培地900−に接種することにより製造
される)。
ステイープリカー1%、NaNO30−2%、KH2P
O,Q、1%、K、HPo、 0.2%、MgSO40
,05%、FeSO40,002%及びKCtO,05
%をきむ栄養液141を入れ、120℃釦半時間加熱す
ることによシ滅菌し、冷却後にペリクラリア・フィラメ
ントサ・f・sp・ナナ中(Pellicularia
filamentosa/−sp −aasakii
) IFO6675の6日愚動フラスコ培養液900d
を接種する(振動フラスコ培養液は、7日傾斜培養物の
洗lfiを同じ培地900−に接種することにより製造
される)。
29℃で、前記条件下で12時間−醗酵の後忙、ジメチ
ルホルムアミド100d中の17.21−ジヒドロキシ
−15α116α−メチレン−4−プレグネン−6,2
0−ジオンの滅#I濾過溶液を加える。更に66時間醗
酵の後に、培養液をガーゼで濾過する。残留ミセルを水
で数回洗浄する。濾液及び洗浄水をメチルイソブチルケ
トンで抽出し、例2 d)の記載と同様に後処理する。
ルホルムアミド100d中の17.21−ジヒドロキシ
−15α116α−メチレン−4−プレグネン−6,2
0−ジオンの滅#I濾過溶液を加える。更に66時間醗
酵の後に、培養液をガーゼで濾過する。残留ミセルを水
で数回洗浄する。濾液及び洗浄水をメチルイソブチルケ
トンで抽出し、例2 d)の記載と同様に後処理する。
粗生成物全ヘキサン−アセトン勾配系を用いてシリカデ
ルのクロマトグラフィ〈かける・ 酢酸エステルからの再結晶の後く、融点209〜210
℃の11β、17.21−トリヒト四1/−15α、1
6α−メチレン−4−プレグネン−3,20−ジオン1
.2Iが得られる。
ルのクロマトグラフィ〈かける・ 酢酸エステルからの再結晶の後く、融点209〜210
℃の11β、17.21−トリヒト四1/−15α、1
6α−メチレン−4−プレグネン−3,20−ジオン1
.2Iが得られる。
極性フラクションから、ジイソプロピル1−チル/アセ
トンから再結晶の後に、融点214〜215℃の11α
、17.21−トリヒドロキシ−15α、1゛6α−メ
チレン−4−プレグネン−5,20”)オン22I9が
得られる。
トンから再結晶の後に、融点214〜215℃の11α
、17.21−トリヒドロキシ−15α、1゛6α−メ
チレン−4−プレグネン−5,20”)オン22I9が
得られる。
例 4
21−エーレンマイヤーフラスコにペプトン1.5%、
コーンステイープリカー1.2%及びMg8040−2
%を含む栄養液500−を装入し、滅菌し、かつパシル
ス・レンッス(Bacllluslentua ) A
TCC15805の3日傾斜培養物の洗液を接f踵する
。30℃で回転撮動機(165回/m1n)上で48時
間振動の後(、培養液50WIlを無菌条件下に暇り出
し、21−エーレンマイヤーフラスコ中で、酵母エキス
0.1%、コーンステイープリカー0.5%及びデンプ
ン糖0.05%を含む無菌栄養液500−と共に移し、
24時間振る。同じ培地各500 atを有する21−
エーレンマイヤーフラスコ10aK各々、得られ九初期
培養液5011Llを接、11し、6時間後に、各々ジ
メチルホルムアミド4 ml中の11β、17.21−
トリヒドロキシ−15α、16α−メチレン−4−プレ
グネン−5,20−ジオン100III9の溶液1に装
入し、30℃及び165回転/ minで24時間振動
する。培養液を集め1メチルイソデテルケトンで抽出す
る。抽出物から、蒸発後に、粗生成物1.2Iを生じる
から、これをジイソプロピルエーテル/アセトンから再
結晶させると、融点205〜207℃の11β、17.
21−トリヒドロキシ−15α、16α−メチレン−1
,4−−rレグナシエン−5゜20−ジオンが得られる
。
コーンステイープリカー1.2%及びMg8040−2
%を含む栄養液500−を装入し、滅菌し、かつパシル
ス・レンッス(Bacllluslentua ) A
TCC15805の3日傾斜培養物の洗液を接f踵する
。30℃で回転撮動機(165回/m1n)上で48時
間振動の後(、培養液50WIlを無菌条件下に暇り出
し、21−エーレンマイヤーフラスコ中で、酵母エキス
0.1%、コーンステイープリカー0.5%及びデンプ
ン糖0.05%を含む無菌栄養液500−と共に移し、
24時間振る。同じ培地各500 atを有する21−
エーレンマイヤーフラスコ10aK各々、得られ九初期
培養液5011Llを接、11し、6時間後に、各々ジ
メチルホルムアミド4 ml中の11β、17.21−
トリヒドロキシ−15α、16α−メチレン−4−プレ
グネン−5,20−ジオン100III9の溶液1に装
入し、30℃及び165回転/ minで24時間振動
する。培養液を集め1メチルイソデテルケトンで抽出す
る。抽出物から、蒸発後に、粗生成物1.2Iを生じる
から、これをジイソプロピルエーテル/アセトンから再
結晶させると、融点205〜207℃の11β、17.
21−トリヒドロキシ−15α、16α−メチレン−1
,4−−rレグナシエン−5゜20−ジオンが得られる
。
例 5
コーンステイープリカー1%、大豆粉1.25%及び大
豆油0.005%よ〕なる無菌栄養液500IE/を有
t、b2J−エーレンマイヤーフラスコに、アスペルヤ
ルス・オクラセウス(Aa−pergillua oc
hraceus ) ATCC1008の100日傾斜
培養物洗液を接種し、30℃及び165回転/ min
で72時間振動する。この培養液各50dを、同じ培地
各500II/を有する2!−エーレンマイヤーフラス
コ7個に接種し、16時間後に、各々ツメチルスルホキ
シド4−中の17.21−Pヒドロキシ−15α、16
α−メテレン−4−プレグネン−5,20−′7オンt
oom9を2111見る021時間の接触時間の後に、
集められた培養液をミセル分離せずにメチルイソブチル
ケトンで抽出する。抽出液は蒸発の後4C徂生成t#l
l992#lを生じ、これは再結晶の後に、融点213
〜215℃の11α、17゜21−トリヒドロキシ−1
5α、16α−メチレン−4−プレグネン−5,20−
ジオン351〜を生じる。
豆油0.005%よ〕なる無菌栄養液500IE/を有
t、b2J−エーレンマイヤーフラスコに、アスペルヤ
ルス・オクラセウス(Aa−pergillua oc
hraceus ) ATCC1008の100日傾斜
培養物洗液を接種し、30℃及び165回転/ min
で72時間振動する。この培養液各50dを、同じ培地
各500II/を有する2!−エーレンマイヤーフラス
コ7個に接種し、16時間後に、各々ツメチルスルホキ
シド4−中の17.21−Pヒドロキシ−15α、16
α−メテレン−4−プレグネン−5,20−′7オンt
oom9を2111見る021時間の接触時間の後に、
集められた培養液をミセル分離せずにメチルイソブチル
ケトンで抽出する。抽出液は蒸発の後4C徂生成t#l
l992#lを生じ、これは再結晶の後に、融点213
〜215℃の11α、17゜21−トリヒドロキシ−1
5α、16α−メチレン−4−プレグネン−5,20−
ジオン351〜を生じる。
例 6
例4の粂件下で、21−エーレンマイヤーフラスコ6個
中で11α、17.21−)ジヒドロキシ−15α、1
(5α−メチレン−4−プレグネン−3,20−ジオン
600ダからパシルス・レンツスATCC15805を
用いる1酵により粗製脱水素化生成物680雫が得られ
、これは、クロロホルム/メタノール系(95+5)を
用いるシリカゾルでの4層クロマトグラフィにかける精
製の後に、融点225〜227℃の純粋11α、17,
21−トリヒトqキシー15α、16α−メチレン−1
,4−プレグナシエン−3,20−ジオンが得られる。
中で11α、17.21−)ジヒドロキシ−15α、1
(5α−メチレン−4−プレグネン−3,20−ジオン
600ダからパシルス・レンツスATCC15805を
用いる1酵により粗製脱水素化生成物680雫が得られ
、これは、クロロホルム/メタノール系(95+5)を
用いるシリカゾルでの4層クロマトグラフィにかける精
製の後に、融点225〜227℃の純粋11α、17,
21−トリヒトqキシー15α、16α−メチレン−1
,4−プレグナシエン−3,20−ジオンが得られる。
例 7
例4に記載と同じ条形下に、コリネパクテリウム−シy
プレックス(Corynebacteriumsimp
lex ) ATCC694(5を用いて、11α。
プレックス(Corynebacteriumsimp
lex ) ATCC694(5を用いて、11α。
17.21−トリヒドロキシ−15α、16α−メチレ
ン−4−デレグネ7−5#20−ジオンを1,2−脱水
素する。
ン−4−デレグネ7−5#20−ジオンを1,2−脱水
素する。
?+18
11α、17.21−)ジヒドロキシ−15α、16α
−メチレン−1、4−7’レグナシエン−5,20−ジ
オン10019eゾメチルホルムアミド4i中!/c溶
かし、攪拌下に酢酸鉛(II)641及び無水酢酸0.
08 m/を加える。引続き室温で2時間攪拌の後に、
反応溶液を水中に注ぐ。
−メチレン−1、4−7’レグナシエン−5,20−ジ
オン10019eゾメチルホルムアミド4i中!/c溶
かし、攪拌下に酢酸鉛(II)641及び無水酢酸0.
08 m/を加える。引続き室温で2時間攪拌の後に、
反応溶液を水中に注ぐ。
生じた沈設を吸引し、乾燥させ、酢酸エステル−イソゾ
ロeルエーテルから再結晶させると、11α、17−ジ
ヒドロキシ−21−フセトキシー15α、16α−メチ
レン−1,4−プレグナジェン−5,20−ジオンが得
られる。
ロeルエーテルから再結晶させると、11α、17−ジ
ヒドロキシ−21−フセトキシー15α、16α−メチ
レン−1,4−プレグナジェン−5,20−ジオンが得
られる。
例 9(参考例)
11α、17−ジヒドロ中シー21−アセトキシ−15
α、16α−メチレン−1,4−プレグナツエン−5,
20−ジオン500ダをア七トン15d中、10℃で、
クロム硫酸(クロム酸267 fi、水400*/、濃
硫酸250dlを入れ11として製造)0.4−を加え
、10℃で15分攪拌し、氷水中に沈殿させる。沈殿を
濾過し、塩化メチレン中に磯り、水で洗浄し、乾燥させ
る。蒸発濃縮の後く、シリカゾルでのクロマトグラフィ
にかけると、17−ヒドロ中シー21−アセトキシ−1
5α、16α−メチレン−1,4−プレグナシエン−3
,11,20−トリオンが得られる。
α、16α−メチレン−1,4−プレグナツエン−5,
20−ジオン500ダをア七トン15d中、10℃で、
クロム硫酸(クロム酸267 fi、水400*/、濃
硫酸250dlを入れ11として製造)0.4−を加え
、10℃で15分攪拌し、氷水中に沈殿させる。沈殿を
濾過し、塩化メチレン中に磯り、水で洗浄し、乾燥させ
る。蒸発濃縮の後く、シリカゾルでのクロマトグラフィ
にかけると、17−ヒドロ中シー21−アセトキシ−1
5α、16α−メチレン−1,4−プレグナシエン−3
,11,20−トリオンが得られる。
例10(参考例)
a)17−ヒドロキシ−3β、21−ジアセトキシ−1
5α、16α−メチレン−5−プレグネン−20−オン
11.5gMにメタノール170d及び塩化メチレン1
70d中で水冷下に、メタノール10−中の水酸化カリ
ウム568II#9の溶液を加え、氷温度で1.5時間
攪拌する。引続き酢酸で中和し、IW液を真空中で充分
に濃縮し、氷水中で沈殿させる・生じた沈殿を吸引し、
洗浄しかつ乾燥させる。シリカ一ルでのクロマトグラフ
ィの後間、ゾイソデロビルエーテルと擦した後に、17
.21−ジヒドロキシ−3β−アセトキシ−15α、1
6α−メチレン−5−プレグネン−20−オン7.3.
9が得られる。酢酸エステルから再結晶した試料は、2
28〜255.5℃(分解)で融解する。
5α、16α−メチレン−5−プレグネン−20−オン
11.5gMにメタノール170d及び塩化メチレン1
70d中で水冷下に、メタノール10−中の水酸化カリ
ウム568II#9の溶液を加え、氷温度で1.5時間
攪拌する。引続き酢酸で中和し、IW液を真空中で充分
に濃縮し、氷水中で沈殿させる・生じた沈殿を吸引し、
洗浄しかつ乾燥させる。シリカ一ルでのクロマトグラフ
ィの後間、ゾイソデロビルエーテルと擦した後に、17
.21−ジヒドロキシ−3β−アセトキシ−15α、1
6α−メチレン−5−プレグネン−20−オン7.3.
9が得られる。酢酸エステルから再結晶した試料は、2
28〜255.5℃(分解)で融解する。
b)17.21−ジヒドロキシ−3β−アセトキシ−1
5α、16α−メチレン−5−プレグネン−20−オン
7.0.9 f:酢酸280 rnl中で、結晶水含有
酢酸亜鉛700IN9と共に、120℃で2時間攪拌す
る。次いで真空中で充分に濃縮し、残分を!I化メチレ
ン中に入れ、水で9注になるまで洗浄する。蒸発ala
の後釦、粗#!2〇−ヒドロキシー3β−アセトキシ−
15α。
5α、16α−メチレン−5−プレグネン−20−オン
7.0.9 f:酢酸280 rnl中で、結晶水含有
酢酸亜鉛700IN9と共に、120℃で2時間攪拌す
る。次いで真空中で充分に濃縮し、残分を!I化メチレ
ン中に入れ、水で9注になるまで洗浄する。蒸発ala
の後釦、粗#!2〇−ヒドロキシー3β−アセトキシ−
15α。
16α−メチレン−5,17(20)−プレグナジェン
−21−アール7.0gが得られる。
−21−アール7.0gが得られる。
C)20−ヒドロキシ−3β−7セトキシー15α、1
6α−メチレン−5,17(20)−ブレブナジエン−
21−アール7.0 # ftぎりシン2FJynl中
で無水酢酸141!Ltと共和、室温で1時間数1處す
る。次^で、氷水中く導入し、生じる沈殿を濾過し、エ
ーテル中に入れる。エーテル相を稀塩酸、水、炭酸水素
ナトリウム溶液及び水で洗浄する。蒸発濃縮後に、残分
をシリカゾルのクロマトグラフィにかけると、3β。
6α−メチレン−5,17(20)−ブレブナジエン−
21−アール7.0 # ftぎりシン2FJynl中
で無水酢酸141!Ltと共和、室温で1時間数1處す
る。次^で、氷水中く導入し、生じる沈殿を濾過し、エ
ーテル中に入れる。エーテル相を稀塩酸、水、炭酸水素
ナトリウム溶液及び水で洗浄する。蒸発濃縮後に、残分
をシリカゾルのクロマトグラフィにかけると、3β。
20−ジアセトヤシ−15α、16α−メチレン−5,
17(20)−プレグナジェン−21−アール6.5g
が得られる。
17(20)−プレグナジェン−21−アール6.5g
が得られる。
ジイソプロピルエーテルから再結晶させ九試料は、14
7.5〜151℃で融解する。
7.5〜151℃で融解する。
d) 5β、20−ジアセト午シー15α、16α−
メチVンー15.17(20)−プレグナシエン−21
−アール6.5 IiKテトラヒトa7ラン中で、リチ
ウム−トリーt−デトΦシアラー トロ、51 f:加
え、室温で60分攪拌する。次いで、氷水中に攪拌導入
し、檜硫酸で酸性にし、塩化メチレンで抽出する。乾燥
及び蒸発濃縮の後に、粗[21−ヒドロキシ−5β、2
0−ジアセトキシ−15α、16α−メチレン−5゜1
7(2[])−プレグナシエン6.51が得られる。
メチVンー15.17(20)−プレグナシエン−21
−アール6.5 IiKテトラヒトa7ラン中で、リチ
ウム−トリーt−デトΦシアラー トロ、51 f:加
え、室温で60分攪拌する。次いで、氷水中に攪拌導入
し、檜硫酸で酸性にし、塩化メチレンで抽出する。乾燥
及び蒸発濃縮の後に、粗[21−ヒドロキシ−5β、2
0−ジアセトキシ−15α、16α−メチレン−5゜1
7(2[])−プレグナシエン6.51が得られる。
e)21−ヒドロキシ−3β、20−ジアセトキシ−1
5α、16α−メチレン−5,17(20)−プレグナ
シエン6.5yをメタノール26Oynl中、2N塩酸
65−と共に還流下に3.5時間加熱する。引続き、氷
水中で沈殿させ\水で洗浄し1乾燥させる。蒸発濃縮の
後に得られた残分をシリカゾルのクロマトグラフィにか
け、酢酸エステルから再結晶させると、融点174.5
〜179.5℃の6β、21−ジヒドロ中シー15α、
16α−メチレン−5−プレグネン−20−オン2.6
gが得られるOf) 5β、21−ソヒPaキシー1
5α、16α−メチレン−5−プレグネン−20−オン
2.0.9 t−ゾメチルホルAアミド20d&び無水
酢fi 2 m 中Vcg カt、、酢酸鉛1.28
N e21111.t、處温で1.5時間攪拌する。次
^で氷水中に攪拌導入し一生じる沈殿を吸引し、洗浄し
、かつ乾瞭させる。
5α、16α−メチレン−5,17(20)−プレグナ
シエン6.5yをメタノール26Oynl中、2N塩酸
65−と共に還流下に3.5時間加熱する。引続き、氷
水中で沈殿させ\水で洗浄し1乾燥させる。蒸発濃縮の
後に得られた残分をシリカゾルのクロマトグラフィにか
け、酢酸エステルから再結晶させると、融点174.5
〜179.5℃の6β、21−ジヒドロ中シー15α、
16α−メチレン−5−プレグネン−20−オン2.6
gが得られるOf) 5β、21−ソヒPaキシー1
5α、16α−メチレン−5−プレグネン−20−オン
2.0.9 t−ゾメチルホルAアミド20d&び無水
酢fi 2 m 中Vcg カt、、酢酸鉛1.28
N e21111.t、處温で1.5時間攪拌する。次
^で氷水中に攪拌導入し一生じる沈殿を吸引し、洗浄し
、かつ乾瞭させる。
酢酸エステルから再結晶すると、融点168.5〜16
9.5℃の3β−ヒドロキシ−21−7セトキシー15
α、16α−メチレン−5−プレグネン−20−オン1
.81が得られるOg) 5β−ヒrロキシー21−
アセトキシ−15α、16α−メチレン−5−プレグネ
ン−20−オン500II9にドルオール25−及びシ
クロヘキサノン1d中で、ドルオール2sl中のアルミ
ニウムイソゾロビレ−xootuoの溶液を加え、45
分間徐々にaJ−3!i−シながら加熱する・次Aでエ
ーテルで稀釈し、稀硫酸及び水で洗浄する。乾燥及び環
発嚢縮の後間シリカrルのクロマトグラフィにかけ、ジ
イソプロピルエーテルから再結晶させると、融点124
〜125℃の21−アセトキシ−15α、16α−メチ
レン−4−プレグネン−3,2o−ジオン2フ5ダが得
られた。
9.5℃の3β−ヒドロキシ−21−7セトキシー15
α、16α−メチレン−5−プレグネン−20−オン1
.81が得られるOg) 5β−ヒrロキシー21−
アセトキシ−15α、16α−メチレン−5−プレグネ
ン−20−オン500II9にドルオール25−及びシ
クロヘキサノン1d中で、ドルオール2sl中のアルミ
ニウムイソゾロビレ−xootuoの溶液を加え、45
分間徐々にaJ−3!i−シながら加熱する・次Aでエ
ーテルで稀釈し、稀硫酸及び水で洗浄する。乾燥及び環
発嚢縮の後間シリカrルのクロマトグラフィにかけ、ジ
イソプロピルエーテルから再結晶させると、融点124
〜125℃の21−アセトキシ−15α、16α−メチ
レン−4−プレグネン−3,2o−ジオン2フ5ダが得
られた。
$111 (参考例)
内容201を有するガラス、11!51酵摺に、グルコ
ース(デンプン棚) 4.4%、麦芽エキス1%、Na
NO30,3%、KHaPO,Q、1%、KCl O,
05%、Mg8040.05%、pes040.002
%及びコーンステイープリカー0.5%′Ik含む栄養
液151を装入し、120℃忙半時間加熱すること忙よ
シ滅菌し、冷却後に、タルデラリア°ルナタ(Curv
ularia 1unata ) NRRL 2580
の3日扇動フラスコ培養液を接種する(振動フラスコ培
養液は同じ培地250 mlに7日傾斜培養物の洗液を
接種して製造)。30℃で攪拌(22α回/m1n)及
び通気(151/m1n)下に48時間醗酵の後に、得
られ次項養液900ynlを無菌条件下に取シ出し、同
じ培地14ノを有する同じ醗酵慴中〈移す。12時間後
に、21−アセトヤシ−15α、16α−メチレン−4
−プレグネン−5,20−’)オン511(ゾメチルホ
ルムアミド100mj中に溶解)を加え、28時間醗酵
させる。例3の記載と同様に操作すると粗生成物2.7
1が得られるから、これをシリカゾルのカラムグロマト
グラフイによフ分雛し、11β、21−ジヒドロキシ−
15α、16α−メチレン−4−プレグネン−6,20
−ゾオンが得られる。
ース(デンプン棚) 4.4%、麦芽エキス1%、Na
NO30,3%、KHaPO,Q、1%、KCl O,
05%、Mg8040.05%、pes040.002
%及びコーンステイープリカー0.5%′Ik含む栄養
液151を装入し、120℃忙半時間加熱すること忙よ
シ滅菌し、冷却後に、タルデラリア°ルナタ(Curv
ularia 1unata ) NRRL 2580
の3日扇動フラスコ培養液を接種する(振動フラスコ培
養液は同じ培地250 mlに7日傾斜培養物の洗液を
接種して製造)。30℃で攪拌(22α回/m1n)及
び通気(151/m1n)下に48時間醗酵の後に、得
られ次項養液900ynlを無菌条件下に取シ出し、同
じ培地14ノを有する同じ醗酵慴中〈移す。12時間後
に、21−アセトヤシ−15α、16α−メチレン−4
−プレグネン−5,20−’)オン511(ゾメチルホ
ルムアミド100mj中に溶解)を加え、28時間醗酵
させる。例3の記載と同様に操作すると粗生成物2.7
1が得られるから、これをシリカゾルのカラムグロマト
グラフイによフ分雛し、11β、21−ジヒドロキシ−
15α、16α−メチレン−4−プレグネン−6,20
−ゾオンが得られる。
例12
例4の条件下で、21−エーシンマイヤーフラスコ2個
中で、11β、21−ジヒドロ中ソ−15α、16α−
メチレン−4−プレグネン−5,20−ジオン20 Q
rR9をバシルス・シンy ス(Bacillus 1
entus ) ATCC15805を用4て脱水素し
て、11β、21−ジヒドロ中シー15α、16α−メ
チVン−1,4−プレグナシエン−3,20−ジオンに
する。
中で、11β、21−ジヒドロ中ソ−15α、16α−
メチレン−4−プレグネン−5,20−ジオン20 Q
rR9をバシルス・シンy ス(Bacillus 1
entus ) ATCC15805を用4て脱水素し
て、11β、21−ジヒドロ中シー15α、16α−メ
チVン−1,4−プレグナシエン−3,20−ジオンに
する。
91J 15 (膠、f91)
a)−40℃に冷却したジメチルホルムアミド2.5−
に、液体外ロガ禦2.5 m/を加え、その後、N−ゾ
ロムスクシンイミド2509を加え、次いで、塩化メチ
レン5d中に躊かした5β−ヒドロキシ−21−7セト
キシー15α、16α−メチレン−5−プレグネン−2
0−オン500119を導入する。久いで、−15’C
で5分子”lJ攪拌し、飽和@酸水素ナトリウム溶液中
に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。乾燥及び環発S縮の
後Ic粗#!6ノーフルオルー5−ブロム−6β−ヒド
ロキシ−21−アセトキシ−15(f、16α−メチレ
ン−5α−プレグナン−20−オン700In9が得ら
れる。
に、液体外ロガ禦2.5 m/を加え、その後、N−ゾ
ロムスクシンイミド2509を加え、次いで、塩化メチ
レン5d中に躊かした5β−ヒドロキシ−21−7セト
キシー15α、16α−メチレン−5−プレグネン−2
0−オン500119を導入する。久いで、−15’C
で5分子”lJ攪拌し、飽和@酸水素ナトリウム溶液中
に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。乾燥及び環発S縮の
後Ic粗#!6ノーフルオルー5−ブロム−6β−ヒド
ロキシ−21−アセトキシ−15(f、16α−メチレ
ン−5α−プレグナン−20−オン700In9が得ら
れる。
b)6β−フルオル−5−ブロム−3β−ヒドロキシー
21−アセトキシ−15α、16α−メチレン−5α−
プレグナン−20−オン7001vにアセトン15−中
で、クロムt!l酸(クロム11267 g、水400
ml、 a硫a 250 rnlk充填して1iとし
て蜆造)0.55mA!を加え、室温で10分攪拌する
。次^で、氷水中に攪拌導入し、沈殿をは別し、塩化メ
チレン中に入れ、乾燥させる。漂−9Al[1iffの
漫lで、粗選6β−フルオルー5−プロニー21−アセ
トキシ−15α。
21−アセトキシ−15α、16α−メチレン−5α−
プレグナン−20−オン7001vにアセトン15−中
で、クロムt!l酸(クロム11267 g、水400
ml、 a硫a 250 rnlk充填して1iとし
て蜆造)0.55mA!を加え、室温で10分攪拌する
。次^で、氷水中に攪拌導入し、沈殿をは別し、塩化メ
チレン中に入れ、乾燥させる。漂−9Al[1iffの
漫lで、粗選6β−フルオルー5−プロニー21−アセ
トキシ−15α。
16α−メチレン−5α−プレグネン−3,2〇−ジオ
ン700ダが得られろ。
ン700ダが得られろ。
C) 6β−フルオル−5−ブロム−21−アセトキ
シ−15α、16α−メチレン−5α−プレグナン−5
,20−ジオン700ダを酢酸15−中、50℃で3時
間攪拌し、次^で、結晶酢酸ナトリウム500ダを加え
、更VC50℃で10分間攪拌する。引続き氷水中に攪
拌導入し、生じる沈殿を濾取し、水で洗浄しかつ塩化メ
チレン中に入れる。乾燥及び蒸発aIlaの後に、残分
をシリカデルのクロマトグラフィくかけ、ゾイソデロビ
ルエーテルから再結晶させると、融点155.5〜15
7.5℃の6α−フルオル−21−アセトキシ−15α
、16α−メチレン−4−プレグネン−3,20−ジオ
ン150ダが得られる。
シ−15α、16α−メチレン−5α−プレグナン−5
,20−ジオン700ダを酢酸15−中、50℃で3時
間攪拌し、次^で、結晶酢酸ナトリウム500ダを加え
、更VC50℃で10分間攪拌する。引続き氷水中に攪
拌導入し、生じる沈殿を濾取し、水で洗浄しかつ塩化メ
チレン中に入れる。乾燥及び蒸発aIlaの後に、残分
をシリカデルのクロマトグラフィくかけ、ゾイソデロビ
ルエーテルから再結晶させると、融点155.5〜15
7.5℃の6α−フルオル−21−アセトキシ−15α
、16α−メチレン−4−プレグネン−3,20−ジオ
ン150ダが得られる。
例14
例11記載の条件下で6α−フルオル−21−アセトキ
シ−15α、16α−メチレン−4−プレグネン−5,
20−ジオン5g【クルブラリア・ルナタNRRL 2
580を用いて醗酵させ、後処理する。粗生成物2.4
g七カラムクロマトグラフィにより分離すると、6α−
フルオル−11β、21−ジヒドロキシ−15α。
シ−15α、16α−メチレン−4−プレグネン−5,
20−ジオン5g【クルブラリア・ルナタNRRL 2
580を用いて醗酵させ、後処理する。粗生成物2.4
g七カラムクロマトグラフィにより分離すると、6α−
フルオル−11β、21−ジヒドロキシ−15α。
16α−メチレン−4−プレグネン−6,20−ジオン
が得られる・ 例15 914記載と同じ条件下で、2ノ−エーシンマイヤーフ
ラスコ2111A中で、6α−フルオル−11β、21
−ジヒドロキシ−15α、16α−メチレン−4−プレ
グネン−5,20−ジオン200119 ftハX7
k X ・l/ 77 スATCC15805を用いて
脱水素して、6α−2ルオル−11β、21−ジにドロ
キシ−15α、16α−メチレン−1,4−プレグナジ
ェン−3,20−ジオンとする。
が得られる・ 例15 914記載と同じ条件下で、2ノ−エーシンマイヤーフ
ラスコ2111A中で、6α−フルオル−11β、21
−ジヒドロキシ−15α、16α−メチレン−4−プレ
グネン−5,20−ジオン200119 ftハX7
k X ・l/ 77 スATCC15805を用いて
脱水素して、6α−2ルオル−11β、21−ジにドロ
キシ−15α、16α−メチレン−1,4−プレグナジ
ェン−3,20−ジオンとする。
例16(参考例)
a)17−ヒドロキシ−11β−トリメチルシリロキシ
−15α、16α−メチレン−1,4−プレグナシエン
−5,2O−9yF15DOIn9を無水酢#lS Q
rttl中で炭酸カルシウム6001119と共(14
0℃で40時間攪拌する。炭酸カルシウムを濾去し、濾
液を氷水9釦攪拌導入し、生じる沈殿を吸引し、水で洗
浄し、乾燥させる。
−15α、16α−メチレン−1,4−プレグナシエン
−5,2O−9yF15DOIn9を無水酢#lS Q
rttl中で炭酸カルシウム6001119と共(14
0℃で40時間攪拌する。炭酸カルシウムを濾去し、濾
液を氷水9釦攪拌導入し、生じる沈殿を吸引し、水で洗
浄し、乾燥させる。
粗製17−アセドギシー11β−トリメチルシリΩキシ
−15α、16α−メチレン−1,4−ブレブナジエン
−3,20−ジオン600〜が得られる。
−15α、16α−メチレン−1,4−ブレブナジエン
−3,20−ジオン600〜が得られる。
b)粗製17−アセトキシ−11β−トリメチルシリロ
キシ−15α、16α−メチレン−1,4−プレグナシ
エン−3,20−ジオ7600〜をメタノール150プ
中で、稀塩、1!!(1+1)0.6mlと共に至温で
1.5時間攪拌する。次いで911e)の記載と同様に
後処理し、残分をシリカゾルのクロマトグラフィにかけ
る。11β−ヒドロキシ−17−アセトキシ−15α、
16α−メチレン−1,4−プレグナシエン−3゜20
−ジオン2401vが得られる。
キシ−15α、16α−メチレン−1,4−プレグナシ
エン−3,20−ジオ7600〜をメタノール150プ
中で、稀塩、1!!(1+1)0.6mlと共に至温で
1.5時間攪拌する。次いで911e)の記載と同様に
後処理し、残分をシリカゾルのクロマトグラフィにかけ
る。11β−ヒドロキシ−17−アセトキシ−15α、
16α−メチレン−1,4−プレグナシエン−3゜20
−ジオン2401vが得られる。
例17(参考例)
11β、17.21−)ジヒドロキシ−15α、16α
−メチレン−4−プレグネン−5゜20−ジオン200
ダを゛ビリシン1−中無水酢酸0.51と共(室はで1
8時間放置する。次いで氷水中(攪拌導入し、生じる沈
W!を1111し一洗浄しかつ乾燥させる。11β、1
7−ゾヒド日キシー21−アセトキシ−15α、16α
−メチレン−4−プレグネン−120−&オン210〜
が得られる。
−メチレン−4−プレグネン−5゜20−ジオン200
ダを゛ビリシン1−中無水酢酸0.51と共(室はで1
8時間放置する。次いで氷水中(攪拌導入し、生じる沈
W!を1111し一洗浄しかつ乾燥させる。11β、1
7−ゾヒド日キシー21−アセトキシ−15α、16α
−メチレン−4−プレグネン−120−&オン210〜
が得られる。
的18(参考例)
11β、17.21−トリヒドロキシ−15α、16α
−メチレン−4−プレグネン−5゜20−ジオン100
1119をビリシン1−中、無水酪酸0.5dと共に置
皿で18時間放置する。次りで、氷水中に撹拌導入し、
析出油分をデカンテーション分離し、次いで、これを塩
化メチレン中く入れる。調裂用グロマトグラフイの後に
、11β、17−ジヒドロキシ−21−ブチリルオキシ
−15α、16α−メチレン−4−プレグネン−5,2
0−ジオン115〜が得られる。
−メチレン−4−プレグネン−5゜20−ジオン100
1119をビリシン1−中、無水酪酸0.5dと共に置
皿で18時間放置する。次りで、氷水中に撹拌導入し、
析出油分をデカンテーション分離し、次いで、これを塩
化メチレン中く入れる。調裂用グロマトグラフイの後に
、11β、17−ジヒドロキシ−21−ブチリルオキシ
−15α、16α−メチレン−4−プレグネン−5,2
0−ジオン115〜が得られる。
例19
11β、17.21−トリヒドロキシ−15α、16α
−メチレン−1,4−プレグナシエン−6,20−ジオ
ン250R9をピリシン1.5d中、無水カプロンd0
.75−と共に放置する。
−メチレン−1,4−プレグナシエン−6,20−ジオ
ン250R9をピリシン1.5d中、無水カプロンd0
.75−と共に放置する。
次^でpH8の記載七同罎に後処理し、nI製する。1
1β、17−シヒドロキシー21−ヘキテノイルオキシ
−15α、16α−メチレン−1,4−デレグナゾヱン
ー3,20−ゾオン210リ−6よ得られる。
1β、17−シヒドロキシー21−ヘキテノイルオキシ
−15α、16α−メチレン−1,4−デレグナゾヱン
ー3,20−ゾオン210リ−6よ得られる。
同20(参考例)
11β、21−ジヒドロキシ−15α、16α−メチレ
ン−4−プレグネン−5,20−ジオン250〜にピリ
ジン1.54中、無水エナント酸0.75t/l−加え
、室温で18時間放置する。
ン−4−プレグネン−5,20−ジオン250〜にピリ
ジン1.54中、無水エナント酸0.75t/l−加え
、室温で18時間放置する。
欠−で、fpfJ18の記載と同様(反応させ、後処理
する。11β−ヒドロキシ−21−へデタノイルオキン
−15α、16α−メチレン−4−プレグネン−3,2
0−ジオン170I19が得られるO 列21 11β−21−ゾヒげクキシー15α、16α−メチレ
ン−1,4−プレグナジェン−6゜20−ジオン180
ダを岡17の記載と同様にビリシン中で無水酢酸と反応
させ、後処理する011β−ヒドロキシ−21−アセト
キシ−15α、16α−メチレン−1、4−1’レグナ
シエン−3,20−ジオン145II9が得られる・例
22(参考例) 6α−フルオル−11β、21−ジヒドロキシ−15α
、1フα−メチレン−4−プレグネン−5,20−ジオ
ン2001+11iPにピリシン2 at中でピパリン
酸りロリF O,251を加え、5℃で18時間放置す
る。例18の記載と同様(反応させ、後処理する。6α
−フルオル−11β−ヒドロキシ−21−トリメチルア
セトキシ−15α、16α−メチレン−4−プレグネン
−6,20−ジオン130III9が得られる。
する。11β−ヒドロキシ−21−へデタノイルオキン
−15α、16α−メチレン−4−プレグネン−3,2
0−ジオン170I19が得られるO 列21 11β−21−ゾヒげクキシー15α、16α−メチレ
ン−1,4−プレグナジェン−6゜20−ジオン180
ダを岡17の記載と同様にビリシン中で無水酢酸と反応
させ、後処理する011β−ヒドロキシ−21−アセト
キシ−15α、16α−メチレン−1、4−1’レグナ
シエン−3,20−ジオン145II9が得られる・例
22(参考例) 6α−フルオル−11β、21−ジヒドロキシ−15α
、1フα−メチレン−4−プレグネン−5,20−ジオ
ン2001+11iPにピリシン2 at中でピパリン
酸りロリF O,251を加え、5℃で18時間放置す
る。例18の記載と同様(反応させ、後処理する。6α
−フルオル−11β−ヒドロキシ−21−トリメチルア
セトキシ−15α、16α−メチレン−4−プレグネン
−6,20−ジオン130III9が得られる。
例23
6α−フルオル−11β、21−ジヒドロキシ−15α
、16α−メチレン−1,4−プレグナシエン−5,2
0−ジオン200rn9を例18の記載と同様にビ替ジ
ン中の無水tfltdR(!−反応さt1後処’jMf
b、6α−フルオル−11β−ヒドロキシ−21−ブチ
リールオキシ−15α、16α−メチレン−1,4−プ
レグナジェン−3,20−ジオン150〜が得られる。
、16α−メチレン−1,4−プレグナシエン−5,2
0−ジオン200rn9を例18の記載と同様にビ替ジ
ン中の無水tfltdR(!−反応さt1後処’jMf
b、6α−フルオル−11β−ヒドロキシ−21−ブチ
リールオキシ−15α、16α−メチレン−1,4−プ
レグナジェン−3,20−ジオン150〜が得られる。
例24
無水ビリシン40プを一15℃に冷却し、攪拌下に、新
しく蒸溜した二酸化硫It 2−59 mlを滴加して
、内温を一5℃よシ高くさせない@この溶液に6α−フ
ルオル−11β、21−ジヒドロキシ−15α、16α
−メチレン−1,4−プレフナジエン−3,20−ジオ
ン2OJl入れ、これをビリシン10mで後洗する。反
応混合物を室弓で50分攪拌し、1NV1性ソーダ70
.5mでpH8,5に調節する。ピリシン除去のために
、塩化メチレンで抽出する。水相の5値を1N苛性ソー
ダで8VC調節し、この溶液を真空中、浴@40℃で蒸
発濃縮する。残分をメタノール500d中VC#Iかし
、硫酸ナトリウムを濾去し、flI液を真空中で蒸発濃
縮しかつ乾燥させる。ナトリウム−(6α−フルオル−
11β−ヒドロキシ−6,20−ジオキソ−15α。
しく蒸溜した二酸化硫It 2−59 mlを滴加して
、内温を一5℃よシ高くさせない@この溶液に6α−フ
ルオル−11β、21−ジヒドロキシ−15α、16α
−メチレン−1,4−プレフナジエン−3,20−ジオ
ン2OJl入れ、これをビリシン10mで後洗する。反
応混合物を室弓で50分攪拌し、1NV1性ソーダ70
.5mでpH8,5に調節する。ピリシン除去のために
、塩化メチレンで抽出する。水相の5値を1N苛性ソー
ダで8VC調節し、この溶液を真空中、浴@40℃で蒸
発濃縮する。残分をメタノール500d中VC#Iかし
、硫酸ナトリウムを濾去し、flI液を真空中で蒸発濃
縮しかつ乾燥させる。ナトリウム−(6α−フルオル−
11β−ヒドロキシ−6,20−ジオキソ−15α。
16α−メチレン−1,4−プレグナシエン−21−イ
ル)−スルフェートが得られる・例25 ピリシン200d中の6α−フルオル−11β、21−
ゾヒrロキシー15α、16α−メチレン−1,4−プ
レグナシエン−5,20−ジオン20gの溶液に冷却及
び攪拌下にメタンスルホン酸りロリ#920mを滴加す
る。30分の反応時間の後く、反応溶液を氷水中に注ぎ
、入れ、生じる21−メシレートを濾覗する、こプして
得た6α−フルオル−11β−ヒドロキシ−21−メシ
ルオキシ−15α、16α−メチレン−1,4−プレグ
ナシエン−3,20−ゾyry15.4!/にアセト1
500a/中Vc[カl、、アセトン400m中の沃化
ナトリウム15.41iの麻調の後に加熱沸騰させる、
残分を稀チオ硫酸ナトリウム溶液と共に攪拌し、吸引し
、水で洗浄し、アセトン300d中に溶かし、温時、水
120alを用いて沈殿させる。冷却後に、分解点15
7〜160℃の6α−フルオル−21−ヨード−11β
−ヒドロキシ−15α、16α−メチレン−1,4−プ
レグナシエン−6゜20−ジオン14.1.9を単種さ
せる。21−ヨード化合物14.1.9をアセトニトリ
ル700m中4C#lかし、オルト燐酸14.1m&び
トリエチルアミン42mと共にl!流下に3時間加熱す
る@引続き、反応溶液を減圧下に濃縮し、残分をメタノ
ール中に入れ、この溶液を1N苛性ソーダメタノール液
で−11にm節する。残分を濾去し、濾液を真空中で蒸
発濃縮し、残分をメタノール70d中に入れ、エーテル
の添加にょ夛シナトリウム塩を沈殿させる。シナトリウ
ム塩をエーテル含有メタノールから再沈殿させることに
よ5精製する。シナトリウム−(6α−フルオル−11
β−ヒドロキシ−5,20−ジオキソ−15α、16α
−メチレン−1,4−プレグナシエン−21−イル)−
ホスフェ−N1.91が得られる。
ル)−スルフェートが得られる・例25 ピリシン200d中の6α−フルオル−11β、21−
ゾヒrロキシー15α、16α−メチレン−1,4−プ
レグナシエン−5,20−ジオン20gの溶液に冷却及
び攪拌下にメタンスルホン酸りロリ#920mを滴加す
る。30分の反応時間の後く、反応溶液を氷水中に注ぎ
、入れ、生じる21−メシレートを濾覗する、こプして
得た6α−フルオル−11β−ヒドロキシ−21−メシ
ルオキシ−15α、16α−メチレン−1,4−プレグ
ナシエン−3,20−ゾyry15.4!/にアセト1
500a/中Vc[カl、、アセトン400m中の沃化
ナトリウム15.41iの麻調の後に加熱沸騰させる、
残分を稀チオ硫酸ナトリウム溶液と共に攪拌し、吸引し
、水で洗浄し、アセトン300d中に溶かし、温時、水
120alを用いて沈殿させる。冷却後に、分解点15
7〜160℃の6α−フルオル−21−ヨード−11β
−ヒドロキシ−15α、16α−メチレン−1,4−プ
レグナシエン−6゜20−ジオン14.1.9を単種さ
せる。21−ヨード化合物14.1.9をアセトニトリ
ル700m中4C#lかし、オルト燐酸14.1m&び
トリエチルアミン42mと共にl!流下に3時間加熱す
る@引続き、反応溶液を減圧下に濃縮し、残分をメタノ
ール中に入れ、この溶液を1N苛性ソーダメタノール液
で−11にm節する。残分を濾去し、濾液を真空中で蒸
発濃縮し、残分をメタノール70d中に入れ、エーテル
の添加にょ夛シナトリウム塩を沈殿させる。シナトリウ
ム塩をエーテル含有メタノールから再沈殿させることに
よ5精製する。シナトリウム−(6α−フルオル−11
β−ヒドロキシ−5,20−ジオキソ−15α、16α
−メチレン−1,4−プレグナシエン−21−イル)−
ホスフェ−N1.91が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中Xは水素原子、弗素原子又はメチル基を表わし、
Yはヒドロキシメチレン基、アルカノイルオキシメチレ
ン基又はカルボニル基を表わし、R_1は、水素原子、
ヒドロキシ基又はアルカノイルオキシ基を表わし、R_
2は水素原子、又は遊離の又は生理学的に認容性の酸で
エステル化されたヒドロキシ基を表わす〕のメチレンス
テロイドを製造するため、一般式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中X、R_1及びR_2は前記と同じものを表わす
〕の化合物を11−ヒドロキシル化しうるアスペルギル
ス、ペリクラリア又はクルブラリア属の微生物の培養液
を用いて醗酵させ、付加的にバシルス又はコリネバクテ
リウム属の微生物を用いて1,2−位で脱水素化するこ
とを特徴とする、新規メチレンステロイドの製法。 2、一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中Xは水素原子、弗素原子又はメチル基を表わし、
Yはヒドロキシメチレン基を表わし、R_1は、水素原
子、ヒドロキシ基又はアルカノイルオキシ基を表わし、
R_2は生理学的に認容性の酸でエステル化されたヒド
ロキシ基を表わす〕のメチレンステロイドを製造するた
め、一般式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中X、R_1は前記と同じものを表わす〕の化合物
を11−ヒドロキシル化しうるアスペルギルス、ペリク
ラリア又はクルブラクア属の微生物の培養液を用いて醗
酵させ、付加的にバシルス又はコリネバクテリウム属の
微生物を用いて1,2−位で脱水素化し、更に付加的に
21−ヒドロキ基をエステル化することを特徴とする、
新規メチレンステロイドの製法。
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