JPH033679B2

JPH033679B2 -

Info

Publication number: JPH033679B2
Application number: JP57142213A
Authority: JP
Inventors: Anen Kurausu; Raurento Henrii; Hoofumaisutaa Herumuuto; Uiihieruto Rudorufu; Uento Hansu
Original assignee: Schering AG
Current assignee: Bayer Pharma AG
Priority date: 1981-08-18
Filing date: 1982-08-18
Publication date: 1991-01-21
Also published as: EP0072546A1; JPS5874699A; DE3133082A1; ATE16010T1; DE3266845D1; US4435390A; EP0072546B1

Description

【発明の詳細な説明】本発明は一般式〔式中、〓は単結合又は二重結合を表わし、ｎは
数１又は２を表わし、R₁は水素原子又はメチル
基を表わし、R₂は炭素原子数１〜６のアルキル
基を表わし、R₃は水素原子又は炭素原子数２〜
６の１−オキソアルキル基を表わす〕のヒドロコ
ーチゾン誘導体及びその製法に関する。

一般式の新規ヒドロコーチゾン誘導体は炭素
原子数２〜６の１−オキソアルキル基R₃として
例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル
基、イソブチリル基、バレリル基、３−メチルブ
チリル基、トリメチルアセチル基又はヘキサノイ
ル基を有していてよい。

アルキル基R₂として、一般式のヒドロコー
チゾン誘導体は例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチ
ル基、tert−ブチル基又はペンチル基を有する。

特許請求の範囲第１項に記載されたヒドロコー
チゾン誘導体は強力な消炎作用を有する。

全身投与においては、これらのヒドロコーチゾ
ンの誘導体は比較的弱い作用を示す。

従つて、特許請求の範囲第１項による一般式
の新規ヒドロコーチゾン誘導体はガーレン式製剤
において常用の担体と組み合わせて接触性皮膚
炎、種々の湿疹、皮膚神経症、紅皮症、火傷、外
陰及び肛門痒症、酒〓鼻、皮膚紅斑性狼瘡、乾
癬、扁平及び疣状紅色苔癬、及び類似の皮膚疾患
の局所治療に好適である。

医薬調剤の製造は常法で、すなわち作用物質を
好適な添加物と共に所望の適用剤形、例えば；溶
液、ローシヨン、軟膏、クリーム又は硬膏とする
ことにより行なわれる。そのように成形された薬
剤において、作用物質濃度は適用剤形により決ま
る。ローシヨン及び軟膏においては作用物質濃度
0.001％〜１％を有利に使用する。

更に、新規化合物は場合により常用の担体及び
助剤と組み合わせて吸入剤を製造するためにも好
適であり、この吸入剤は気管のアレルギー性疾
患、例えば気管支喘息又は鼻炎の治療に使用する
ことができる。

更に新規コルチコイドを有利に作用物質10〜
200mgを含有するカプセル、錠剤又は糖衣丸の形
で経口適用することも好適であるし、有利に投与
単位あたり作用物質100〜500mgを含有する懸濁液
の形で直腸投与することも好適である。腸管のア
レルギー性疾患、例えば潰瘍性結腸炎及び肉芽腫
性結腸炎の治療のためにも好適である。

新規ヒドロコーチゾン誘導体は一般式〔式中、〓、R₁及びR₂は前記のものを表わす〕
のヒドロコーチゾン−21−アシレートを相応する
17−アシレートに変換し、場合により21位をエス
テル化し、所望の場合は一般式のΔ^1,4−ステロ
イドに水素添加し、Δ⁴−ステロイドとすること
により製造することができ、これらは西ドイツ国
特許出願第2645104号、同第2645105号及び同第
2340591号明細書に記載されている条件下に実施
される。

次に、実施例につき本発明による方法を詳細に
説明する。

例１ (a) ピリジン150mlの11β，17，21−トリヒドロ
キシ−４−プレグネン−３，20−ジオン15.0ｇ
を０℃でメトキシ酢酸クロリド９mlと共に３時
間撹拌する。引き続き、氷水−塩化ナトリウム
溶液上に注ぎ、沈殿物を濾別し、シリカゲル
1.1Kg上で塩化メチレン／アセトン傾斜溶液
（０〜20％アセトン）で精製する。収量：11β，
17−ジヒドロキシ−21−メトキシアセトキシ−
４−プレグネン−３，20−ジオン15.2ｇ。融
点：232℃。

(b) エーテル中のメチルリチウム５％溶液をアル
ゴン20ml下に０℃で無水テトラヒドロフラン64
ml中の沃化銅（）3.2ｇの懸濁液に滴加する。
この黄色溶液を−30℃に冷却し、無水テトラヒ
ドロフラン100ml中の11β，17−ジヒドロキシ
−21−メトキシアセトキシ−４−プレグネン−
３，20−ジオン2.9ｇの溶液を加える。更に、−
30℃で20分間撹拌し、塩化アンモニウム水溶液
に加える。塩化メチレンで抽出した後、有機溶
液を洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、真
空中で濃縮する。粗生成物をシリカゲル220ｇ
上で塩化メチレン／アセトン−傾斜溶液（０〜
25％アセトン）で精製する。11β，21−ジヒド
ロキシ−17−メトキシアセトキシ−４−プレグ
ネン−３，20−ジオン1.4ｇが単離される。融
点185℃ 例２ (a) 例1aと同様にしてピリジン100ml中の11β，
17，21−トリヒドロキシ−４−プレグネン−
３，20−ジオン10.0ｇをエトキシ酢酸クロリド
６mlと反応させ、処理し、精製する。収量：21
−エトキシアセトキシ−11β，17−ジヒドロキ
シ−４−プレグネン−３，20−ジオン10.3ｇ。
融点：203℃。

(b) 例1bの条件下に21−エトキシアセトキシ−
11β，17−ジヒドロキシ−４−プレグネン−
３，20−ジオン10.0ｇをジメチル銅酸リチウム
（Lithiumdimethylcuprat）で転位させ、処理
する。粗生成物をシリカゲル700ｇ上でヘキサ
ン／酢酸エステル−傾斜溶液（０〜100％酢酸
エステル）で精製する。17−エトキシアセトキ
シ−11β，21−ジヒドロキシ−４−プレグネン
−３，20−ジオン4.1ｇが得られる。融点161
℃。

例３ (a) 例1aに記載したように、ピリジン200ml中の
11β，17，21−トリヒドロキシ−４−プレグネ
ン−３，20−ジオン20.0ｇを３−メトキシプロ
ピオン酸クロリドと反応させ、処理し、精製す
る。収率：11β，17−ジヒドロキシ−21−（３
−メトキシプロピオニルオキシ）−４−プレグ
ネン−３，20−ジオン12.8ｇ。融点188℃。

(b) 例1bと同様にして11β，17−ジヒドロキシ−
21−（３−メトキシプロピオニルオキシ）−４−
プレグネン−３，20−ジオン11.5ｇをジメチル
銅酸リチウムで転位し、処理する。シリカゲル
750ｇ上で塩化メチレン／アセトン−傾斜溶液
（０〜30％アセトン）を用いて精製すると11β，
21−ジヒドロキシ−17−（３−メトキシプロピ
オニルオキシ）−４−プレグネン−３，20−ジ
オン7.3ｇが得られる。融点172℃。

例４ (a) 例1aの条件下に11β，17，21−トリヒドロキ
シ−４−プレグネン−３，20−ジオン10.0ｇを
３−エトキシプロピオン酸クロリドと反応さ
せ、シリカゲル1.5Kg上でヘキサン／酢酸エス
テル−傾斜溶液（０〜70％酢酸エステル）を用
いてクロマトグラフイーにかける。収量：21−
（３−エトキシプロピオニルオキシ）−11β，17
−ジヒドロキシ−４−プレグネン−３，20−ジ
オン9.7ｇ。融点126℃。

(b) 例1bに記載したように21−（３−エトキシプ
ロピオニルオキシ）−11β，17−ジヒドロキシ
−４−プレグネン−３，20−ジオン9.0ｇをジ
メチル銅酸リチウムで転位し、処理し、クロマ
トグラフイーにかける。17−（３−エトキシプ
ロピオニルオキシ）−11β，21−ジヒドロキシ
−４−プレグネン−３，20−ジオン３，１ｇが
単離される。融点149℃。

例５ (a) ピリジン中の11β，17，21−トリヒドロキシ
−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン
10.0ｇの溶液を例1aと同様にしてメトキシ酢酸
クロリドと反応させ、処理し、精製する。
11β，17−ジヒドロキシ−21−メトキシアセト
キシ−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオ
ン10.3ｇが単離される。

(b) 11β，17−ジヒドロキシ−21−メトキシアセ
トキシ−１，４−プレグナジエン−３，20−ジ
オン9.0ｇを例1bと同様にしてジメチル銅酸リ
チウムを用いて転位させ、処理し、精製する。
11β，21−ジヒドロキシ−17−メトキシアセト
キシ−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオ
ン3.6ｇが得られる。

(c) 11β，21−ジヒドロキシ−17−メトキシアセ
トキシ−１，４−プレグナジエン−３，20−ジ
オン1.5ｇをピリジン15ml及び無水酢酸7.5ml中
で２時間室温で撹拌する。引き続き、氷水−塩
化ナトリウム溶液上に注ぎ、沈殿を濾別し、粗
生成物をシリカゲル100ｇ上で塩化メチレン／
アセトン−傾斜溶液（０〜20％アセトン）を用
いて精製する。収量：21−アセトキシ−11β−
ヒドロキシ−17−メトキシアセトキシ−１，４
−プレグナジエン−３，20−ジオン1.2ｇ。

例６ (a) 11β，17，21−トリヒドロキシ−１，４−プ
レグナジエン−３，20−ジオン10.0ｇを例2aと
同様にしてエトキシ酢酸クロリドと反応させ、
処理し、精製する。21−エトキシアセトキシ−
11β，17−ジヒドロキシ−１，４−プレグナジ
エン−３，20−ジオン10.4ｇを単離する。

(b) 例2bと同様にして、21−エトキシアセトキ
シ−11β，17−ジヒドロキシ−１，４−プレグ
ナジエン−３，20−ジオン6.0ｇをジメチル銅
酸リチウムで転位し、処理し、精製する。収
量：17−エトキシアセトキシ−11β，21−ジヒ
ドロキシ−１，４−プレグナジエン−３，20−
ジオン2.5ｇ。

例７ (a) 例3aの条件下に11β，17，21−トリヒドロキ
シ−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン
10.0ｇと３−メトキシプロピオン酸クロリドと
を反応させ、処理し、精製する。11β，17−ジ
ヒドロキシ−21−（３−メトキシプロピオニル
オキシ）−１，４−プレグナジエン−３，20−
ジオン7.3ｇが単離される。

(b) 例1bと同様にして11β，17−ジヒドロキシ−
21−（３−メトキシプロピオニルオキシ）−１，
４−プレグナジエン−３，20−ジオン7.0ｇを
リチウムジメチルクプレートで転位させ、処理
し、精製する。収量：11β，21−ジヒドロキシ
−17−（３−メトキシプロピオニルオキシ）−
１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン3.9
ｇ。

(c) 例5cに記載されていると同様にして、11β，
21−ジヒドロキシ−17−（３−メトキシプロピ
オニルオキシ）−１，４−プレグナジエン−３，
20−ジオン1.0ｇと無水酢酸とを室温で反応さ
せ、処理し、精製する。21−アセトキシ−11β
−ヒドロキシ−17−（３−メトキシプロピオニ
ルオキシ）−１，４−プレグナジエン−３，20
−ジオン810mgが単離される。

例８ (a) 11β，17，21−トリヒドロキシ−6α−メチル
−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン
15.0ｇを例1aと同様にしてメトキシ酢酸クロリ
ドと反応させ、処理し、精製する。収量：
11β，17−ジヒドロキシ−21−メトキシアセト
キシ−6α−メチル−１，４−プレグナジエン
−３，20−ジオン15.4ｇ。融点219℃。

(b) 例1bの条件下に11β，17−ジヒドロキシ−21
−メトキシアセトキシ−6α−メチル−１，４
−プレグナジエン−３，20−ジオン15.0ｇをジ
メチル銅酸リチウムで転位し、処理する。粗生
成物をシリカゲル400ｇ上ヘキサン／アセトン
−傾斜溶液（０〜50％アセトン）で精製する。
収量：11β，21−ジヒドロキシ−17−メトキシ
アセトキシ−6α−メチル−１，４−プレグナ
ジエン−３，20−ジオン9.3ｇ。融点202℃。

例９ 11β，21−ジヒドロキシ−17−メトキシアセト
キシ−6α−メチル−１，４−プレグナジエン−
３，20−ジオン2.0ｇを例5cの条件下に無水酢酸
と反応させ、処理し、精製する。収量：21−アセ
トキシ−11β−ヒドロキシ−17−メトキシアセト
キシ−6α−メチル−１，４−プレグナジエン−
３，20−ジオン。融点151℃。

例 10 (a) 例2aに記載したと同様にして、11β，17，21
−トリヒドロキシ−6α−メチル−１，４−プ
レグナジエン−３，20−ジオン15.0ｇをエトキ
シ酢酸クロリドと反応させ、処理し、精製す
る。21−エトキシアセトキシ−11β，17−ジヒ
ドロキシ−6α−メチル−１，４−プレグナジ
エン−３，20−ジオン15.6ｇを単離する。融点
229℃。

(b) 21−エトキシアセトキシ−11β，17−ジヒド
ロキシ−6α−メチル−１，４−プレグナジエ
ン−３，20−ジオン15.0ｇを例2bの条件下にジ
メチル銅酸リチウムで転位し処理し、精製す
る。収量：17−エトキシアセトキシ−11β，21
−ジヒドロキシ−6α−メチル−１，４−プレ
グナジエン−３，20−ジオン8.3ｇ。融点198
℃。

例 11 17−エトキシアセトキシ−11β，21−ジヒドロ
キシ−6α−メチル−１，４−プレグナジエン−
３，20−ジオン2.0ｇを例5cと同様にして無水酢
酸と反応させ、処理し、精製する。収量：21−ア
セトキシ−17−エトキシアセトキシ−11β−ヒド
ロキシ−6α−メチル−１，４−プレグナジエン
−３，20−ジオン1.9ｇ。融点170℃。

例 12 (a) 例3aの条件下に11β，17，21−トリヒドロキ
シ−6α−メチル−１，４−プレグナジエン−
３，20−ジオン15.0ｇを３−メトキシプロピオ
ン酸クロリドと反応させ、処理し、精製する。
11β，17−ジヒドロキシ−21−（３−メトキシ
プロピオニルオキシ）−１，４−プレグナジエ
ン−３，20−ジオン14.3ｇを単離する。融点
230℃。

(b) 11β，17−ジヒドロキシ−21−（３−メトキ
シプロピオニルオキシ）−１，４−プレグナジ
エン−３，20−ジオン8.8ｇを例3bと同様にし
てジメチル銅酸リチウムで転位し、処理し、精
製する。収量：11β，21−ジヒドロキシ−17−
（３−メトキシプロピオニルオキシ）−6α−メ
チル−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオ
ン3.2ｇ。融点：151℃。

例 13 11β，21−ジヒドロキシ−17−（３−メトキシ
プロピオニルオキシ）−6α−メチル−１，４−プ
レグナジエン−３，20−ジオン2.0ｇを例5cと同
様にして無水酢酸と反応させ、処理し、精製す
る。21−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−17−
（３−メトキシプロピオニルオキシ）−6α−メチ
ル−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン
13.6ｇが単離される。融点：162℃。

例 14 (a) 例4aと同様にして、11β，17，21−トリヒド
ロキシ−6α−メチル−１，４−プレグナジエ
ン−３，20−ジオン15.0ｇと３−エトキシプロ
ピオン酸クロリドとを反応させ、処理し、精製
する。21−（３−エトキシプロピオニルオキシ）
−11β，17−ジヒドロキシ−6α−メチル−１，
４−プレグナジエン−３，20−ジオン13.6ｇが
単離される。融点：186℃。

(b) 21−（３−エトキシプロピオニルオキシ）−
11β，17−ジヒドロキシ−6α−メチル−１，４
−プレグナジエン−３，20−ジオン10.0ｇのジ
メチル銅酸リチウムを用いての転位を例4bと
同様に実施する。処理及び精製の後、17−（３
−エトキシプロピオニルオキシ）−11β，21−
ジヒドロキシ−6α−メチル−１，４−プレグ
ナジエン−３，20−ジオン4.1ｇが得られる。
融点167℃。

例 15 例5cに記載されていると同様にして17−（３−
エトキシプロピオニルオキシ）−11β，21−ジヒ
ドロキシ−6α−メチル−１，４−プレグナジエ
ン−３，20−ジオン2.0ｇと無水酢酸とを反応さ
せ、処理し、精製する。収量：21−アセトキシ−
17−（３−エトキシプロピオニルオキシ）−11β−
ヒドロキシ−6α−メチル−１，４−プレグナジ
エン−３，20−ジオン1.34ｇ。融点131℃。

例 16 例5cと同様にして、11β，21−ジヒドロキシ−
17−メトキシアセトキシ−6α−メチル−１，４
−プレグナジエン−３，20−ジオン1.0ｇとプロ
ピオン酸無水物とを室温で反応させ、処理し、精
製する。11β−ヒドロキシ−17−メトキシアセト
キシ−21−プロピオニルオキシ−6α−メチル−
１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン780mg
が単離される。

例 17 例5cの条件下に11β，21−ジヒドロキシ−17−
メトキシアセトキシ−6α−メチル−１，４−プ
レグナジエン−３，20−ジオン1.2ｇを酪酸無水
物と共に室温で反応させ、処理し、精製する。21
−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−17−メト
キシアセトキシ−6α−メチル−１，４−プレグ
ナジエン−３，20−ジオン730mgが得られる。

例 18 例5cの条件下に11β，21−ジヒドロキシ−17−
メトキシアセトキシ−6α−メチル−１，４−プ
レグナジエン−３，20−ジオン1.0ｇをイソ酪酸
無水物と反応させ、処理し、精製する。収量：
11β−ヒドロキシ−21−イソブチリルオキシ−17
−メトキシアセトキシ−6α−メチル−１，４−
プレグナジエン−３，20−ジオン590mg。

例 19 11β，21−ジヒドロキシ−17−メトキシアセト
キシ−6α−メチル−１，４−プレグナジエン−
３，20−ジオン3.0ｇをベンゾール225ml及びメタ
ノール75mlからなる混合物中でトリス（トリフエ
ニルホスフイン）ロジウム−−クロリド2.7ｇ
を用いて6.5時間室温で水素添加する。真空中で
蒸発乾涸し、粗生成物をシリカゲル350ｇ上でヘ
キサン／アセトン−傾斜溶液（０〜50％アセト
ン）で精製する。収量：11β，21−ジヒドロキシ
−17−メトキシアセトキシ−6α−メチル−４−
プレグネン−３，20−ジオン2.5ｇ。

例 20 例19と同様にして、21−アセトキシ−11β−ヒ
ドロキシ−17−メトキシアセトキシ−6α−メチ
ル−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン
1.5ｇをトリス（トリフエニルホスフイン）ロジ
ウム−−クロリド1.2ｇを用いて水素添加し、
処理し、精製する。収量：21−アセトキシ−11β
−ヒドロキシ−17−メトキシアセトキシ−6α−
メチル−４−プレグネン−３，20−ジオン1.1ｇ例 21 例19におけると同様に、17−エトキシアセトキ
シ−11β，21−ジヒドロキシ−6α−メチル−１，
４−プレグナジエン−３，20−ジオン1.0ｇをト
リス（トリフエニルホスフイン）ロジウム−−
クロリド700mgで水素添加する。処理及び精製の
後、17−エトキシアセトキシ−11β，21−ジヒド
ロキシ−6α−メチル−４−プレグネン−３，20
−ジオン790mgが単離される。

例 22 例19の条件下に21−アセトキシ−11β−ヒドロ
キシ−17−（３−メトキシプロピオニルオキシ）−
6α−メチル−１，４−プレグナジエン−３，20
−ジオン1.5ｇをトリス（トリフエニルホスフイ
ン）ロジウム−−クロリド1.2ｇで水素添加し、
処理し、精製する。収量：21−アセトキシ−11β
−ヒドロキシ−17−（３−メトキシプロピオニル
オキシ）−6α−メチル−４−プレグネン−３，20
−ジオン1.2ｇ。

例 23 (a) 例1aと同様にして11β，17，21−トリヒドロ
キシ−6α−メチル−４−プレグネン−３，20
−ジオン1.5ｇを例1aと同様にしてメトキシ酢
酸クロリドと反応させ、処理し、クロマトグラ
フイーにかける。11β，17−ジヒドロキシ−21
−メトキシアセトキシ−6α−メチル−４−プ
レグネン−３，20−ジオン1.6ｇが単離される。

(b) 例1bの条件下に11β，17−ジヒドロキシ−21
−メトキシアセトキシ−6α−メチル−４−プ
レグネン−３，20−ジオン1.5ｇをジメチル銅
酸リチウムで転位させ、処理し、精製する。収
量：11β，21−ジヒドロキシ−17−メトキシア
セトキシ−6α−メチル−４−プレグネン−３，
20−ジオン690mg。

例 24 例5cに記載されているように、11β，21−ジヒ
ドロキシ−17−メトキシアセトキシ−6α−メチ
ル−４−プレグネン−３，20−ジオン600mgを無
水酢酸と反応させ、処理し、クロマトグラフイー
にかける。21−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−
17−メトキシアセトキシ−6α−メチル−４−プ
レグネン−３，20−ジオン480mgが単離される。

Claims

【特許請求の範囲】１一般式：［式中、〓は単結合又は二重結合を表わし、ｎは
数１又は２を表わし、R₁は水素原子又はメチル
基を表わし、R₂は炭素原子数１〜６のアルキル
基を表わし、R₃は水素原子又は炭素原子数２〜
６の１−オキソアルキル基を表わす］のヒドロコ
ーチゾン誘導体。２ 17−エトキシアセトキシ−11β，21−ジヒド
ロキシ−４−プレグネン−３，20−ジオンである
特許請求の範囲第１項記載の化合物。３ 11β，21−ジヒドロキシ−17−メトキシアセ
トキシ−４−プレグネン−３，20−ジオンである
特許請求の範囲第１項記載の化合物。４ 17−（３−エトキシプロピオニルオキシ）−
11β，21−ジヒドロキシ−6α−メチル−４−プレ
グネン−３，20−ジオンである特許請求の範囲第
１項記載の化合物。５ 11β，21−ジヒドロキシ−17−（３−メトキ
シプロピオニルオキシ）−４−プレグネン−３，
20−ジオンである特許請求の範囲第１項記載の化
合物。６ 17−エトキシアセトキシ−11β，21−ジヒド
ロキシ−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオ
ンである特許請求の範囲第１項記載の化合物。７ 21−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−17−
（３−メトキシプロピオニルオキシ）−１，４−プ
レグナジエン−３，20−ジオンである特許請求の
範囲第１項記載の化合物。８ 11β，21−ジヒドロキシ−17−（３−メトキ
シプロピオニルオキシ）−6α−メチル−１，４−
プレグナジエン−３，20−ジオンである特許請求
の範囲第１項記載の化合物。９ 21−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−17−
（３−メトキシプロピオニルオキシ）−6α−メチ
ル−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオンで
ある特許請求の範囲第１項記載の化合物。１０ 21−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−17−
メトキシアセトキシ−１，４−プレグナジエン−
３，20−ジオンである特許請求の範囲第１項記載
の化合物。１１ 17−エトキシアセトキシ−11β，21−ジヒ
ドロキシ−6α−メチル−１，４−プレグナジエ
ン−３，20−ジオンである特許請求の範囲第１項
記載の化合物。１２ 17−（３−エトキシプロピニオニルオキシ）
−11β，21−ジヒドロキシ−6α−メチル−１，４
−プレグナジエン−３，20−ジオンである特許請
求の範囲第１項記載の化合物。１３ 21−アセトキシ−17−（３−エトキシプロ
ピニオニルオキシ）−11β−ヒドロキシ−6α−メ
チル−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン
である特許請求の範囲第１項記載の化合物。１４ 11β−ヒドロキシ−17−メトキシアセトキ
シ−6α−メチル−21−プロピオニルオキシ−１，
４−プレグナジエン−３，20−ジオンである特許
請求の範囲第１項記載の化合物。１５ 21−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−
17−メトキシアセトキシ−6α−メチル−１，４
−プレグナジエン−３，20−ジオンである特許請
求の範囲第１項記載の化合物。１６ 21−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−17−
メトキシメトキシ−6α−メチル−１，４−プレ
グナジエン−３，20−ジオンである特許請求の範
囲第１項記載の化合物。１７ 11β−ヒドロキシ−21−イソブチリルオキ
シ−17−メトキシアセトキシ−6α−メチル−１，
４−プレグナジエン−３，20−ジオンである特許
請求の範囲第１項記載の化合物。１８ 21−アセトキシ−17−エトキシアセトキシ
−11β−ヒドロキシ−6α−メチル−１，４−プレ
グナジエン−３，20−ジオンである特許請求の範
囲第１項記載の化合物。１９ 11β，21−ジヒドロキシ−17−メトキシア
セトキシ−6α−メチル−４−プレグネン−３，
20−ジオンである特許請求の範囲第１項記載の化
合物。２０ 17−エトキシアセトキシ−11β，21−ジヒ
ドロキシ−6α−メチル−４−プレグネン−３，
20−ジオンである特許請求の範囲第１項記載の化
合物。２１ 21−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−17−
メトキシアセトキシ−6α−メチル−４−プレグ
ネン−３，20−ジオンである特許請求の範囲第１
項記載の化合物。２２ 21−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−17−
（３−メトキシプロピオニルオキシ）−6α−メチ
ル−４−プレグネン−３，20−ジオンである特許
請求の範囲第１項記載の化合物。２３ 21−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−17−
メトキシアセトキシ−6α−メチル−４−プレグ
ネン−３，20−ジオンである特許請求の範囲第１
項記載の化合物。２４一般式：［式中、〓は単結合又は二重結合を表わし、ｎは
数１又は２を表わし、R₁は水素原子又はメチル
基を表わし、R₂は炭素原子数１〜６のアルキル
基を表わし、R₃は水素原子又は炭素原子数２〜
６の１−オキソアルキル基を表わす］のヒドロコ
ーチゾン誘導体を製造するために、一般式［式中、〓、R₁及びR₂は前記のものを表わす］
のヒドロコーチゾン−21−アシレートを相応する
17−アシレートに変換し、場合により21位をエス
テル化し、所望の場合は一般式のΔ^1,4−ステロ
イドに水素添加し、Δ⁴−ステロイドとすること
を特徴とする新規ヒドロコーチゾン誘導体の製
法。