JPS62181230A - α−フルオロスルフイドの製法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はα−位にフッ素原子を存するα−フルルオロス
ルフィドの製造に関する。α−フッ素置換スルフィドは
医薬品等の製造のための有用中間体である(、J、Fl
uorine Chem、。
ルフィドの製造に関する。α−フッ素置換スルフィドは
医薬品等の製造のための有用中間体である(、J、Fl
uorine Chem、。
22.557 (1983);J、FluorinaC
hem、 、 8. 305 (1976)
;5ynthesis、 791 (1977)
;J。
hem、 、 8. 305 (1976)
;5ynthesis、 791 (1977)
;J。
Am、 Chem、 Soc、 、 107.
735(1985) ;J、 Chem、 S
ac、 。
735(1985) ;J、 Chem、 S
ac、 。
Chem、 Commun、 、 1985.
61 8 :Tetrahedron I−ett
、、 24゜725 (1983>参照〕。
61 8 :Tetrahedron I−ett
、、 24゜725 (1983>参照〕。
従来、α−フルオロスルフィドを製造する方法としては
、fl+スルフィドを塩素化した後、クラウンニーゝン
ル(1B−クラウン−6)の存在下、アセトニトリル中
速流下100時間以上KFと反応させる方法(Synt
hesis、791(1977)参照) 、(21スル
フイドをXflF!と反応させる方法(J、Fluor
ineChem、、22.557 (1983)、J。
、fl+スルフィドを塩素化した後、クラウンニーゝン
ル(1B−クラウン−6)の存在下、アセトニトリル中
速流下100時間以上KFと反応させる方法(Synt
hesis、791(1977)参照) 、(21スル
フイドをXflF!と反応させる方法(J、Fluor
ineChem、、22.557 (1983)、J。
Fluorine Chem、、8,305(197
6)、Can、J、Chem、、55゜3031 (
197?)参照〕、(3)スルフィドを酸化してスルホ
キシドとした後(ジエチルアミノ)サルファートリフル
オリド((diethyla −mino)sulfu
r trifluoride)と反応させる方法CJ
、Am、Chem、Sac、。
6)、Can、J、Chem、、55゜3031 (
197?)参照〕、(3)スルフィドを酸化してスルホ
キシドとした後(ジエチルアミノ)サルファートリフル
オリド((diethyla −mino)sulfu
r trifluoride)と反応させる方法CJ
、Am、Chem、Sac、。
土皇工、735 (1985>参照〕がある。
しかしながら、従来法の+11は工程が第二段階(塩素
化及びフッ素交換反応)であり、又フッ素交換反応が長
時間の加熱を必要とし、更に高価なりラウンエーテルを
用いること、(2)の方法は、非常に高価な、しかも爆
発性のX e F tを用いていること、更に(3)の
方法では入手容易なスルフィドを酸化してスルホキシド
としなければならないため二段階の工程を、IJ、−要
とすること、及び用いる試剤が高価で毒性の強いもので
あり、しかも過剰量(2倍当墳)用いていることから、
いずれの方法も工業的な製法としては不満足なものであ
る。
化及びフッ素交換反応)であり、又フッ素交換反応が長
時間の加熱を必要とし、更に高価なりラウンエーテルを
用いること、(2)の方法は、非常に高価な、しかも爆
発性のX e F tを用いていること、更に(3)の
方法では入手容易なスルフィドを酸化してスルホキシド
としなければならないため二段階の工程を、IJ、−要
とすること、及び用いる試剤が高価で毒性の強いもので
あり、しかも過剰量(2倍当墳)用いていることから、
いずれの方法も工業的な製法としては不満足なものであ
る。
本発明者らは、これらの欠点を克服すべく鋭意研究を重
ねた結果、従来の反応とは全く異なる反応を見出し本発
明を完成するに至ったものである。
ねた結果、従来の反応とは全く異なる反応を見出し本発
明を完成するに至ったものである。
(式中、R1はアルキル基又はアリール基であり、R2
及びR3は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基
、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ハロ
ゲン原子、シアン基、ニトロ基、アルケニル基、アルキ
ニル基、カルバモイル基、イソンアナート基又はアミド
基であり、R1、R2及びR3は種々の組合せでヘテロ
原子を介在して又は非介在で環状構造をとってもよい、
)で表わされるスルフィドと一般式 I、1 − X (式中、R4、R6,Rh、R7及びR”は水素i子、
アルキル基、アリール基、アシル基、アシルオキシ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシ
スルホニル基、アリールオキシスルホニル基、ナルキル
スルホニルオキシ基、了り−ルスルホニルオキシ基、カ
ルバモイル基又はアミド基であり、R4、R5,Rh、
R7及びR@は種々の組合せでヘテロ原子を介在して又
は非介在で環状構造をとってもよい。X−はブレンステ
ンド酸の共役塩基である。X−はR’、R5,R6,R
7及びRsと種々の組合わせで、ヘテロ原子を介在して
又は非介在で結合していてもよい、)で表わされるN−
フルオロピリジニウム塩とを反応させることを特徴とす
る一般式(R’、R1及びR3は前記同様の意味を表わ
す、)で表わされるα−フルオロスルフィドの製法であ
る。
及びR3は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基
、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ハロ
ゲン原子、シアン基、ニトロ基、アルケニル基、アルキ
ニル基、カルバモイル基、イソンアナート基又はアミド
基であり、R1、R2及びR3は種々の組合せでヘテロ
原子を介在して又は非介在で環状構造をとってもよい、
)で表わされるスルフィドと一般式 I、1 − X (式中、R4、R6,Rh、R7及びR”は水素i子、
アルキル基、アリール基、アシル基、アシルオキシ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシ
スルホニル基、アリールオキシスルホニル基、ナルキル
スルホニルオキシ基、了り−ルスルホニルオキシ基、カ
ルバモイル基又はアミド基であり、R4、R5,Rh、
R7及びR@は種々の組合せでヘテロ原子を介在して又
は非介在で環状構造をとってもよい。X−はブレンステ
ンド酸の共役塩基である。X−はR’、R5,R6,R
7及びRsと種々の組合わせで、ヘテロ原子を介在して
又は非介在で結合していてもよい、)で表わされるN−
フルオロピリジニウム塩とを反応させることを特徴とす
る一般式(R’、R1及びR3は前記同様の意味を表わ
す、)で表わされるα−フルオロスルフィドの製法であ
る。
前記一般式(1)で表わされるスルフィドは、工業的に
人手容易な、又は容品に製造できるものであり、例えば
チオアニソール、p−クロロチオアニソール、p−メト
キシチオアリソール、0〜(メトキシカルボニル)チオ
アニソール、p−メチルチオアニソール、p−シアノチ
オアニソール、0−メチルチオアニソール、(シクロヘ
キシル)フェニルスルフィド、ジメチルスルフィド、α
−(メチルチオ)チオフェン、(α−チェニル)チオ酢
酸メチルエステル、(α−フリル)チオ酢酸エチルエス
テル、メチルチオ酢酸メチルエステル、3〜(メチルチ
オ)プロピオン酸エチルエステル、フェニルチオ酢酸メ
チルエステル、フェニルチオアセトアミド、ジメチルス
ルフィド、メチルベンジルスルフィド、メチルオクチル
スルフィド、フェニルα−クロロベンジルスルフィド、
メチルチオアセトニトリル、3−(メチルチオ)プロピ
オニトリル、千オシグリコール酸ジメチルエステル、3
,3′−チオジプロピオン酸ジエチルエステル、フェニ
ルアリルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、1.3
−ジチアン、1,4−チオキサン、フェニルプロパルギ
ルスルフィド、2−フェニルチオ−3−オキソ−n−酪
酸メチルエステル、(メチルチオ)マロン酸ジエチルエ
ステル、(メチルスルフィニルメチル)メチルスルフィ
ド、(トリルスルホニルメチル)メチルスルフィド、N
−トリフルオロアセチル−メチオニンメチルエステル、
N−カルボベンゾキン−メチオニルグリシンエチルエス
テル、N−)リフルオロアセチル−メチオニンベンジル
エステル、フェニルチオアセトン、4−(フェニルチオ
)−2−ブタノン、 P h S CHt CHz CH” CH(CHt
) q COOCH!、CH。
人手容易な、又は容品に製造できるものであり、例えば
チオアニソール、p−クロロチオアニソール、p−メト
キシチオアリソール、0〜(メトキシカルボニル)チオ
アニソール、p−メチルチオアニソール、p−シアノチ
オアニソール、0−メチルチオアニソール、(シクロヘ
キシル)フェニルスルフィド、ジメチルスルフィド、α
−(メチルチオ)チオフェン、(α−チェニル)チオ酢
酸メチルエステル、(α−フリル)チオ酢酸エチルエス
テル、メチルチオ酢酸メチルエステル、3〜(メチルチ
オ)プロピオン酸エチルエステル、フェニルチオ酢酸メ
チルエステル、フェニルチオアセトアミド、ジメチルス
ルフィド、メチルベンジルスルフィド、メチルオクチル
スルフィド、フェニルα−クロロベンジルスルフィド、
メチルチオアセトニトリル、3−(メチルチオ)プロピ
オニトリル、千オシグリコール酸ジメチルエステル、3
,3′−チオジプロピオン酸ジエチルエステル、フェニ
ルアリルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、1.3
−ジチアン、1,4−チオキサン、フェニルプロパルギ
ルスルフィド、2−フェニルチオ−3−オキソ−n−酪
酸メチルエステル、(メチルチオ)マロン酸ジエチルエ
ステル、(メチルスルフィニルメチル)メチルスルフィ
ド、(トリルスルホニルメチル)メチルスルフィド、N
−トリフルオロアセチル−メチオニンメチルエステル、
N−カルボベンゾキン−メチオニルグリシンエチルエス
テル、N−)リフルオロアセチル−メチオニンベンジル
エステル、フェニルチオアセトン、4−(フェニルチオ
)−2−ブタノン、 P h S CHt CHz CH” CH(CHt
) q COOCH!、CH。
P h S CHt C= CHCOOCHs、(−C
TC)SJ Ivle s 等を例示することができる。
TC)SJ Ivle s 等を例示することができる。
前+ta 一般式(If>で表わされるN−フルオロピ
リジニウム塩は、例えば相当するピリジンにフッ素(Z
、Chem、、5.64 (1965)及び参考例1参
照)又はフッ素とMX (Mは水素原子、金属、又はR
”RbR’S iで表わされる基(但し、R”、R’、
RCはハロゲン原子、アルキル基又はアリール基である
。)であり、Xは前記同様の意味を表わす。〕を反応さ
せることにJ、り容易に製造できるものであり(特願昭
60−118882参照)、 V′ 一0COCII3. I“− げrf 0’l”f、 ’ 等を例示することができる。
リジニウム塩は、例えば相当するピリジンにフッ素(Z
、Chem、、5.64 (1965)及び参考例1参
照)又はフッ素とMX (Mは水素原子、金属、又はR
”RbR’S iで表わされる基(但し、R”、R’、
RCはハロゲン原子、アルキル基又はアリール基である
。)であり、Xは前記同様の意味を表わす。〕を反応さ
せることにJ、り容易に製造できるものであり(特願昭
60−118882参照)、 V′ 一0COCII3. I“− げrf 0’l”f、 ’ 等を例示することができる。
反応は溶媒中で行なうのが好ましく、溶媒としては塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロトリ
フルオロエタン等のハロゲン化炭化水素、アセトニトリ
ル、エーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエ
ン、ヘキサン等ヲ例示することができる。
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロトリ
フルオロエタン等のハロゲン化炭化水素、アセトニトリ
ル、エーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエ
ン、ヘキサン等ヲ例示することができる。
反応温度は一80℃〜+150℃を選ぶことができるが
一30℃〜+100℃が反応が効率よく進行する点で好
ましい。
一30℃〜+100℃が反応が効率よく進行する点で好
ましい。
本発明の一般式(III)で表わされるα−フルオロス
ルフィドは酸化することにより収率よく相当するスルホ
キシド又はスルホンへ導くことができる(J、Am、C
hem、Soc、、土1ユ。
ルフィドは酸化することにより収率よく相当するスルホ
キシド又はスルホンへ導くことができる(J、Am、C
hem、Soc、、土1ユ。
735 (1985)、および実施例の表3を参照〕
以下、参考例及び実施例により本発明を更に詳参考例1 ピリジン10 g (0,126mo l)の無水アセ
トニトリル100m1溶液に一40℃に冷却下、激しく
撹拌しながら窒素ガスで10%に希釈したフッ素ガスを
90m1/分の流速で導入した。R人したフッ素の全量
はQ、13molであった。その後XMとしてトリフル
オロメタンスルホン酸ナトリウム22 g (0,1
28mo I)を加え、−40℃で5時間攪拌した。そ
の後生成したフッ化ナトリウムを濾別し、溶媒を留去後
残渣を塩化メチレンより結晶化させN−フルオロピリジ
ニウム トリフルオロメタンスルホナート17.5g
(71%)得た。再精製は塩化メチレン−アセトニト
リルより再結晶することによって行なった。物性値は表
1に示した。
以下、参考例及び実施例により本発明を更に詳参考例1 ピリジン10 g (0,126mo l)の無水アセ
トニトリル100m1溶液に一40℃に冷却下、激しく
撹拌しながら窒素ガスで10%に希釈したフッ素ガスを
90m1/分の流速で導入した。R人したフッ素の全量
はQ、13molであった。その後XMとしてトリフル
オロメタンスルホン酸ナトリウム22 g (0,1
28mo I)を加え、−40℃で5時間攪拌した。そ
の後生成したフッ化ナトリウムを濾別し、溶媒を留去後
残渣を塩化メチレンより結晶化させN−フルオロピリジ
ニウム トリフルオロメタンスルホナート17.5g
(71%)得た。再精製は塩化メチレン−アセトニト
リルより再結晶することによって行なった。物性値は表
1に示した。
参考例2
’ −0’1’ f
2、 4. 6−ドリメチルピリジン0.57 (4,
67mmol)及びトリフルオロメタンスルホン酸ナト
リウム0.803 g (4,67mmo l)を無水
アセトニトリル20 m lに溶解させ、−40℃に冷
却下激しく攪拌しながら窒素ガスで10%に希釈してフ
ッ素ガスを30m1/分の流速で導入した。
67mmol)及びトリフルオロメタンスルホン酸ナト
リウム0.803 g (4,67mmo l)を無水
アセトニトリル20 m lに溶解させ、−40℃に冷
却下激しく攪拌しながら窒素ガスで10%に希釈してフ
ッ素ガスを30m1/分の流速で導入した。
導入したフッ素ガスの看は8.93mmolであった0
反応後、生成したフン化ナトリウムを濾別し、溶媒留去
後アセトニトリルージエチルエーテルより結晶化させて
N−フルオロ−2,4,6−ドリメチルピリジニウムト
リフルオロメタンスルホナートを1.1]g(82%)
得た。物性値は表1に示した。
反応後、生成したフン化ナトリウムを濾別し、溶媒留去
後アセトニトリルージエチルエーテルより結晶化させて
N−フルオロ−2,4,6−ドリメチルピリジニウムト
リフルオロメタンスルホナートを1.1]g(82%)
得た。物性値は表1に示した。
参考例3
25m1のナス型フラスコに2.4.6−トリメチルピ
リジン(1,21g、10mmo l) 、ホウフッ化
ナトリウム(1,,23g、10mmo l)及び無水
フン化ナトリウム(2,1g、50mmo +)を無水
アセトニトリル15m1に熔解させ、−40℃に冷却下
激しく攪拌しながら窒素ガスとフッ素ガス(9:1)の
混合ガスを50m!/分の流速で導入した。導入したフ
ッ素ガスの量は20m−molであった。反応後注澱物
を濾別し、溶媒留去後アセトニトリルージエチルエーテ
ルより再結晶してN−フルオロ−2,4,6−トIJメ
チルピリジニウム テトラフルオロボラートを1.59
g(70%)得た。再精製は、アセトニトリルより再結
晶することによって行なった。物性値は表1に示した。
リジン(1,21g、10mmo l) 、ホウフッ化
ナトリウム(1,,23g、10mmo l)及び無水
フン化ナトリウム(2,1g、50mmo +)を無水
アセトニトリル15m1に熔解させ、−40℃に冷却下
激しく攪拌しながら窒素ガスとフッ素ガス(9:1)の
混合ガスを50m!/分の流速で導入した。導入したフ
ッ素ガスの量は20m−molであった。反応後注澱物
を濾別し、溶媒留去後アセトニトリルージエチルエーテ
ルより再結晶してN−フルオロ−2,4,6−トIJメ
チルピリジニウム テトラフルオロボラートを1.59
g(70%)得た。再精製は、アセトニトリルより再結
晶することによって行なった。物性値は表1に示した。
参考例4
2.4.6−ドリメチルピリジン1.82g(15mm
o 1)の無水塩化メチレン溶液(30ml)を−78
℃に冷却し、攪拌下2.8%Ft/N!の混合ガスを流
速72m1/分で反応溶液へ吹き込んだ〔Ftの使用f
t670m1 (30m−mol))、反応後N2の
みを1時間流した。室温にもどし湿気が入らないよう注
意深く溶媒を留去して、吸湿性のN−フルオロ−2,4
,6−ドリメチルピリジニウムフルオリドを得た。
o 1)の無水塩化メチレン溶液(30ml)を−78
℃に冷却し、攪拌下2.8%Ft/N!の混合ガスを流
速72m1/分で反応溶液へ吹き込んだ〔Ftの使用f
t670m1 (30m−mol))、反応後N2の
みを1時間流した。室温にもどし湿気が入らないよう注
意深く溶媒を留去して、吸湿性のN−フルオロ−2,4
,6−ドリメチルピリジニウムフルオリドを得た。
” F N M R(CHt Cl z中CFC+、
内部標準、正値は高磁場側を示す) −17,3p pm (N−F) 、 + 168.
8ppm(−F)。
内部標準、正値は高磁場側を示す) −17,3p pm (N−F) 、 + 168.
8ppm(−F)。
’H−NMR(CDCI、中、δ)
2.70 (s、 3H,γ−CH5)。
2.83 (d、 6H,α−CH5,JニーF−
4,5Hz)、7.70 (d、2H,芳香槙水素r
JM−F本7.0Hz)。
4,5Hz)、7.70 (d、2H,芳香槙水素r
JM−F本7.0Hz)。
ペンゾトリフルオリドを内部標準としてF−NMR測定
より収率を求めたところ44%であった。
より収率を求めたところ44%であった。
なお、塩化メチレンを溶媒とする上記の反応で得られた
N−フルオロ−2,4,6−)リメチルピリジニウムフ
ルオリドは反応中F、と溶媒との反応から副成するフン
化水素(HF)との塩を形成していると考えられる。
N−フルオロ−2,4,6−)リメチルピリジニウムフ
ルオリドは反応中F、と溶媒との反応から副成するフン
化水素(HF)との塩を形成していると考えられる。
実施例1
一
σrf
アルゴン雲囲気下に、N−フルオロ−2,4゜6−ドリ
メチルピリジニウムトリフルオロスルホナート(289
mg、1mmol)とp−クロoチオアニソール(15
9+ng、1mmol)との乾燥塩化メチレン(2ml
)7g液を室温で8時間攪拌した。反応後反応?8液に
固体の無水炭酸カリウム(500+og)を加えた。反
応液から固相を分離しl!3縮した(フルオロベンゼン
を内部標準としたF−NMR収率は87%であった)、
シリカゲルのカラムクロマトグラフィー(溶出剤 トリ
エチルアミン:ヘキサン−1:99)により精製を行な
って、p−クロロフェニル フルオロメチルスルホイド
133■(76%)を油状体として得た。
メチルピリジニウムトリフルオロスルホナート(289
mg、1mmol)とp−クロoチオアニソール(15
9+ng、1mmol)との乾燥塩化メチレン(2ml
)7g液を室温で8時間攪拌した。反応後反応?8液に
固体の無水炭酸カリウム(500+og)を加えた。反
応液から固相を分離しl!3縮した(フルオロベンゼン
を内部標準としたF−NMR収率は87%であった)、
シリカゲルのカラムクロマトグラフィー(溶出剤 トリ
エチルアミン:ヘキサン−1:99)により精製を行な
って、p−クロロフェニル フルオロメチルスルホイド
133■(76%)を油状体として得た。
実施例2〜12
反応を行なった。その結果及び生成物のF−NMRデー
タを表2に示した。実施例11のみ、N−フルオロピリ
ジニウム塩の使用量はスルフィドの1/2モル数であり
、収率はN−フルオロピリジニウム塩を基準に算出した
。実施例1〜4.10゜11で得られる生成物は既知の
スペクトルデータと一致した(Synthesis、1
977゜791)。実施例12で得られる生成物(Ph
SCHFC○OMe(油状体)〕のF−NMR以外のス
ペクトルデータは次に示す。
タを表2に示した。実施例11のみ、N−フルオロピリ
ジニウム塩の使用量はスルフィドの1/2モル数であり
、収率はN−フルオロピリジニウム塩を基準に算出した
。実施例1〜4.10゜11で得られる生成物は既知の
スペクトルデータと一致した(Synthesis、1
977゜791)。実施例12で得られる生成物(Ph
SCHFC○OMe(油状体)〕のF−NMR以外のス
ペクトルデータは次に示す。
H−NMR(CDC1,中)δ: 3.70 (3H
。
。
!、CHs)、6.08 (LH,d、JN−F−5
2,5Hz、CHF)、7.20〜7.70(5H,m
、芳香核水素)。
2,5Hz、CHF)、7.20〜7.70(5H,m
、芳香核水素)。
IR(Nea t、 cll−J : 1760 (
C=O) 。
C=O) 。
Mass (m/e):200 (M”)、141(
M”−COOCH3)。
M”−COOCH3)。
ソノ他の実施例で得られるα−フルオロスルフィドは反
応をF−NMRi!l定することから生成していること
が観測できるが、後処理中分解が起きやすいので、フッ
素化後、続いてスルフィドに対し、2.5倍モルのm−
クロロ過安息香酸を加えて室温で12時間攪拌して、ス
ルホンに酸化した後、シリカゲルのカラムクロマトグラ
フィーにより単離、精製を行なった。得られたスルホン
の物性値は表3に示した6表2のα−フルオロスルフィ
ドのF−NMR収率はγ農相した反応溶液にフルオロベ
ンゼンを内部標準として加え、積分値より算出した。
応をF−NMRi!l定することから生成していること
が観測できるが、後処理中分解が起きやすいので、フッ
素化後、続いてスルフィドに対し、2.5倍モルのm−
クロロ過安息香酸を加えて室温で12時間攪拌して、ス
ルホンに酸化した後、シリカゲルのカラムクロマトグラ
フィーにより単離、精製を行なった。得られたスルホン
の物性値は表3に示した6表2のα−フルオロスルフィ
ドのF−NMR収率はγ農相した反応溶液にフルオロベ
ンゼンを内部標準として加え、積分値より算出した。
手続補正書(自発)
昭和61年 3月20日
特許庁長官 宇 賀 道 部 殿
1、事件の表示
昭和61年特許願第 23051 号2、発明の名
称 3、補正をする者 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 1)本願明細書第22頁表1、参考例3のCCl3F内
部標準の項のr120.4jを’149.6Jに訂正す
る。
称 3、補正をする者 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 1)本願明細書第22頁表1、参考例3のCCl3F内
部標準の項のr120.4jを’149.6Jに訂正す
る。
以上
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるスルフィドと一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるN−フルオロピリジニウム塩とを反応させ
ることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるα−フルオロスルフィドの製法(式中、R
^1はアルキル基又はアリール基であり、R^2及びR
^3は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、アルケニル基、アルキニル
基、カルバモイル基、イソシアナート基又はアミド基で
あり、R^1、R^2及びR^3は種々の組合せでヘテ
ロ原子を介在して又は非介在で環状構造をとってもよい
。R^4、R^5、R^6、R^7及びR^8は水素原
子、アルキル基、アリール基、アシル基、アシルオキシ
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、シアノ基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコ
キシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アル
キルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基
、カルバモイル基又はアミド基であり、R^4、R^5
、R^6、R^7及びR^8は種々の組合せでヘテロ原
子を介在して又は非介在で環状構造をとってもよい、X
^−はプレンステッド酸の共役塩基である。 X^−はR^4、R^5、R^6、R^7及びR^8と
種々の組合わせで、ヘテロ原子を介在して又は非介在で
結合していてもよい。)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2305186A JPS62181230A (ja) | 1986-02-06 | 1986-02-06 | α−フルオロスルフイドの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2305186A JPS62181230A (ja) | 1986-02-06 | 1986-02-06 | α−フルオロスルフイドの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62181230A true JPS62181230A (ja) | 1987-08-08 |
JPH0586767B2 JPH0586767B2 (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=12099643
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2305186A Granted JPS62181230A (ja) | 1986-02-06 | 1986-02-06 | α−フルオロスルフイドの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62181230A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07233097A (ja) * | 1994-02-23 | 1995-09-05 | Chichibu Onoda Cement Corp | 親電子型フッ素化剤の製造方法 |
JPH10291940A (ja) * | 1995-02-28 | 1998-11-04 | Rhodia Chim | フルオロ誘導体の合成方法 |
JP2017202989A (ja) * | 2016-05-10 | 2017-11-16 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素化合物、及びその製造方法 |
-
1986
- 1986-02-06 JP JP2305186A patent/JPS62181230A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07233097A (ja) * | 1994-02-23 | 1995-09-05 | Chichibu Onoda Cement Corp | 親電子型フッ素化剤の製造方法 |
JPH10291940A (ja) * | 1995-02-28 | 1998-11-04 | Rhodia Chim | フルオロ誘導体の合成方法 |
JP2017202989A (ja) * | 2016-05-10 | 2017-11-16 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素化合物、及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0586767B2 (ja) | 1993-12-14 |
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