JP2002105058A - １，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素塩の製造方法 - Google Patents
１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素塩の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 塩基触媒を用いることなく、一段階の反応に
より、高収率に１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ
素塩を製造可能な製造方法を提供する。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される化合物とヨ
ウ化アルキルを用いることを特徴とする下記一般式（I
I）で表される１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ
素塩の製造方法である。下記一般式（Ｉ）及び（II）
中、Ｒ1及びＲ2は各々置換又は無置換のアルキル基を表
し、Ｒ1及びＲ2は連結して環を形成してもよい。Ｒ3、
Ｒ4及びＲ5は各々水素原子又は置換若しくは無置換のア
ルキル基を表し、Ｒ6は置換又は無置換のアルキル基を
表す。 【化１】
より、高収率に１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ
素塩を製造可能な製造方法を提供する。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される化合物とヨ
ウ化アルキルを用いることを特徴とする下記一般式（I
I）で表される１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ
素塩の製造方法である。下記一般式（Ｉ）及び（II）
中、Ｒ1及びＲ2は各々置換又は無置換のアルキル基を表
し、Ｒ1及びＲ2は連結して環を形成してもよい。Ｒ3、
Ｒ4及びＲ5は各々水素原子又は置換若しくは無置換のア
ルキル基を表し、Ｒ6は置換又は無置換のアルキル基を
表す。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、１，３−ジアルキ
ルイミダゾリウムヨウ素塩の新規な製造方法に関する。
ルイミダゾリウムヨウ素塩の新規な製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、１，３−ジアルキルイミダゾリウ
ム塩は、無置換イミダゾールを塩基触媒下、ハロゲン化
アルキルなどのアルキル化剤と反応させ、一旦、１−ア
ルキルイミダゾールに変換した後、再度アルキル化剤を
反応させる２段階により製造されている。
ム塩は、無置換イミダゾールを塩基触媒下、ハロゲン化
アルキルなどのアルキル化剤と反応させ、一旦、１−ア
ルキルイミダゾールに変換した後、再度アルキル化剤を
反応させる２段階により製造されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の方法では、
１位及び３位のアルキル化には、常に２段階の反応が必
要であり、例えば、１，３位が同一のアルキル基である
場合にも、２段階の反応が必要になる。また、１，３位
に導入するアルキル基の双方にアルカリ加水分解され易
い不安定な基が含まれている場合、前記従来の方法で製
造することは困難である。一方、Ｃhem. Ｐharm. Bull.
31(4),1213(1983).には、１−（２’，２’−ジエトキ
シメチル）イミダゾールと臭化ペンチルをヨウ化ナトリ
ウム存在下で反応させ、１，２−ジペンチルイミダゾリ
ウムヨウ素塩を製造する方法が記載されているが、この
方法では、目的物のイミダゾリウム塩のアニオンに、臭
素イオンが混入し、それらを除去することが難しく、ま
た反応に用いたヨウ化ナトリウム、反応で副生した臭化
ナトリウムなどの塩の除去を必要とし、後処理が煩雑と
なる。
１位及び３位のアルキル化には、常に２段階の反応が必
要であり、例えば、１，３位が同一のアルキル基である
場合にも、２段階の反応が必要になる。また、１，３位
に導入するアルキル基の双方にアルカリ加水分解され易
い不安定な基が含まれている場合、前記従来の方法で製
造することは困難である。一方、Ｃhem. Ｐharm. Bull.
31(4),1213(1983).には、１−（２’，２’−ジエトキ
シメチル）イミダゾールと臭化ペンチルをヨウ化ナトリ
ウム存在下で反応させ、１，２−ジペンチルイミダゾリ
ウムヨウ素塩を製造する方法が記載されているが、この
方法では、目的物のイミダゾリウム塩のアニオンに、臭
素イオンが混入し、それらを除去することが難しく、ま
た反応に用いたヨウ化ナトリウム、反応で副生した臭化
ナトリウムなどの塩の除去を必要とし、後処理が煩雑と
なる。
【０００４】本発明は、前記諸問題に鑑みなされたもの
であって、塩基触媒を用いることなく、１段階の反応に
より、高収率に１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ
素塩を製造可能な製造方法を提供することを課題とす
る。
であって、塩基触媒を用いることなく、１段階の反応に
より、高収率に１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ
素塩を製造可能な製造方法を提供することを課題とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。即ち、 ＜１＞ 下記一般式（Ｉ）で表される化合物とヨウ化ア
ルキルを用いることを特徴とする下記一般式（II）で表
される１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素塩の製
造方法である。
の手段は、以下の通りである。即ち、 ＜１＞ 下記一般式（Ｉ）で表される化合物とヨウ化ア
ルキルを用いることを特徴とする下記一般式（II）で表
される１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素塩の製
造方法である。
【０００６】
【化２】
【０００７】前記一般式（Ｉ）及び（II）中、Ｒ1及び
Ｒ2は各々置換又は無置換のアルキル基を表し、Ｒ1及び
Ｒ2は連結して環を形成してもよい。Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は
各々水素原子又は置換若しくは無置換のアルキル基を表
し、Ｒ6は置換又は無置換のアルキル基を表す。
Ｒ2は各々置換又は無置換のアルキル基を表し、Ｒ1及び
Ｒ2は連結して環を形成してもよい。Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は
各々水素原子又は置換若しくは無置換のアルキル基を表
し、Ｒ6は置換又は無置換のアルキル基を表す。
【０００８】＜２＞ Ｒ6がアルコキシカルボニル基、
炭酸エステル基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ
基、ホスホニル基、トリアルコキシシリル基及びシリル
オキシ基から選ばれる少なくとも１種の置換基を含む＜
１＞に記載の１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素
塩の製造方法である。
炭酸エステル基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ
基、ホスホニル基、トリアルコキシシリル基及びシリル
オキシ基から選ばれる少なくとも１種の置換基を含む＜
１＞に記載の１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素
塩の製造方法である。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素塩の
製造方法は、下記スキーム１で表すことができ、下記一
般式（Ｉ）で表される化合物に対して、２モル等量以上
のヨウ化アルキル（Ｒ6−Ｉ）を反応させることによ
り、一般式（II）で表される１，３−ジアルキルイミダ
ゾリウムヨウ素塩を製造する製造方法である。
本発明の１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素塩の
製造方法は、下記スキーム１で表すことができ、下記一
般式（Ｉ）で表される化合物に対して、２モル等量以上
のヨウ化アルキル（Ｒ6−Ｉ）を反応させることによ
り、一般式（II）で表される１，３−ジアルキルイミダ
ゾリウムヨウ素塩を製造する製造方法である。
【００１０】
【化３】
【００１１】前記一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2は各々置
換又は無置換のアルキル基を表す。前記アルキル基とし
ては、低級アルキル基（例えば、炭素数１０以下、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチルな
ど）が好ましく、特に、メチル基もしくはエチル基が好
ましい。Ｒ1及びＲ2は同一でも異なっていてもよいが、
合成が容易な点で、同一であるのが好ましい。又、Ｒ1
及びＲ2は連結して環を形成してもよい。
換又は無置換のアルキル基を表す。前記アルキル基とし
ては、低級アルキル基（例えば、炭素数１０以下、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチルな
ど）が好ましく、特に、メチル基もしくはエチル基が好
ましい。Ｒ1及びＲ2は同一でも異なっていてもよいが、
合成が容易な点で、同一であるのが好ましい。又、Ｒ1
及びＲ2は連結して環を形成してもよい。
【００１２】ここで、前記一般式（Ｉ）で表される化合
物は、下記スキーム２の如く、トルエンスルホン酸や硫
酸などの酸触媒下で、下記一般式（III）で表されるイ
ミダゾール誘導体とオルトエステルとを反応させる方法
により、簡便に合成できる。
物は、下記スキーム２の如く、トルエンスルホン酸や硫
酸などの酸触媒下で、下記一般式（III）で表されるイ
ミダゾール誘導体とオルトエステルとを反応させる方法
により、簡便に合成できる。
【００１３】
【化４】
【００１４】ここで、オルトエステルのＲ1及びＲ2は前
記一般式（１）中のＲ1及びＲ2と同義であり、好ましい
範囲も同様である。オルトエステルのＲ7は、Ｒ1及びＲ
2と同様、置換又は無置換のアルキル基を表す。Ｒ7は、
Ｒ1及びＲ2と同じであっても異なってもよく、対応する
オルトエステルが入手可能であれば特に限定されない。
経済性の観点から、Ｒ1、Ｒ2及びＲ7は全て同じである
ことが好ましい。Ｒ1、Ｒ2及びＲ7は前記一般式（Ｉ）
とヨウ化アルキルとの反応を妨げない限りにおいて、置
換基を有していてもよく、該置換基としては、後述する
Ｒ6が置換基を有する場合の置換基と同様のものが挙げ
られる。
記一般式（１）中のＲ1及びＲ2と同義であり、好ましい
範囲も同様である。オルトエステルのＲ7は、Ｒ1及びＲ
2と同様、置換又は無置換のアルキル基を表す。Ｒ7は、
Ｒ1及びＲ2と同じであっても異なってもよく、対応する
オルトエステルが入手可能であれば特に限定されない。
経済性の観点から、Ｒ1、Ｒ2及びＲ7は全て同じである
ことが好ましい。Ｒ1、Ｒ2及びＲ7は前記一般式（Ｉ）
とヨウ化アルキルとの反応を妨げない限りにおいて、置
換基を有していてもよく、該置換基としては、後述する
Ｒ6が置換基を有する場合の置換基と同様のものが挙げ
られる。
【００１５】前記一般式（Ｉ）及び（II）中、Ｒ3〜Ｒ5
は各々、水素原子又は置換若しくは無置換のアルキル基
を表す。前記アルキル基としては、炭素原子数（以下Ｃ
数）が１〜２４であるのが好ましく、Ｃ数が１〜１０で
あるのがより好ましい。前記アルキル基は直鎖状であっ
ても分岐鎖状であってもよく、具体的には、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ｉ−プロピル、ｉ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、
ｔ−オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、２−
ヘキシルデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロ
ヘキシルメチル、オクチルシクロヘキシルが挙げられる
が、これらに限定されるものではない。前記アルキル基
は、前記一般式（Ｉ）とヨウ化アルキルとの反応を妨げ
ない限りにおいて、置換基を有していてもよく、該置換
基としては、後述するＲ6が置換基を有する場合の置換
基と同様のものが挙げられる。
は各々、水素原子又は置換若しくは無置換のアルキル基
を表す。前記アルキル基としては、炭素原子数（以下Ｃ
数）が１〜２４であるのが好ましく、Ｃ数が１〜１０で
あるのがより好ましい。前記アルキル基は直鎖状であっ
ても分岐鎖状であってもよく、具体的には、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ｉ−プロピル、ｉ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、
ｔ−オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、２−
ヘキシルデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロ
ヘキシルメチル、オクチルシクロヘキシルが挙げられる
が、これらに限定されるものではない。前記アルキル基
は、前記一般式（Ｉ）とヨウ化アルキルとの反応を妨げ
ない限りにおいて、置換基を有していてもよく、該置換
基としては、後述するＲ6が置換基を有する場合の置換
基と同様のものが挙げられる。
【００１６】前記一般式（II）及びＩ−Ｒ6（ヨウ化ア
ルキル）中、Ｒ6は置換又は無置換のアルキル基を表
す。前記アルキル基としては、Ｃ数が１〜２４であるの
が好ましく、Ｃ数が１〜１０であるのがより好ましい。
前記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であっても
よく、具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ｉ−プロピル、ｉ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
オクチル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、デシ
ル、ドデシル、テトラデシル、２−ヘキシルデシル、ヘ
キサデシル、オクタデシル、シクロヘキシルメチル、オ
クチルシクロヘキシルが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。前記アルキル基が置換基を有する場
合、好ましい置換基としては、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、シアノ基、アルコキシ基（メトキシ
基、エトキシ基、メトキシエトキシ基、メトキシエトキ
シエトキシ基等）、アリーロキシ基（フェノキシ基
等）、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基
等）、アルコキシカルボニル基（エトキシカルボニル基
等）、炭酸エステル基（エトキシカルボニルオキシ基
等）、アシル基（アセチル基、プロピオニル基、ベンゾ
イル基等）、スルホニル基（メタンスルホニル基、ベン
ゼンスルホニル基等）、アシルオキシ基（アセトキシ
基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタ
クリロイルオキシ等）、スルホニルオキシ基（メタンス
ルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基等）、
ホスホニル基（ジエチルホスホニル基等）、アミド基
（アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、カルバ
モイル基（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基等）、アル
キル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、シクロプロピル基、ブチル基、２−カルボキシエ
チル基、ベンジル基等）、アリール基（フェニル基、ト
ルイル基等）、複素環基（ピリジル基、イミダゾリル
基、フラニル基等）、アルケニル基（ビニル基、1-プロ
ペニル基等）、トリアルコキシシリル基（トリエトキシ
シリル基等）、シリルオキシ基等が挙げられる。
ルキル）中、Ｒ6は置換又は無置換のアルキル基を表
す。前記アルキル基としては、Ｃ数が１〜２４であるの
が好ましく、Ｃ数が１〜１０であるのがより好ましい。
前記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であっても
よく、具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ｉ−プロピル、ｉ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
オクチル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、デシ
ル、ドデシル、テトラデシル、２−ヘキシルデシル、ヘ
キサデシル、オクタデシル、シクロヘキシルメチル、オ
クチルシクロヘキシルが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。前記アルキル基が置換基を有する場
合、好ましい置換基としては、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、シアノ基、アルコキシ基（メトキシ
基、エトキシ基、メトキシエトキシ基、メトキシエトキ
シエトキシ基等）、アリーロキシ基（フェノキシ基
等）、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基
等）、アルコキシカルボニル基（エトキシカルボニル基
等）、炭酸エステル基（エトキシカルボニルオキシ基
等）、アシル基（アセチル基、プロピオニル基、ベンゾ
イル基等）、スルホニル基（メタンスルホニル基、ベン
ゼンスルホニル基等）、アシルオキシ基（アセトキシ
基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタ
クリロイルオキシ等）、スルホニルオキシ基（メタンス
ルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基等）、
ホスホニル基（ジエチルホスホニル基等）、アミド基
（アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、カルバ
モイル基（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基等）、アル
キル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、シクロプロピル基、ブチル基、２−カルボキシエ
チル基、ベンジル基等）、アリール基（フェニル基、ト
ルイル基等）、複素環基（ピリジル基、イミダゾリル
基、フラニル基等）、アルケニル基（ビニル基、1-プロ
ペニル基等）、トリアルコキシシリル基（トリエトキシ
シリル基等）、シリルオキシ基等が挙げられる。
【００１７】Ｒ6上の置換基の中でも、特に、アルコキ
シカルボニル基、炭酸エステル基、アシルオキシ基、ス
ルホニルオキシ基、ホスホニル基、トリアルコキシシリ
ル基及びシリルオキシ基から選ばれる置換基は、塩基触
媒により加水分解され易い基であるため、従来の塩基触
媒を用いたアルキル化反応を利用した製造方法では、Ｒ
6上に前記置換基があると収率が低くなる。本発明の製
造方法は、塩基触媒を使用しないので、収率の低下を軽
減でき、Ｒ6上に前記置換基がある場合に特に有効であ
る。
シカルボニル基、炭酸エステル基、アシルオキシ基、ス
ルホニルオキシ基、ホスホニル基、トリアルコキシシリ
ル基及びシリルオキシ基から選ばれる置換基は、塩基触
媒により加水分解され易い基であるため、従来の塩基触
媒を用いたアルキル化反応を利用した製造方法では、Ｒ
6上に前記置換基があると収率が低くなる。本発明の製
造方法は、塩基触媒を使用しないので、収率の低下を軽
減でき、Ｒ6上に前記置換基がある場合に特に有効であ
る。
【００１８】本発明の製造法においては、溶媒を用いて
も用いなくてもよい。前記溶媒としては、工業的に使用
されているほとんどの溶媒が使用可能であるが、中で
も、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、トルエ
ン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、アセトニトリル、ブチロニトリル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、塩化メチレン等
の非プロトン性溶媒が好ましく用いられる。また、原料
のＲ6−Ｉ（ハロゲン化アルキル）を溶媒として用いて
もよい。前記溶媒の中でも、酢酸エチルまたはアセトニ
トリルがより好ましい。
も用いなくてもよい。前記溶媒としては、工業的に使用
されているほとんどの溶媒が使用可能であるが、中で
も、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、トルエ
ン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、アセトニトリル、ブチロニトリル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、塩化メチレン等
の非プロトン性溶媒が好ましく用いられる。また、原料
のＲ6−Ｉ（ハロゲン化アルキル）を溶媒として用いて
もよい。前記溶媒の中でも、酢酸エチルまたはアセトニ
トリルがより好ましい。
【００１９】反応温度は、原料の反応性や溶媒などの性
質に応じて、適宜設定すればよく、、一般的に−２０℃
〜２００℃の範囲で行われるが、反応速度と副反応を考
慮すると３０℃〜８０℃の範囲で行われるのが好まし
い。
質に応じて、適宜設定すればよく、、一般的に−２０℃
〜２００℃の範囲で行われるが、反応速度と副反応を考
慮すると３０℃〜８０℃の範囲で行われるのが好まし
い。
【００２０】本発明の製造方法の原料となる前記一般式
（Ｉ）で表される化合物の具体例（例示化合物Ｒ−１〜
５）及び生成物である前記一般式（II）で表される化合
物の具体例（例示化合物Ｐ−１〜１５）を、表１及び表
２に各々示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
（Ｉ）で表される化合物の具体例（例示化合物Ｒ−１〜
５）及び生成物である前記一般式（II）で表される化合
物の具体例（例示化合物Ｐ−１〜１５）を、表１及び表
２に各々示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【表２】
【００２３】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。尚、以下の実施例において、合成した化合物の同
定は、Ｈ−ＮＭＲ及びＭＳにより行った。また、実施例
２については、従来合成法（２段階アルキル法）による
生成物のＨ−ＮＭＲデータと比較し、同定、確認した。
する。尚、以下の実施例において、合成した化合物の同
定は、Ｈ−ＮＭＲ及びＭＳにより行った。また、実施例
２については、従来合成法（２段階アルキル法）による
生成物のＨ−ＮＭＲデータと比較し、同定、確認した。
【００２４】［実施例１］ 例示化合物Ｒ−１の合成 イミダゾール（２７．２ｇ、０．４ｍｏｌ）と蟻酸オル
トエチルエステル（２３６．８g、９．６ｍｏｌ）にパ
ラトルエンスルホン酸・Ｈ2Ｏ（２．５ｇ）を加え、デ
ィーンシュタルクコンデンサーを用いて、エタノールを
留去しながら１３０℃に加熱還流した。エタノールが出
なくなるまで反応を行った後、反応混合物を室温にまで
冷却し、炭酸ナトリウム（２ｇ）を加えた。減圧蒸留を
行い、８０〜８５℃（約１３３Ｐａ〜２６６Ｐａ（１〜
２ｍｍＨｇ））の留分を捕集し、２９ｇの目的の例示化
合物Ｒ−１を得た。
トエチルエステル（２３６．８g、９．６ｍｏｌ）にパ
ラトルエンスルホン酸・Ｈ2Ｏ（２．５ｇ）を加え、デ
ィーンシュタルクコンデンサーを用いて、エタノールを
留去しながら１３０℃に加熱還流した。エタノールが出
なくなるまで反応を行った後、反応混合物を室温にまで
冷却し、炭酸ナトリウム（２ｇ）を加えた。減圧蒸留を
行い、８０〜８５℃（約１３３Ｐａ〜２６６Ｐａ（１〜
２ｍｍＨｇ））の留分を捕集し、２９ｇの目的の例示化
合物Ｒ−１を得た。
【００２５】［実施例２］ 例示化合物Ｐ−１の合成 実施例１で得たＲ−１（８．５ｇ、０．０５ｍｍｏｌ）
とヨウ化エチル（１５ｍｌ）を酢酸エチル（５０ｍｌ）
に溶解し、室温下、３０分間反応させた後、２時間加熱
還流を行った。反応混合物を減圧下濃縮し、目的の例示
化合物Ｐ−１を得た（収量 １２．４ｇ、収率 ９８
％）。
とヨウ化エチル（１５ｍｌ）を酢酸エチル（５０ｍｌ）
に溶解し、室温下、３０分間反応させた後、２時間加熱
還流を行った。反応混合物を減圧下濃縮し、目的の例示
化合物Ｐ−１を得た（収量 １２．４ｇ、収率 ９８
％）。
【００２６】［実施例３］ 例示化合物Ｐ−８の合成 実施例１で得たＲ−１（１．７ｇ、０．０１ｍｏｌ）と
下記構造式で表されるヨウ化物Ｑ−１（７．０ｇ、０．
０２２ｍｏｌ）とを、アセトニトリル（４０ｍｌ）に混
合し、５時間加熱還流した。反応液を濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマト（展開溶媒：塩化メチレン／メタノー
ル＝１０／１）にて精製し、目的の例示化合物Ｐ−８を
得た（収量 ２．５１ｇ、収率４５％）。
下記構造式で表されるヨウ化物Ｑ−１（７．０ｇ、０．
０２２ｍｏｌ）とを、アセトニトリル（４０ｍｌ）に混
合し、５時間加熱還流した。反応液を濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマト（展開溶媒：塩化メチレン／メタノー
ル＝１０／１）にて精製し、目的の例示化合物Ｐ−８を
得た（収量 ２．５１ｇ、収率４５％）。
【００２７】［実施例４］ 例示化合物Ｐ−９の合成 実施例１で得たＲ−１（１．７ｇ、０．０１ｍｏｌ）と
下記構造式で表されるヨウ化物Ｑ−２（９．９ｇ、０．
０２２ｍｏｌ）とを、酢酸エチル（４０ｍｌ）に混合
し、２時間加熱還流した。反応液を濃縮し、シリカゲル
カラムクロマト（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール
＝８／１）にて精製し、目的の例示化合物Ｐ−９を得た
（収量 ４．５ｇ、収率 ５４％）。
下記構造式で表されるヨウ化物Ｑ−２（９．９ｇ、０．
０２２ｍｏｌ）とを、酢酸エチル（４０ｍｌ）に混合
し、２時間加熱還流した。反応液を濃縮し、シリカゲル
カラムクロマト（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール
＝８／１）にて精製し、目的の例示化合物Ｐ−９を得た
（収量 ４．５ｇ、収率 ５４％）。
【００２８】［実施例５］ 例示化合物Ｐ−１０の合成 実施例１で得たＲ−１（１．７ｇ、０．０１ｍｏｌ）と
下記構造式で表されるヨウ化物Ｑ−３（７．３ｇ、０．
０２２ｍｏｌ）とを、アセトニトリル（３０ｍｌ）に混
合し、８時間加熱還流した。反応液を濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマト（展開溶媒：塩化メチレン／メタノー
ル＝６／１）にて精製し、目的の例示化合物Ｐ−１０を
得た（収量 １．５３ｇ、収率 ３３％）。
下記構造式で表されるヨウ化物Ｑ−３（７．３ｇ、０．
０２２ｍｏｌ）とを、アセトニトリル（３０ｍｌ）に混
合し、８時間加熱還流した。反応液を濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマト（展開溶媒：塩化メチレン／メタノー
ル＝６／１）にて精製し、目的の例示化合物Ｐ−１０を
得た（収量 １．５３ｇ、収率 ３３％）。
【００２９】
【化５】
【００３０】実施例２に示したように、本発明の方法を
用いると、Ｒ6が単純なアルキルである場合にはほぼ定
量的に目的物を得ることができた。更に、実施例３〜５
で示したように、Ｐ−８〜Ｐ−１０のような塩基に対し
て不安定な置換基を有するアルキル基が置換した化合物
を合成する際も、まずまずの収率で目的物を得ることが
可能であった。このことは、従来法では、塩基触媒を用
いていたため、不安定な置換基を有するアルキル基で、
イミダゾールの窒素アルキル化を行うことができなかっ
たのに対して、本発明の方法が格段に優れていることを
示している。
用いると、Ｒ6が単純なアルキルである場合にはほぼ定
量的に目的物を得ることができた。更に、実施例３〜５
で示したように、Ｐ−８〜Ｐ−１０のような塩基に対し
て不安定な置換基を有するアルキル基が置換した化合物
を合成する際も、まずまずの収率で目的物を得ることが
可能であった。このことは、従来法では、塩基触媒を用
いていたため、不安定な置換基を有するアルキル基で、
イミダゾールの窒素アルキル化を行うことができなかっ
たのに対して、本発明の方法が格段に優れていることを
示している。
【００３１】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の製造方法に
よれば、塩基触媒を用いることなく、一段階の反応によ
り、高収率に１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素
塩を製造することができる。
よれば、塩基触媒を用いることなく、一段階の反応によ
り、高収率に１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素
塩を製造することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表される化合物とヨ
ウ化アルキルを用いることを特徴とする下記一般式（I
I）で表される１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ
素塩の製造方法。 【化１】 ［一般式（Ｉ）及び（II）中、Ｒ1及びＲ2は各々置換又
は無置換のアルキル基を表し、Ｒ1及びＲ2は連結して環
を形成してもよい。Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々水素原子又
は置換若しくは無置換のアルキル基を表し、Ｒ6は置換
又は無置換のアルキル基を表す。］ - 【請求項２】 Ｒ6がアルコキシカルボニル基、炭酸エ
ステル基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、ホス
ホニル基、トリアルコキシシリル基及びシリルオキシ基
から選ばれる少なくとも１種の置換基を含む請求項１に
記載の１，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素塩の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000293430A JP4667575B2 (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | １，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素塩の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2000293430A JP4667575B2 (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | １，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素塩の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002105058A true JP2002105058A (ja) | 2002-04-10 |
| JP4667575B2 JP4667575B2 (ja) | 2011-04-13 |
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| JP2000293430A Expired - Fee Related JP4667575B2 (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | １，３−ジアルキルイミダゾリウムヨウ素塩の製造方法 |
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| JP (1) | JP4667575B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006306776A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | イミダゾリウムハロゲン塩の製造方法 |
| JP2006306741A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | イミダゾリウムハロゲン塩の製造方法 |
| EP2470497A2 (en) * | 2009-08-28 | 2012-07-04 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable ionic liquid comprising multifunctional cation and antistatic coatings |
| US8816029B2 (en) | 2009-08-28 | 2014-08-26 | 3M Innovative Properties Company | Compositions and articles comprising polymerizable ionic liquid mixture, and methods of curing |
| US8853338B2 (en) | 2009-12-22 | 2014-10-07 | 3M Innovative Properties Company | Curable dental compositions and articles comprising polymerizable ionic liquids |
| US11807795B2 (en) | 2009-08-28 | 2023-11-07 | 3M Innovative Properties Company | Optical device with antistatic coating |
-
2000
- 2000-09-27 JP JP2000293430A patent/JP4667575B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (2)
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|---|
| JPN6010072051, Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．, 1983, ３１（４）, ｐｐ．１２１３−１２２１ * |
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| US8742047B2 (en) | 2009-08-28 | 2014-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable ionic liquid comprising multifunctional cation and antistatic coatings |
| US8816029B2 (en) | 2009-08-28 | 2014-08-26 | 3M Innovative Properties Company | Compositions and articles comprising polymerizable ionic liquid mixture, and methods of curing |
| US9127101B2 (en) | 2009-08-28 | 2015-09-08 | 3M Innovative Properties Company | Compositions and articles comprising polymerizable ionic liquid mixture, and methods of curing |
| US9458327B2 (en) | 2009-08-28 | 2016-10-04 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable ionic liquid comprising multifunctional cation and antistatic coatings |
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|---|---|
| JP4667575B2 (ja) | 2011-04-13 |
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