JPS62180944A - イオン打込装置用イオン源 - Google Patents

イオン打込装置用イオン源

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JPS62180944A
JPS62180944A JP2193286A JP2193286A JPS62180944A JP S62180944 A JPS62180944 A JP S62180944A JP 2193286 A JP2193286 A JP 2193286A JP 2193286 A JP2193286 A JP 2193286A JP S62180944 A JPS62180944 A JP S62180944A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion source
gas
cleaning
ion
electrodes
Prior art date
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Pending
Application number
JP2193286A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryuji Shiratori
白鳥 隆二
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、イオン打込装置に使用するイオン源に関する
ものである。
〔発明の1r景〕 イオン打込装置のイオン源は、運転中にイオン打込原料
の一部がレンズ系電極に付着し、この付着物が剥離、飛
散しやすい状態にあると電極間の放電発生DK囚となる
ので、イオン源の電極部品を定期的に清掃する必要があ
る。
従来、この種の清掃は、イオン源を充分に冷却した後に
部品を装置から取り出して行っているが、このような清
掃作業によ九ば、作業に時間を要し、また、清掃を行う
周期は、通常4〜5日間の短い間隔をおいて行なわれる
ので、その度に長時間の清掃作業を行なうと、装置の運
転上の生産性が低下する問題を有していた。また、イオ
ン打込原料には与物が使用されることが多いので危険を
ともなう面倒な作業であった。
〔発明の1コ的〕 本発明は、以上の問題点を考慮してなされたものであり
、その目的とするところは、イオン源′昶極等の汚れや
付着物の清掃を部品を取り出すことなく、且つ安全に行
ない得るイオン打込装置用イオン源を提供することにあ
る。
〔発明の概要〕
イオン打込装置のイオン源では、レンズ系電極への付着
物が放1弐発生原囚となり、放電が生じると打込イオン
量が不安定になる。特に放電が起こりやすいのは、付着
物が剥離、飛敗しやすい状態にあって、電極の温度が刊
すぎる場合や、運転。
停止をくり返した場合である。付着物が剥離、飛散しに
くい状態にある場合には放電はほとんど生じない。
本発明は以」二の点にj4目してなされたもので。
イオン源本体の内部にイオン源清掃時にイオン源本体の
外部から清掃用の圧縮ガスを導入してレンズ系電極に吹
付けるガス噴射体を設けると共に。
前記イオン源本体の一部には、前記圧縮ガスの吹付けに
よって前記レンズ系電極から剥離、飛散した付着物を吸
引し集塵する排気ダク1〜を設けたものである。
このような構成よりなる本発明によれば、清掃用の圧縮
ガスをレンズ系′+1!極に吹付け、排気ダク1−を作
動させることにより、レンズ系i1a極部品を取り出す
ことなく装着状態のままで、レンズ系′准極部品に付着
した剥離、飛散しやすい付着物を除去することができる
〔発明の実施例〕
本発明の一実施例を第1図に基づき説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す縦断面図であり1図中
、1.2はイオン源の本体を構成する絶縁筒であり、絶
縁筒1の上部を覆う蓋体16と共に真空容器Aを構成す
るものであり、真空容器Aの中央部にイオン化箱3と加
速電極4、引出し電極5、アース電極6が配置されてお
り、これらの各電極によりイオンビームを加速、収速せ
しめるレンズ系電極を構成している。
7は、前述したレンズ系の各電極4,5.6をとり囲む
ようにして真空容器A内に支持部材8を介して配置され
た中空状のリング部材で、リング部材7には紹穴或いは
細隙等からなるガス噴出孔9が多数配設されている。ま
た、支持部材8の一部には、ガス導入孔10が設けられ
、ガス導入孔10を介して真空容器A外部からリング部
材8の内部に不燃性の清掃用圧縮ガス(例えば窒素ガス
)が導入されるようにしである。11はガス導入孔IO
に連通ずる清掃用のガス送給管であり、その一端が真空
容器A外部にある清掃用ガス供給源(図示せず)に接続
されており、またガス送給管11の一部にシャワーバル
ブ12が設けられ、シャワーバルブ12の開放時に圧縮
された窒素ガスがリング部材7の内部に送り逃走れる。
113は下段の絶縁筒の一部に設けた排気ダクトであり
、排気ダクト13の一部に排気バルブ14ど真空吸引器
15とが配設されており、真空吸引器15の内部には集
塵用のフィルタが内蔵されている。
次に本実施例の作用を説明する。
イオン源の清掃を行う場合には、イオン源の運転は停止
状態にあり、この状態で真空容器Aの真空ポンプのバル
ブ(図示省略)を閉じた後に、シャワーバルブ12及び
排気バルブ14を開き、清掃用ガス供給源と吸引器15
を作動させる。シャワーバルブ12の開放により清掃用
の圧縮ガスがガス送給管11を介して中空状リング部材
7に送り込まれ、圧縮ガスはガス噴出孔9より噴射され
電極4,5.6の表面に付着した剥離、飛散しやすい付
着物を吹きとばし、これらの付着物が排気ダクト13を
介して吸引器15に真空吸引される。
そして、吸引された付着物は吸引器15内のフィルタに
集塵され、清掃用のガスのみが排気ダクト13を介して
真空容器A外部に排出され、このようにして各電極が清
掃される。なお、ガス噴射による清掃時間は10分程度
であれば充分である。
従って本実施例によれば、イオン源の各電極を取り出す
必要もなく清掃することができるので、各電極等のイオ
ン源部品に直接手を触れることがなく、しかも毒物によ
って汚染された部品を大気中にさらすことがなく清掃作
業を行うことができ。
作業時の安全性を確保することができる。
また、従来のこの種清掃作業は、イオン源を停止1−シ
た後に、部品の冷却、取外し、清掃、組立、真空排気、
イオン源再運転という一連の作業工程経るため、作業時
間に数時間を要するが、本実施例では清掃作業が10分
程度で行い得るので、作業時間の大幅な短縮化を図り1
()、清掃後のイオン源の真空復帰もスムーズに短時間
に行い得る。
なお5本実施例におけるイオン源の清掃は、放電原因と
なる剥雅飛散しやすい付着物を除去することが目的であ
る。従って、電極表面から剥離しにくい付着物をとり除
く場合には、定期的に5例えば1000時間運転後に重
囲をとり出してクリーニングする必要があるが、この場
合にも、クリーニングの実施に際して、予め清掃用圧縮
ガスを吹付けて剥離、飛散しやすい付着物を吸引してお
けば、この種のクリーニング作業の安全性を高め、また
圧縮ガスによって重囲部品を冷却させることができるの
で、作業能率を向上させることができる。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明によれば、イオン源電極等の汚れ
や付着物の除去を′α極部品等を取り出すことなく行い
得るので、清掃作業の大幅な短縮化を図り、しかも作業
上の安全性を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示す縦断面図である。 A・・・真空容器(イオン源本体)、1..2−・絶晃
断、3・・・イオン化笛、4・・・加速電極、5・・引
出電極、6・・・アース電極、7・・・中空リング部材
(ガス噴、)を体)、9・・・ガス噴出孔、10・・ガ
ス導入孔、It・・・ガス送給管、13・・排気ダクト
、15 ・真空吸引器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、イオンビームを加速、収束するレンズ系電極をイオ
    ン源本体の内部に具備してなるイオン打込装置用イオン
    源において、前記イオン源本体の内部には、イオン源清
    掃時に該イオン源本体の外部から清掃用の圧縮ガスをイ
    オン源本体内に導入して前記レンズ系電極に吹付けるガ
    ス噴射体を設けると共に、前記イオン源本体の一部には
    、前記圧縮ガスの吹付けによつて前記レンズ系電極から
    剥離、飛散した付着物を吸引し集塵する排気ダクトを設
    けてなることを特徴とするイオン打込装置用イオン源。
JP2193286A 1986-02-05 1986-02-05 イオン打込装置用イオン源 Pending JPS62180944A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006096618A1 (en) * 2005-03-08 2006-09-14 Axcelis Technologies, Inc. High conductance ion source
CN102376513A (zh) * 2010-08-11 2012-03-14 日新离子机器株式会社 离子源电极的清洗方法
WO2016189614A1 (ja) * 2015-05-25 2016-12-01 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオンミリング装置、及びイオンミリング方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006096618A1 (en) * 2005-03-08 2006-09-14 Axcelis Technologies, Inc. High conductance ion source
JP2008536257A (ja) * 2005-03-08 2008-09-04 アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド 高コンダクタンスイオン源
US7488958B2 (en) 2005-03-08 2009-02-10 Axcelis Technologies, Inc. High conductance ion source
CN102376513A (zh) * 2010-08-11 2012-03-14 日新离子机器株式会社 离子源电极的清洗方法
CN102376513B (zh) * 2010-08-11 2015-06-10 日新离子机器株式会社 离子源电极的清洗方法
WO2016189614A1 (ja) * 2015-05-25 2016-12-01 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオンミリング装置、及びイオンミリング方法
JPWO2016189614A1 (ja) * 2015-05-25 2018-03-15 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオンミリング装置、及びイオンミリング方法
US10192710B2 (en) 2015-05-25 2019-01-29 Hitachi High-Technologies Corporation Ion milling apparatus and ion milling method

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