JPS58182830A - ジエツトスクラバ洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は半導体製造工程においてウェハー洗浄を行な
うノエットスクラパ洗浄装置に関する。

〔発明の技術的背景および問題点〕

半導体製造工程のウエノ・−洗浄過程においてはジェッ
トスクラ・９が使用される。このノエ。

トスクラパは、水平状に支持されたウエノ・−の表面部
に、ノエットノズルから洗浄液（純水）を噴射させるよ
うに構成している。この場合、上記ジェットノズルの径
は１００〜２００μφ、であり、２００〜２５０ＰＳ■
の圧力で１０〜６０ｍｍの距離に設置されるウエノｈ−
に噴射するようにしている。

しかしこのようにウエノ・−表面に強い圧力で洗浄液を
噴射すると、洗浄液があらゆる方向に飛散し、周囲に水
煙がたちこめる状態となってしまう。すなわち、周辺に
その木遣が飛び散るため、ノエットスクラパでのウエノ
１−乾燥過程や乾燥済みのウエノ・−にまで水煙や飛水
がかかり悪影響をおよぼすものである。

〔発明の目的〕

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、ウエノ・−洗浄時に発生する水煙や飛水でウ
ニ・・−乾燥過程に悪影Ｉ＃をおよぼすことなくウニ・
・−洗浄が可能となるノエットスクラパ洗浄装置を提供
することを目的とする。

〔発明の概要〕

すなわち、この発明に係るジェットスクラバ洗浄装置は
、ノズルから被洗浄体までの洗浄液経路の８囲にノズル
側からのカバーを取り付けるものである。

〔発明の実施例〕

以下図面によりこの発明の一実施例を説明するに、下方
から支持された洗浄台１１を備えるもので、この洗浄台
１ノの上部には図示せぬ真空ポンプにより吸引される吸
着盤１２が設けられている。この洗浄台１１Ｖｉ洗浄動
作時に回転するもので、その吸着盤１２には水平にして
円板状のウェハー１３が吸着保時される。このウェハー
１３の上面中心には１０〜６０１ｍのｆ１５隔で対向す
るようにして上方から支持された円筒状のノズル本体１
４が設けられ、このノズル本体１４０ソエツトノズルＪ
５から洗浄液１６がウェハー１３表向に向けて噴射され
るようにする。そして、このジェットノズル１５の外周
部には、上記噴射された洗浄液１６の飛散を防止するだ
めのカバー１７が上記ウェハー１３に近接する位＃まで
延長されている。壕だウェハ−１３外周線の下側には上
面に開口する環状のダクト１８が設置さ九、ウェハ−１
３上面から流出する洗浄後の洗浄液１６を処理するよう
に構成している。

すなわち、このようＶ′Ｃ構成さノするノズル装置によ
れば、洗浄液１６がウェハー１３に衝突する際に発生す
る多酸の水煙および飛水１９ｆ：、ノズル本体１４の外
周に装着された円筒状の力・々−１７の働きで、ジェッ
トスクラバ装置周辺に飛散することを防止することがで
きる。

したがって、洗浄時に発生する水煙および飛水１９の飛
散が防止されることによって、ノエ、トスクラ・９装置
でのウェハー乾燥過程に悪影響をおよぼすことがなくな
る。

〔発明の効果〕

以上のようにこの発明によれば、クエットスクラパのノ
ズル本体に装着された円筒状力・々−で、ウェハーに近
接するまでにおよぶ周囲を囲ｐ１１とにより、多縦の水
煙や飛水によるウニ・・−乾燥過程への悪影響をなくす
ことができ、また洗浄後の洗浄液が一定してウエノ・−
の外８線から流ね、落ちるようになり、その取水を容易
にすることかで裏るもので、特にダクトの開口面積を小
さくすることも可能である。

【図面の簡単な説明】

図はこの発明の一実施例に係るゾエットスクラ・々洗浄
装置の断面構成を示す説明図である。 １１・・洗浄台、１２・・・吸着盤、１３・・・ウエノ
１−２１４・・・ノズル本体、１５・・・ジェットノズ
ル、１６・・洗浄液、１７・・洗浄液飛散防止力・々−
１１８・・洗浄液収集用ダクト、１９・・水煙および飛
水。 出願人代理人　　弁理士　鈴　江　武　彦５−

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 被洗浄体を保持して水平に回転される洗浄台と、この洗
   浄台の上面に対向して設定され高圧で洗浄液を噴射する
   ジェットノズルと、このクエットノズルの外周に洗浄台
   に近接するまで延長形成したカバーと、上記洗浄台外周
   部下（ｌｌＩＩに開口した洗浄液収集用ダクトとを具備
   したこと全特徴とするノエ、トスクラバ洗浄装置。