JPS6018233B2 - 塵埃除去装置 - Google Patents

塵埃除去装置

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JPS6018233B2
JPS6018233B2 JP11369076A JP11369076A JPS6018233B2 JP S6018233 B2 JPS6018233 B2 JP S6018233B2 JP 11369076 A JP11369076 A JP 11369076A JP 11369076 A JP11369076 A JP 11369076A JP S6018233 B2 JPS6018233 B2 JP S6018233B2
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JP
Japan
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dust
dust removal
gas
nozzle
removal device
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JP11369076A
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JPS5339660A (en
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康 浅見
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、例えば半導体装置製造プロセス等において
使用するに好適な高効率の塵挨除去装置に関するもので
ある。
一般に、ェアブローによる塵挨除去方式及び真空吸引に
よる塵挨除去方式は公知である。
しかし、前者には、ェアブローのため周囲に塵挨が散乱
して再付着するという問題点があり、後者には、真空吸
引口を被清掃面に密接に近づけなければ十分な清掃効果
が発揮されないため往々にして真空吸引口で被清掃面を
傷つけるという問題点がある。また、真空吸引方式は圧
力差の関係から一般的にェアブロー方式よりも塵挨除去
能力が低い。ところで、半導体装置製造プロセス等にお
いては、被処理物が格別塵挨に敏感であるため高度の塵
挨除去が要求されているが、上記した２つの方式はいず
れも上記した欠点のためかかる要求に応じうるものとは
いいがたい。
この発明の目的は、高度の塵挨除去能力をもつた新規な
塵挨除去装置を提供することにある。この発明の１つの
特徴は、被清掃面にある塵挨を気体噴射により散乱させ
、散乱させた塵挨を気体とともに回収するようにした点
にある。噴射気体としては空気を使用するのが好ましい
が、窒素ガス等を用いることもできる。この発明の利点
の１つは、塵挨が回収されるので再付着しないことであ
り、他の利点は、気体噴射を用いているため塵挨除去効
率が高いことである。
次に、図面に示す一実施例についてこの発明を詳述する
。
図面は、この発明の−実施例による塵挨除去装置１０の
概略断面構造を示すものである。この装置１川ま、加圧
ガス１２をガス供給管１４からガス噴射ノズル１６に導
き、噴射ノズル１６から噴射される加圧ガスにより被清
掃面２４上の塵挨２６を散乱させ、散乱された塵挨の飛
散をフード１８により防止しながら塵挨２６を噴出ガス
とともに吸気管２０から吸入ガス２２として回収し、所
望により吸入ガス２２をろ過して塵挨を分離するように
したものである。この装置によれば、ノズル１６から噴
射されるガス圧により被清掃面２４から効果的に塵挨が
はくりされて散乱され、散乱した塵挨は再付着しないよ
うに吸入回収されるので高度の塵挨除去効果が得られる
。ノズル１６の先端外周部を突出させることによりフー
ド１８の内面との間でガス流路を部分的にせまくし、吸
入ガスの流速を大きくするようにしたので、吹上げられ
た塵挨を効率的に回収することができるようになる。こ
の発明による塵挨除去の原理は広く一般の掃除機等にも
適用しうるものである。
【図面の簡単な説明】
図面は、この発明の一実施例による塵挨除去装暦を示す
断面図である。 １０・・・・・・塵挨除去装置、１２…・・・加圧ガス
、１４・・・・・・ガス供給管、１６・・・・・・ガス
噴射ノズル、１８・・・・・・フード、２０・・…・吸
気管、２２・・・・・・吸入ガス、２４・・・・・・被
清掃面、２６・・・・・・塵挨。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ ほぼ平坦な被清掃面にある塵埃を散乱させるための
    ガス噴射ノズルと、前記ノズルの周囲に設けられた筒状
    のフードと、前記フードの上端に連通された吸気管とよ
    りなり、前記ノズルの先端部近傍は、吸気流の速度がそ
    の部分で高くなるように、その断面が周囲一様に拡げら
    れてなることを特徴とする塵埃除去装置。
JP11369076A 1976-09-24 1976-09-24 塵埃除去装置 Expired JPS6018233B2 (ja)

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JPS5339660A JPS5339660A (en) 1978-04-11
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS556047U (ja) * 1978-06-27 1980-01-16
JPS5515620A (en) * 1978-07-20 1980-02-02 Fujitsu Ltd Washing method
JPS574201A (en) * 1980-06-11 1982-01-09 Canon Inc Liquid removing method for washing material
JPS6145119Y2 (ja) * 1980-09-29 1986-12-18
JPS59119383U (ja) * 1983-02-01 1984-08-11 エーザイ株式会社 洗浄用ノズル
JPS60125284A (ja) * 1983-12-09 1985-07-04 日比谷総合設備株式会社 精密部品簡易洗浄装置
JP2558745Y2 (ja) * 1991-06-04 1998-01-14 セーレン株式会社 熱風乾燥機におけるチャンバー塵埃の除去機構
JPH0615776U (ja) * 1992-07-31 1994-03-01 ソニック・フエロー株式会社 ガスノズル構造
JPH0814737A (ja) * 1994-04-30 1996-01-19 Seibu Giken:Kk 高速流体による低温急速脱水乾燥の方法および装置

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