JPS62174088A - 新規アルカリ金属錯化合物 - Google Patents
新規アルカリ金属錯化合物Info
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- JPS62174088A JPS62174088A JP61316130A JP31613086A JPS62174088A JP S62174088 A JPS62174088 A JP S62174088A JP 61316130 A JP61316130 A JP 61316130A JP 31613086 A JP31613086 A JP 31613086A JP S62174088 A JPS62174088 A JP S62174088A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルカリ金属錯化合物、更に詳しくは、水素化
または窒素化アルカリ金属製造の触媒として有用なるア
ルカリ金属錯化合物に関する。
または窒素化アルカリ金属製造の触媒として有用なるア
ルカリ金属錯化合物に関する。
水素化アルカリ金属、例えば水素化リチウムまたは水素
化ナトリウムは、リチウムと水素を300℃以上、特に
700℃付近の温度で反応させ製造されることが知られ
ている[カーク−オスマー(Kirk −Othmer
) 1967年12巻544頁;ウルマン(U llm
ann) 8巻1957年723頁]。室温では、水素
はリチウムとは反応せず、いくら微細に粉砕した金属に
も吸収されない[イー・ビバーグ(E、 Wiberg
)およびイー・アンバーガー(E。
化ナトリウムは、リチウムと水素を300℃以上、特に
700℃付近の温度で反応させ製造されることが知られ
ている[カーク−オスマー(Kirk −Othmer
) 1967年12巻544頁;ウルマン(U llm
ann) 8巻1957年723頁]。室温では、水素
はリチウムとは反応せず、いくら微細に粉砕した金属に
も吸収されない[イー・ビバーグ(E、 Wiberg
)およびイー・アンバーガー(E。
A mberger) ;バイトライズ・オブ・ジ・エ
レメンツ・オブ・メイン・グループスI −TV (H
ydridesof the Elements of
’ Main Groups I −N) 19頁、エ
ルスビャー(E 1svier)出版社、1971年]
。
レメンツ・オブ・メイン・グループスI −TV (H
ydridesof the Elements of
’ Main Groups I −N) 19頁、エ
ルスビャー(E 1svier)出版社、1971年]
。
タングステン(IV)またはモリブデン(IV)硫化物
のような触媒の存在下では、水素化リチウムの製造温度
は例えば310〜345℃に下げることができる。また
触媒としてステアリン酸リチウムの存在下では240〜
330℃に下げることができる。水素化ナトリウムの製
造には触媒にステアリン酸ナトリウムを用いる。しかし
、200°C以下で水素化リチウムを製造できることは
これまで知られていない。これまでの水素化カリウム製
造における最低温度は140℃である[メトデイクム・
キミー(Methodicum Chim、) 7巻
10−12頁]。
のような触媒の存在下では、水素化リチウムの製造温度
は例えば310〜345℃に下げることができる。また
触媒としてステアリン酸リチウムの存在下では240〜
330℃に下げることができる。水素化ナトリウムの製
造には触媒にステアリン酸ナトリウムを用いる。しかし
、200°C以下で水素化リチウムを製造できることは
これまで知られていない。これまでの水素化カリウム製
造における最低温度は140℃である[メトデイクム・
キミー(Methodicum Chim、) 7巻
10−12頁]。
窒素化リチウムについてはこれまで触媒存在下でさえ3
50℃以下での製造は報告されていない。
50℃以下での製造は報告されていない。
好ましい製造温度は500〜800℃である[同上、6
0頁]。
0頁]。
本発明者は驚くべきことに適当なアルカリ金属錯化合物
を触媒として用いれば水素化アルカリ金属を容易に製造
できることを見出した。すなわち、水素化物および窒素
化物を室温あるいはそれ以下の温度(+25℃〜−10
0°C)で製造できるのである。場合によっては水素ま
たは窒素の吸収を常圧またはやや減圧下で行え、水素ま
たは窒素を加剰圧で用いることもできるが、通常は不要
である。
を触媒として用いれば水素化アルカリ金属を容易に製造
できることを見出した。すなわち、水素化物および窒素
化物を室温あるいはそれ以下の温度(+25℃〜−10
0°C)で製造できるのである。場合によっては水素ま
たは窒素の吸収を常圧またはやや減圧下で行え、水素ま
たは窒素を加剰圧で用いることもできるが、通常は不要
である。
3一
本発明に従えば、水素化または窒素化は、望ましくは溶
解した触媒と微細粒状のアルカリ金属を混合して行い、
反応終了後、不溶の水素化リチウムまたは水素化ナトリ
ウムを濾別する。
解した触媒と微細粒状のアルカリ金属を混合して行い、
反応終了後、不溶の水素化リチウムまたは水素化ナトリ
ウムを濾別する。
触媒として用いる本発明に従うアルカリ金属錯化合物は
1分子当り数個の金属原子を含み、式=[式中、Meは
アルカリ金属、xSXlおよびX。
1分子当り数個の金属原子を含み、式=[式中、Meは
アルカリ金属、xSXlおよびX。
はそれぞれ硫黄または酸素、但し、XとXIは同じであ
り、nは3〜12の整数、LおよびLoはそれぞれC3
〜CIGモノもしくはポリ官能性エーテルまたはCI−
C+ oモノもしくはポリ官能性アミン、pおよびqは
それぞれ0〜4の整数、R1およびR2はそれぞれ水素
またはアリール基および/またはこれらの2個を合して
形成される芳香族環式基を表わす。] で示される。
り、nは3〜12の整数、LおよびLoはそれぞれC3
〜CIGモノもしくはポリ官能性エーテルまたはCI−
C+ oモノもしくはポリ官能性アミン、pおよびqは
それぞれ0〜4の整数、R1およびR2はそれぞれ水素
またはアリール基および/またはこれらの2個を合して
形成される芳香族環式基を表わす。] で示される。
化合物[I]は次のようにして製造される。すなわち、
式: または式: OOH [式中、R1、R2およびXは前記と同意義]で示され
る化合物とアルカリ金属を前記エーテルまたはアミンの
存在下反応させ化合物[I]を得る。
式: または式: OOH [式中、R1、R2およびXは前記と同意義]で示され
る化合物とアルカリ金属を前記エーテルまたはアミンの
存在下反応させ化合物[I]を得る。
1分子当り3以上のアルカリ金属を含む可溶性アルカリ
金属錯化合物が製造される。
金属錯化合物が製造される。
前記におけるR1およびR2の定義中、アリール基はた
とえばフェニル、ナフチルおよびビフェニルのような単
環または2環式基を包含する。さらに、これらの基が合
して脂肪族または芳香族の単環または多環式化合物を形
成する場合、芳香族環を形成することが好ましい。
とえばフェニル、ナフチルおよびビフェニルのような単
環または2環式基を包含する。さらに、これらの基が合
して脂肪族または芳香族の単環または多環式化合物を形
成する場合、芳香族環を形成することが好ましい。
アルカリ金属化合物[1]について記載した文献は知ら
れていない。
れていない。
本発明の製法により製造できるアルカリ金属錯化合物に
含有されるアルカリ金属数はある程度側々の場合に使用
される化合物[III]および[IV]の構造またはそ
の置換基の性質、アルカリ金属の種類、使用するエーテ
ルまたはアミン、および反応条件に依存する。たとえば
、1.2−ジチオール−3−チオン(XがS、R尉よび
R1が水素である化合物[■])とリチウムをテトラヒ
ドロフラン中0℃で反応させジリチウム誘導体を得る。
含有されるアルカリ金属数はある程度側々の場合に使用
される化合物[III]および[IV]の構造またはそ
の置換基の性質、アルカリ金属の種類、使用するエーテ
ルまたはアミン、および反応条件に依存する。たとえば
、1.2−ジチオール−3−チオン(XがS、R尉よび
R1が水素である化合物[■])とリチウムをテトラヒ
ドロフラン中0℃で反応させジリチウム誘導体を得る。
一方、4−フェニル−1,2−ジチオール−3−チオン
(XがSSR’が水素、R2がCs H5である化合物
[■])とリチウムを同一条件で反応させれば1分子当
りリチウム原子7個を含有するリチウム錯化合物を得る
。ベンゾ−1,2−ジチオール−3−オン(Xが酸素、
R1およびR2が合して−(CH=CH)2−である化
合物[IrI])とリチウムをテトラヒドロフラン中0
℃で反応させジリチウム誘導体を得る。
(XがSSR’が水素、R2がCs H5である化合物
[■])とリチウムを同一条件で反応させれば1分子当
りリチウム原子7個を含有するリチウム錯化合物を得る
。ベンゾ−1,2−ジチオール−3−オン(Xが酸素、
R1およびR2が合して−(CH=CH)2−である化
合物[IrI])とリチウムをテトラヒドロフラン中0
℃で反応させジリチウム誘導体を得る。
もし、ベンゾ−1,2−ジチオール−3−オンの代りに
対応するチオ化合物(XがSSR’およびR2が合して
−(CH= CH)2−である化合物[■])を用いれ
ば、同一条件でリチウムと反応させリチウム原子6個を
含有する錯化合物を、ナトリウムと反応させナトリウム
原子4個を含有する錯化合物を得る。
対応するチオ化合物(XがSSR’およびR2が合して
−(CH= CH)2−である化合物[■])を用いれ
ば、同一条件でリチウムと反応させリチウム原子6個を
含有する錯化合物を、ナトリウムと反応させナトリウム
原子4個を含有する錯化合物を得る。
置換基がフェニルである化合物[I11]または[lV
]を用いる場合、アルカリ金属錯化合物[1]に含有さ
れるアルカリ金属原子数は2よりはるかに多くなる。
]を用いる場合、アルカリ金属錯化合物[1]に含有さ
れるアルカリ金属原子数は2よりはるかに多くなる。
アルカリ金属を3以上含有するアルカリ金属錯化合物は
空気および水分に敏感な高反応性有機金属化合物である
ので、その製造は不活性ガス雰囲気中で行なわなければ
ならない。アルカリ金属錯化合物は溶液中に得ることが
でき、溶液状態で使用に供される。さらに触媒反応では
微粒状固体で用いることもできる。
空気および水分に敏感な高反応性有機金属化合物である
ので、その製造は不活性ガス雰囲気中で行なわなければ
ならない。アルカリ金属錯化合物は溶液中に得ることが
でき、溶液状態で使用に供される。さらに触媒反応では
微粒状固体で用いることもできる。
1分子当り数個のアルカリ金属原子を含有する本発明の
アルカリ金属錯化合物は単独でまたは遷移金属化合物と
組み合せて、たとえば水素化アルカリ金属の製造、窒素
分子の固定および水素添加用触媒に用いることができる
。
アルカリ金属錯化合物は単独でまたは遷移金属化合物と
組み合せて、たとえば水素化アルカリ金属の製造、窒素
分子の固定および水素添加用触媒に用いることができる
。
参考例1
式:
で示される2、4−ジフェニル−1,6,6a−1−リ
チアペンタレン3.731?(12,0mMol)の無
水テトラヒドロフラン(THF)2001112溶液に
リチウム粒1.49g(214mAtom)を加え0℃
で18時間撹拌する。暗紫色ないし黒色の溶液と未反応
リチウム粒を0℃で濾別する。該溶液の一定量(2゜0
d)を加水分解しリチウムの酸滴定により物質(1)
1モルにリチウム9.81グラム原子が反応したことが
見出された。これは物質(1)の98%がリチウム錯化
合物に変換されたことに対応する。
チアペンタレン3.731?(12,0mMol)の無
水テトラヒドロフラン(THF)2001112溶液に
リチウム粒1.49g(214mAtom)を加え0℃
で18時間撹拌する。暗紫色ないし黒色の溶液と未反応
リチウム粒を0℃で濾別する。該溶液の一定量(2゜0
d)を加水分解しリチウムの酸滴定により物質(1)
1モルにリチウム9.81グラム原子が反応したことが
見出された。これは物質(1)の98%がリチウム錯化
合物に変換されたことに対応する。
リチウム錯化合物は次の様にして固体で単離する。
すなわち、TI−IP溶液にペンタン500酎を0℃で
撹拌しながら加え、混合溶液を2時間放置する。
撹拌しながら加え、混合溶液を2時間放置する。
黒色懸濁液を0℃で濾過し残渣をペンタンで洗浄後、減
圧(10−’MmHg)下20℃で定量になるまで乾燥
する。非常に空気に敏感な式: で示される化合物4.969を得た(収率91.4%)
。
圧(10−’MmHg)下20℃で定量になるまで乾燥
する。非常に空気に敏感な式: で示される化合物4.969を得た(収率91.4%)
。
元素分析、Ct+H2oS30L++o(分子量453
゜4)として、計算値:C,55,63%;H,4,4
5%、S、21.19%;Li、15.32%、“実測
値:C,55゜22%、H,4,65%;S、21.1
3%; Li、15.10%。
゜4)として、計算値:C,55,63%;H,4,4
5%、S、21.19%;Li、15.32%、“実測
値:C,55゜22%、H,4,65%;S、21.1
3%; Li、15.10%。
固体で単離した錯化合物はTHFに可溶で、THF溶液
にペンタンを加え同一組成物を沈澱させることができた
。
にペンタンを加え同一組成物を沈澱させることができた
。
実施例1
参考例1と同様の手順により、式・
で示される5−フェニル−1,2−ジチオールー3−チ
オン0.279(1’、3mMol)とリチウム粒0.
27gC58mAtom)をTHF50mC中0℃で反
応させる。異なる時間間隔で懸濁液試料5.ORρずつ
を採取し濾別後、濾過液に水および0.1N塩酸を加え
、0、IN水酸化ナトリウムで逆滴定する。3時間反応
後、化合物(7)1モルにリチウム7、C4グラム原子
が反応したことが見出された。続く数時間の間、溶液中
のリチウム濃度は実質上一定であった。これにより化合
物(7)およびリチウムをTHF中0℃で反応させ化合
物(7)のへブタリチウム錯化合物を得たことを確認し
た。
オン0.279(1’、3mMol)とリチウム粒0.
27gC58mAtom)をTHF50mC中0℃で反
応させる。異なる時間間隔で懸濁液試料5.ORρずつ
を採取し濾別後、濾過液に水および0.1N塩酸を加え
、0、IN水酸化ナトリウムで逆滴定する。3時間反応
後、化合物(7)1モルにリチウム7、C4グラム原子
が反応したことが見出された。続く数時間の間、溶液中
のリチウム濃度は実質上一定であった。これにより化合
物(7)およびリチウムをTHF中0℃で反応させ化合
物(7)のへブタリチウム錯化合物を得たことを確認し
た。
過剰のリチウムと溶液を濾別し、テトラメチルエチレン
ジアミン33叶を加えた後、混合物を減圧下40mQに
濃縮し錯化合物を固体で単離する。
ジアミン33叶を加えた後、混合物を減圧下40mQに
濃縮し錯化合物を固体で単離する。
濾過および高減圧下に乾燥を行い、化合物(7)のへブ
タリチウム錯化合物をテトラメチルエチレンジアミンお
よびT HEの1・Iアダクツとし、式:で示される化
合物0.38gを得た(収率66%)。
タリチウム錯化合物をテトラメチルエチレンジアミンお
よびT HEの1・Iアダクツとし、式:で示される化
合物0.38gを得た(収率66%)。
元素分析、C1゜I−T 31 S 3 N 20 L
i 7 (分子量448.2)として、計算値:N、
6.27%;Li、10゜9%、実測値:N、5.96
%; Li、+ 1.4%。
i 7 (分子量448.2)として、計算値:N、
6.27%;Li、10゜9%、実測値:N、5.96
%; Li、+ 1.4%。
実施例2
参考例1と同様の手順に従い、式・
で示される4−フェニル−1,2−ジチオール−3−チ
オン0.57g(2,73mMol)とナトリウム粒2
.349(102mAtom)をTHF100xC中0
℃で反応させる。実施例1と同様、反応中に試料(15
,0xQ)を採取し、試料中のナトリウムを酸これによ
り化合物とナトリウムをTHF中0℃で反応させ化合物
(8)のへブタナトリウム錯化合物を得たことを確認し
た。
オン0.57g(2,73mMol)とナトリウム粒2
.349(102mAtom)をTHF100xC中0
℃で反応させる。実施例1と同様、反応中に試料(15
,0xQ)を採取し、試料中のナトリウムを酸これによ
り化合物とナトリウムをTHF中0℃で反応させ化合物
(8)のへブタナトリウム錯化合物を得たことを確認し
た。
実施例3
参考例1と同様の手順に従い、式。
で示されるヘンシー1.2−ジチオール−3−チオン1
.50g(8,2mMol)とリチウム粒0.82g(
+ 17mAtom)をTHF180iC中0℃で反応
させる。2時間反応後、溶液中のリチウム濃度は化合物
(9)1グラム分子にリチウム6.2グラム原子が反応
したことに対応し、さらに24時間の反応後は化合物(
9月グラム分子にリチウム6.1グラム原子が反応した
ことに対応した。THF溶液にペンタン250R0,を
加えヘキサリチウム−ベンゾ−1,2−ジチオール−3
−チオン錯化合物を単離し、 で示されるモノテトラヒドロフランアダクツ1゜229
を得た(収率50%)。
.50g(8,2mMol)とリチウム粒0.82g(
+ 17mAtom)をTHF180iC中0℃で反応
させる。2時間反応後、溶液中のリチウム濃度は化合物
(9)1グラム分子にリチウム6.2グラム原子が反応
したことに対応し、さらに24時間の反応後は化合物(
9月グラム分子にリチウム6.1グラム原子が反応した
ことに対応した。THF溶液にペンタン250R0,を
加えヘキサリチウム−ベンゾ−1,2−ジチオール−3
−チオン錯化合物を単離し、 で示されるモノテトラヒドロフランアダクツ1゜229
を得た(収率50%)。
元素分析、C+ + HI 2 S 30 L l e
(分子量298)として、計算値・Li、14.1%
、実測値 Li。
(分子量298)として、計算値・Li、14.1%
、実測値 Li。
13.9%。
実施例4
参考例1と同様の手順に従い、ベンゾ−1,2−ジチオ
ール−3−チオン(9)0.74g(4,OmM o
1 )とナトリウム粒0 、85 g(37mAtom
)をTHF70mQ中O℃で反応させた。48時間0℃
で反応後、溶液中のリチウム濃度は化合物(9月グラム
分子にナトリウム4、Cグラム原子が反応したことに対
応した。これにより化合物(9)とナトリウムをT I
−I F中0℃で反応させ化合物(9)のテトラナトリ
ウム錯化合物を得たことを確認した。
ール−3−チオン(9)0.74g(4,OmM o
1 )とナトリウム粒0 、85 g(37mAtom
)をTHF70mQ中O℃で反応させた。48時間0℃
で反応後、溶液中のリチウム濃度は化合物(9月グラム
分子にナトリウム4、Cグラム原子が反応したことに対
応した。これにより化合物(9)とナトリウムをT I
−I F中0℃で反応させ化合物(9)のテトラナトリ
ウム錯化合物を得たことを確認した。
応用例1
ベンゾ−1,2−ジチオール−3−チオン−へキサリチ
ウム錯化合物を触媒として使用する水素化リチウムの製
造ニー ベンゾ−1,2〜ジヂオール−3−チオン−ヘキサリチ
ウム(実施例3参照)2 、24 mMo1のTHF9
0RQ溶液にリチウム粒1、Cg(143mA ton
)を常圧の水素ガス雰囲気下、0℃で撹拌しながら加え
るとゆっくりと一様な水素の吸収が始まる。反応混合物
を水素ガス雰囲気下、0℃で92時間撹拌し水素ガスの
吸収を終了させる。20℃において730mQの水素ガ
スが吸収される。
ウム錯化合物を触媒として使用する水素化リチウムの製
造ニー ベンゾ−1,2〜ジヂオール−3−チオン−ヘキサリチ
ウム(実施例3参照)2 、24 mMo1のTHF9
0RQ溶液にリチウム粒1、Cg(143mA ton
)を常圧の水素ガス雰囲気下、0℃で撹拌しながら加え
るとゆっくりと一様な水素の吸収が始まる。反応混合物
を水素ガス雰囲気下、0℃で92時間撹拌し水素ガスの
吸収を終了させる。20℃において730mQの水素ガ
スが吸収される。
反応終了時までに水素化リチウムは沈澱して触媒と分離
される。赤外スペクトルにより水素化リチウムと同定さ
れた。水素ガスの吸収量からリチウムの43%が水素化
リチウムに変換され、触媒1モル当り水素化リチウム2
8モルが得られたことが示された。
される。赤外スペクトルにより水素化リチウムと同定さ
れた。水素ガスの吸収量からリチウムの43%が水素化
リチウムに変換され、触媒1モル当り水素化リチウム2
8モルが得られたことが示された。
応用例2
ベンゾ−1,2−ジチオール−3−チオン−ヘキサリチ
ウム錯化合物とFeCILをモル比6・1に組み合わせ
触媒として使用する水素化リチウムの製造ニー ヘンシー1,2−ジチオール−3−チオン−へキサリチ
ウム(実施例3参照)2.40mMolのTHF80z
f!溶液にFeCl30、C68g(C,4mMol)
を−30℃で撹拌しながら加え、混合物を一30℃で3
0分間撹拌する。この後、触媒溶液にリチウム粒1、C
g(143mAtom)を常圧の水素ガス雰囲気下、0
℃で撹拌しながら加えると、一様な水素の吸収が始まる
。94時間後、はぼ水素の吸収が終了する。水素化リチ
ウムのかさばった沈澱を得る。水素ガス吸収量(20℃
760m朴Igで1740mρ)からリチウムの101
%が水素化リチウムに変換され、触媒1モル当り水素化
リチウム60モルが得られたことが示された。
ウム錯化合物とFeCILをモル比6・1に組み合わせ
触媒として使用する水素化リチウムの製造ニー ヘンシー1,2−ジチオール−3−チオン−へキサリチ
ウム(実施例3参照)2.40mMolのTHF80z
f!溶液にFeCl30、C68g(C,4mMol)
を−30℃で撹拌しながら加え、混合物を一30℃で3
0分間撹拌する。この後、触媒溶液にリチウム粒1、C
g(143mAtom)を常圧の水素ガス雰囲気下、0
℃で撹拌しながら加えると、一様な水素の吸収が始まる
。94時間後、はぼ水素の吸収が終了する。水素化リチ
ウムのかさばった沈澱を得る。水素ガス吸収量(20℃
760m朴Igで1740mρ)からリチウムの101
%が水素化リチウムに変換され、触媒1モル当り水素化
リチウム60モルが得られたことが示された。
比較試験によれば、ベンゾ−1,2−ジチオール−3−
チオン−へキサリチウムの不存在下では、FeCl23
の存在、不存在いずれの場合もリチウムと水素は反応し
ないことが示された。
チオン−へキサリチウムの不存在下では、FeCl23
の存在、不存在いずれの場合もリチウムと水素は反応し
ないことが示された。
lb一
応用例3
ベンゾ−1,2−ジチオール−3−チオン−ヘキサリチ
ウム錯化合物を触媒として用いる窒素固定ニー リチウム粒1.28g(183mAtom)をTHF
8(JytrQに懸濁し、該懸濁液を窒素ガス雰囲気下
、0℃で磁気的に400 rpmで撹拌する。24時間
で窒素ガス18πQ(20℃で)が吸収される。リチウ
ム懸濁液にベンゾ−1,2−ジチオール−3−チオン0
.3(1(1,63mMol)を同一撹拌速度および温
度、窒素ガス雰囲気下で加える。数時間後(この間にベ
ンゾ−1,2−ジチオール−3−チオン−へキサリチウ
ム錯化合物が実施例3と同様に製造される。)、窒素ガ
スの吸収は相当加速される。
ウム錯化合物を触媒として用いる窒素固定ニー リチウム粒1.28g(183mAtom)をTHF
8(JytrQに懸濁し、該懸濁液を窒素ガス雰囲気下
、0℃で磁気的に400 rpmで撹拌する。24時間
で窒素ガス18πQ(20℃で)が吸収される。リチウ
ム懸濁液にベンゾ−1,2−ジチオール−3−チオン0
.3(1(1,63mMol)を同一撹拌速度および温
度、窒素ガス雰囲気下で加える。数時間後(この間にベ
ンゾ−1,2−ジチオール−3−チオン−へキサリチウ
ム錯化合物が実施例3と同様に製造される。)、窒素ガ
スの吸収は相当加速される。
ベンゾ−1,2−ジチオール−3−チオンを加えてから
130時間で窒素ガス吸収は終了し、全窒素ガス吸収量
は20℃で300m12である。これは投入リチウムの
41%が窒素化リチウムに変換されたことに対応する。
130時間で窒素ガス吸収は終了し、全窒素ガス吸収量
は20℃で300m12である。これは投入リチウムの
41%が窒素化リチウムに変換されたことに対応する。
ベンゾ−1,2−ジチオール−3−チオン−ヘキサリチ
ウム触媒1モル当り窒素化リチウム15モルが製造され
たことになる。
ウム触媒1モル当り窒素化リチウム15モルが製造され
たことになる。
窒素化リチウムを加水分解し収率95〜100%でアン
モニアを得た。
モニアを得た。
応用例4
ベンゾ−1,2−ジチオール−3−チオン−へキサリチ
ウム錯化合物と塩化第二鉄をモル比6・1に組み合わせ
触媒として用いる窒素固定ニー実施例3により製造した
ベンゾ−1,2−ジチオール−3−チオン−へキサリチ
ウム錯化合物2゜15 mMo1ノT HF 60 r
tr(l溶液調整後直チニ固体塩化第二鉄0、C58g
(C,36mMol)を−40°Cで撹拌しながら加え
る。混合物を一40℃で1時間撹拌する。その後、該溶
液にリチウム粒1.3g(+ 85mAtom)を常圧
の窒素ガス雰囲気下、0°Cで撹拌しながら加えると、
窒素ガスの吸収が始まる。撹拌速度を一定にし温度を同
一に保ち115時間かけ窒素ガス426Rρ(20℃で
)を吸収させる。これは投入リチウムの58%が窒素化
リチウムに変換されたことに対応し、触媒1モル当り窒
素化リチウム16.5モルがあるいは鉄1グラム原子当
り窒素化リチウム98モルが製造されたことになる。加
水分解により収率88%でアンモニアを得た。
ウム錯化合物と塩化第二鉄をモル比6・1に組み合わせ
触媒として用いる窒素固定ニー実施例3により製造した
ベンゾ−1,2−ジチオール−3−チオン−へキサリチ
ウム錯化合物2゜15 mMo1ノT HF 60 r
tr(l溶液調整後直チニ固体塩化第二鉄0、C58g
(C,36mMol)を−40°Cで撹拌しながら加え
る。混合物を一40℃で1時間撹拌する。その後、該溶
液にリチウム粒1.3g(+ 85mAtom)を常圧
の窒素ガス雰囲気下、0°Cで撹拌しながら加えると、
窒素ガスの吸収が始まる。撹拌速度を一定にし温度を同
一に保ち115時間かけ窒素ガス426Rρ(20℃で
)を吸収させる。これは投入リチウムの58%が窒素化
リチウムに変換されたことに対応し、触媒1モル当り窒
素化リチウム16.5モルがあるいは鉄1グラム原子当
り窒素化リチウム98モルが製造されたことになる。加
水分解により収率88%でアンモニアを得た。
特許出願人 シュツウディエンゲゼルシャフト・コール
・ミツト・ベシュレンク チル・ハフラング
・ミツト・ベシュレンク チル・ハフラング
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるアルカリ金属錯化合物 [式中、Meはアルカリ金属、X、X_1およびX_2
はそれぞれ硫黄または酸素、但し、XとX_1は同じで
あり、nは3〜12の整数、LおよびL’はそれぞれC
_2〜C_1_0モノもしくはポリ官能性エーテルまた
はC_1〜C_1_0モノもしくはポリ官能性アミン、
pおよびqはそれぞれ0〜4の整数、R^1およびR^
2はそれぞれ水素またはアリール基および/またはこれ
らの2個を合して形成される芳香族環式基を表わす。]
。 2、X、X_1およびX_2がそれぞれ硫黄である特許
請求の範囲第1項記載の化合物。 3、X、X_1およびX_2がそれぞれ酸素である特許
請求の範囲第1項記載の化合物。 4、アルカリ金属がリチウムである特許請求の範囲第1
項記載の化合物。 5、LまたはL’がテトラヒドロフランである特許請求
の範囲第1項記載の化合物。 6、LまたはL’がエチレングリコールのC_1〜C_
6ジアルキレンエーテルである特許請求の範囲第1項記
載の化合物。 7、C_1〜C_6ジアルキレンがジメチレンである特
許請求の範囲第6項記載の化合物。 8、LまたはL’がC_1〜C_6テトラアルキル−(
C_1〜C_6)アルキレンジアミンである特許請求の
範囲第1項記載の化合物。 9、C_1〜C_6テトラアルキルがテトラメチル、C
_1〜C_6アルキレンがエチレンである特許請求の範
囲第8項記載の化合物。
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