JPS62172648A - X線発生装置 - Google Patents
X線発生装置Info
- Publication number
- JPS62172648A JPS62172648A JP61012105A JP1210586A JPS62172648A JP S62172648 A JPS62172648 A JP S62172648A JP 61012105 A JP61012105 A JP 61012105A JP 1210586 A JP1210586 A JP 1210586A JP S62172648 A JPS62172648 A JP S62172648A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- electrode
- plasma
- gas
- extraction window
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61012105A JPS62172648A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | X線発生装置 |
| US06/857,112 US4771447A (en) | 1985-04-30 | 1986-04-29 | X-ray source |
| DE86105914T DE3688946T2 (de) | 1985-04-30 | 1986-04-29 | Röntgenstrahlungsquelle. |
| EP86105914A EP0201034B1 (en) | 1985-04-30 | 1986-04-29 | X-ray source |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61012105A JPS62172648A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | X線発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62172648A true JPS62172648A (ja) | 1987-07-29 |
| JPH0373101B2 JPH0373101B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 1991-11-20 |
Family
ID=11796285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61012105A Granted JPS62172648A (ja) | 1985-04-30 | 1986-01-24 | X線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62172648A (cg-RX-API-DMAC7.html) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003503814A (ja) * | 1999-06-29 | 2003-01-28 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー.ファオ. | ガス放電から超紫外線および軟x線を生成する装置 |
| JP2006216394A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置用ノズル |
| JP2008522355A (ja) * | 2004-11-29 | 2008-06-26 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 約1nmから約30nmの波長範囲の放射線を発生させる方法および機器、ならびにリソグラフィー装置または測定装置での使用 |
| JP2008522379A (ja) * | 2004-12-04 | 2008-06-26 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 電気放電装置を動作させる方法及び機器 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61200695A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-05 | マツクスウエル・ラボラトリ−ズ・インコ−ポレ−テツド | 軟x線を発生する装置 |
-
1986
- 1986-01-24 JP JP61012105A patent/JPS62172648A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61200695A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-05 | マツクスウエル・ラボラトリ−ズ・インコ−ポレ−テツド | 軟x線を発生する装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003503814A (ja) * | 1999-06-29 | 2003-01-28 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー.ファオ. | ガス放電から超紫外線および軟x線を生成する装置 |
| JP2008522355A (ja) * | 2004-11-29 | 2008-06-26 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 約1nmから約30nmの波長範囲の放射線を発生させる方法および機器、ならびにリソグラフィー装置または測定装置での使用 |
| JP2008522379A (ja) * | 2004-12-04 | 2008-06-26 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 電気放電装置を動作させる方法及び機器 |
| JP2006216394A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置用ノズル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0373101B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 1991-11-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4771447A (en) | X-ray source | |
| US4749912A (en) | Ion-producing apparatus | |
| JPS60175351A (ja) | X線発生装置およびx線露光法 | |
| JPH03129700A (ja) | プラズマ源によりレントゲンビームを発生する装置 | |
| JP2008535193A (ja) | 電子及びプラズマのビームを発生し、加速し、伝播するための装置及びプロセス | |
| JP2003007237A (ja) | X線発生装置 | |
| JPS63503022A (ja) | プラズマ陽極電子銃 | |
| JPS62172648A (ja) | X線発生装置 | |
| US6774381B2 (en) | Electron beam system for treating filamentary workpiece, and method of fabricating optical fibers | |
| JP3064214B2 (ja) | 高速原子線源 | |
| JPH05101799A (ja) | イオンビーム発生装置および成膜装置および成膜方法 | |
| US3022933A (en) | Multiple electron beam ion pump and source | |
| JPH0372183B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| EP0469631B1 (en) | Ion pump and vacuum pumping unit using the same | |
| JPS61250948A (ja) | X線発生装置およびx線露光法 | |
| JP3143016B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
| JPH0638391B2 (ja) | X線露光装置 | |
| JP3079789B2 (ja) | プラズマ銃及びプラズマ発生装置 | |
| JPH02121233A (ja) | イオン源 | |
| JPH07101640B2 (ja) | 中性粒子ビーム照射装置 | |
| JPH03102748A (ja) | パルスx線管 | |
| JP3624986B2 (ja) | ビーム加工方法及び装置 | |
| JPH0135509B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) | ||
| JPS60150547A (ja) | プラズマx線発生装置 | |
| JPH05101899A (ja) | 中性粒子ビーム照射装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |