JPS62160137A - 粉粒体処理方法および装置 - Google Patents
粉粒体処理方法および装置Info
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- JPS62160137A JPS62160137A JP308186A JP308186A JPS62160137A JP S62160137 A JPS62160137 A JP S62160137A JP 308186 A JP308186 A JP 308186A JP 308186 A JP308186 A JP 308186A JP S62160137 A JPS62160137 A JP S62160137A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/38—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it
- B01J8/384—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it being subject to a circulatory movement only
- B01J8/386—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it being subject to a circulatory movement only internally, i.e. the particles rotate within the vessel
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は粉粒体処理技術、特に、容器内に供給されるガ
スの働きにより粉粒体を流動化させて造粒、コーチング
、混合、乾燥などの処理を行うために用いて効果のある
粉粒体処理方法および装置に関するものである。
スの働きにより粉粒体を流動化させて造粒、コーチング
、混合、乾燥などの処理を行うために用いて効果のある
粉粒体処理方法および装置に関するものである。
粉粒体、たとえば食品、医薬品などの粉末や粒状原料に
対しての造粒、コーチング、混合、乾燥などの処理を施
すための技術としては様々なものが提案されている。そ
の中の１つに、容器内に供給されるガス流で粉粒体を流
動化させることにより所望の処理を行う流動床式の粉粒
体処理技術があり、従来から広（用いられている。
対しての造粒、コーチング、混合、乾燥などの処理を施
すための技術としては様々なものが提案されている。そ
の中の１つに、容器内に供給されるガス流で粉粒体を流
動化させることにより所望の処理を行う流動床式の粉粒
体処理技術があり、従来から広（用いられている。
ところで、このような粉粒体処理装置の１つとして、特
開昭５９−７３０４１号公報には、略球形の容器の上方
向から挿入された浸漬管を経て粉粒体中にガスを供給す
ることによって粉粒体を流動化させて所望の処理を行う
ものが開示されている。この型式の装置は、簡単な構造
で造粒、コーチングなどを比較的良好に実施できるもの
である。
開昭５９−７３０４１号公報には、略球形の容器の上方
向から挿入された浸漬管を経て粉粒体中にガスを供給す
ることによって粉粒体を流動化させて所望の処理を行う
ものが開示されている。この型式の装置は、簡単な構造
で造粒、コーチングなどを比較的良好に実施できるもの
である。
しかしながら、前記流動床装置は浸漬管から下向きに噴
出されたガスを深皿状の容器底部で半径方向外側に偏向
させて上昇させるものであるので、ガス流の力は容器底
部との衝突により弱められ、その際の力のロスにより、
ガス流の流動化作用は必ずしも十分ではない場合がある
。また、このガス流は容器内に充填された粉粒体層の中
を上昇するので、勢い、粉粒体層の弱い部分のみにガス
流が集中的に通過する傾向があり、特に大型の装置にお
いては粉粒体層の圧力に打ち鳴っためのエネルギーロス
を生ずるので、この傾向が強い、その結果、ガス流と粉
粒体との接触が必ずしも均一に行われず、容器内にデッ
ドスペースが形成されることにより、団粒や、未コーチ
ング物や未乾燥物などの処理不良部分が発生するなどの
問題点がある。
出されたガスを深皿状の容器底部で半径方向外側に偏向
させて上昇させるものであるので、ガス流の力は容器底
部との衝突により弱められ、その際の力のロスにより、
ガス流の流動化作用は必ずしも十分ではない場合がある
。また、このガス流は容器内に充填された粉粒体層の中
を上昇するので、勢い、粉粒体層の弱い部分のみにガス
流が集中的に通過する傾向があり、特に大型の装置にお
いては粉粒体層の圧力に打ち鳴っためのエネルギーロス
を生ずるので、この傾向が強い、その結果、ガス流と粉
粒体との接触が必ずしも均一に行われず、容器内にデッ
ドスペースが形成されることにより、団粒や、未コーチ
ング物や未乾燥物などの処理不良部分が発生するなどの
問題点がある。
本発明は、前記問題点を解決するためになされたもので
、その目的は、被処理原料である粉粒体とガスとの接触
を万遍なく、均一かつ確実に行わせ、容器内にデッドス
ペースが形成されたり、団粒や未コーチング、未乾燥な
どの処理不良部分を発生することなく、良好な処理を効
率的に行うことのできる粉粒体処理方法および装置を提
供することにある。
、その目的は、被処理原料である粉粒体とガスとの接触
を万遍なく、均一かつ確実に行わせ、容器内にデッドス
ペースが形成されたり、団粒や未コーチング、未乾燥な
どの処理不良部分を発生することなく、良好な処理を効
率的に行うことのできる粉粒体処理方法および装置を提
供することにある。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、前記目的を達成するため、容器内に流動化用
のガスを下向きに供給するガス供給管とは別にガイド管
を配設し、該ガイド管により形成されたガイド空間を経
てガスと粉粒体を上昇させ、ガイド管の上方から容器内
に半径方向外側に放出拡散させ、さらに下降させた後、
再び前記ガイド空間内を上昇させるという流動循環系を
形成することにより、空気流の持つ運動エネルギーを有
効に利用し、粉粒体とガスとの接触をガイド空間などで
分散状態で万遍なく、均一かつ確実に行わせることがで
き、前記目的を確実に達成することができるものである
。
のガスを下向きに供給するガス供給管とは別にガイド管
を配設し、該ガイド管により形成されたガイド空間を経
てガスと粉粒体を上昇させ、ガイド管の上方から容器内
に半径方向外側に放出拡散させ、さらに下降させた後、
再び前記ガイド空間内を上昇させるという流動循環系を
形成することにより、空気流の持つ運動エネルギーを有
効に利用し、粉粒体とガスとの接触をガイド空間などで
分散状態で万遍なく、均一かつ確実に行わせることがで
き、前記目的を確実に達成することができるものである
。
〔実施例１〕
第１図は本発明の一実施例である粉粒体処理装置の断面
図である。
図である。
この実施例において、内部に粉粒体原料を充填して流動
化により処理するための容器１は、下部が円筒状部、そ
の上側が傾斜部、さらにその上側が大径の円筒状部を有
する傾斜部付き円筒構造である。容器１は通常は金属で
製作されるが、内部の粉粒体処理状態を外部から視認で
きるように、たとえばガラスやプラスチックなどの透明
材料などで作ることもできる。この容器１の内部におけ
るほぼ軸中心部には、該容器１の側方から該容器ｌ内に
挿入されて先端部分が垂直に下降するよう曲げられたガ
ス供給管２が下方向に延びており、その下端は容器１の
底部近くで終端して開口している。このガス供給管２は
、粉粒体原料の流動化用の加熱ガスなどのガスを容器１
内に下向きに供給するものである。
化により処理するための容器１は、下部が円筒状部、そ
の上側が傾斜部、さらにその上側が大径の円筒状部を有
する傾斜部付き円筒構造である。容器１は通常は金属で
製作されるが、内部の粉粒体処理状態を外部から視認で
きるように、たとえばガラスやプラスチックなどの透明
材料などで作ることもできる。この容器１の内部におけ
るほぼ軸中心部には、該容器１の側方から該容器ｌ内に
挿入されて先端部分が垂直に下降するよう曲げられたガ
ス供給管２が下方向に延びており、その下端は容器１の
底部近くで終端して開口している。このガス供給管２は
、粉粒体原料の流動化用の加熱ガスなどのガスを容器１
内に下向きに供給するものである。
前記ガス供給管２の垂直方向延長部の外側には、該ガス
供給管２の下端から下向きに供給されたガスをガイドし
て粉粒体と共に上昇させるためにガイド管３が同軸状に
配設されている。すなわち、このガイド管３を設けたこ
とにより、ガス供給管２の外周とガイド管３の内周との
間には、環状ガイド空間４が円筒状に形成され、ガス供
給管２の下端から下向きに供給されたガスはこのガイド
空間４を通って粉粒体原料と共に上昇される。そして、
このガイド空間４内を上昇中の粉粒体は分散状態で上昇
するので、該ガイド空間４内でガスと粉粒体との接触を
万遍なく、均一かつ確実に行わせて、効率の良い処理を
良好に行うことができるものである。
供給管２の下端から下向きに供給されたガスをガイドし
て粉粒体と共に上昇させるためにガイド管３が同軸状に
配設されている。すなわち、このガイド管３を設けたこ
とにより、ガス供給管２の外周とガイド管３の内周との
間には、環状ガイド空間４が円筒状に形成され、ガス供
給管２の下端から下向きに供給されたガスはこのガイド
空間４を通って粉粒体原料と共に上昇される。そして、
このガイド空間４内を上昇中の粉粒体は分散状態で上昇
するので、該ガイド空間４内でガスと粉粒体との接触を
万遍なく、均一かつ確実に行わせて、効率の良い処理を
良好に行うことができるものである。
前記ガス供給管２の下端から下向きに供給されたガスを
上向きに偏向させてガイド空間４内を上昇させるため、
容器１の底部の中央部におけるガス供給管２の下端との
対向位置には、該ガス供給管２からのガスを受は止めて
前記ガイド空間４の方向に偏向させるような上向き凹面
形状の曲面５ａを持つ製品排出弁５が配設されている。
上向きに偏向させてガイド空間４内を上昇させるため、
容器１の底部の中央部におけるガス供給管２の下端との
対向位置には、該ガス供給管２からのガスを受は止めて
前記ガイド空間４の方向に偏向させるような上向き凹面
形状の曲面５ａを持つ製品排出弁５が配設されている。
そのため、製品排出弁５は、図示の位置から軸６と共に
流体で作動するシリンダまたはラック・ウオーム機構な
どの昇降機構（図示せず）で上昇させることにより、容
器１内で処理された製品を製品排出路７を経て下方に排
出できるよう構成されている。
流体で作動するシリンダまたはラック・ウオーム機構な
どの昇降機構（図示せず）で上昇させることにより、容
器１内で処理された製品を製品排出路７を経て下方に排
出できるよう構成されている。
また、容器１内を負圧にすることにより、製品排出路７
の下端より原料を装置内に吸引して供給することが可能
である。
の下端より原料を装置内に吸引して供給することが可能
である。
また、前記ガス供給管２の下端からのガスをガイド空間
４の方向に上向きに偏向させるため、容器１の底部には
、容器１内の粉粒体原料に造粒またはコーチングなどの
ためにバインダ液および粉体の両方またはいずれか一方
などを供給するためのノズル８が前記ガイド空間４の方
向に向けて配設されている。勿論、このノズル８はバイ
ンダ液と偏向用のガスとを供給する二流体ノズルもしく
は三流体ノズルであってもよく、あるいは偏向用のガス
のみを供給するノズルであってもよい、もっとも、後者
の場合には、液体および粉体の両方またはいずれか一方
の供給用のノズル８ａをたとえば二点鎖線で示す如く設
けてもよい。
４の方向に上向きに偏向させるため、容器１の底部には
、容器１内の粉粒体原料に造粒またはコーチングなどの
ためにバインダ液および粉体の両方またはいずれか一方
などを供給するためのノズル８が前記ガイド空間４の方
向に向けて配設されている。勿論、このノズル８はバイ
ンダ液と偏向用のガスとを供給する二流体ノズルもしく
は三流体ノズルであってもよく、あるいは偏向用のガス
のみを供給するノズルであってもよい、もっとも、後者
の場合には、液体および粉体の両方またはいずれか一方
の供給用のノズル８ａをたとえば二点鎖線で示す如く設
けてもよい。
一方、容器１の上部には、ガイド空間４内を上昇して来
たガスと粉粒体の流れを円滑に半径方向外側かつ下方向
に偏向させるための下向き凹面形状の偏向ｖｉ、９がガ
ス供給管２で支持されている。
たガスと粉粒体の流れを円滑に半径方向外側かつ下方向
に偏向させるための下向き凹面形状の偏向ｖｉ、９がガ
ス供給管２で支持されている。
さらに、偏向板９の上方には、微粉末が系外に放散され
るのを防止するバグフィルタ１１が設けられている。ま
た、バグフィルタ１１よりも上側における容器１の上部
にはガス排出口１２が開口している。なお、本実施例の
容器はバグフィルタ１１などを設けた上部分が下部分と
は別体とされ、図示しない蝶番などで上部分を開放して
清掃もしくは粉粒体原料の投入を行うことが可能となっ
ている。
るのを防止するバグフィルタ１１が設けられている。ま
た、バグフィルタ１１よりも上側における容器１の上部
にはガス排出口１２が開口している。なお、本実施例の
容器はバグフィルタ１１などを設けた上部分が下部分と
は別体とされ、図示しない蝶番などで上部分を開放して
清掃もしくは粉粒体原料の投入を行うことが可能となっ
ている。
次に、本実施例の作用について説明する。
まず、容器ｌ内に所定量の粉粒体原料を投入し、ガス供
給管２の下端から容器１の底部に流動化用の加熱ガスな
どの所要のガスを下向きに供給すると共に、ノズル８か
らガイド空間４の下部に向けてたとえばバインダ液など
の液体およびガスの両方またはいずれか一方を噴出する
。
給管２の下端から容器１の底部に流動化用の加熱ガスな
どの所要のガスを下向きに供給すると共に、ノズル８か
らガイド空間４の下部に向けてたとえばバインダ液など
の液体およびガスの両方またはいずれか一方を噴出する
。
それにより、ガス供給管２の下端がら下向きに供給され
たガスはその下方の製品排出弁５の曲面５ａの働きによ
り上方向に偏向されると共に、ノズル８からの流体の噴
出力により上向きに偏向され、ガイド空間４内を上昇さ
せられる。この上昇ガス流の力により容器１内の粉粒体
原料は、該容器１の底部壁面の半径方向外側へのショー
トパスを生じることなく、該上昇ガス流と共にガイド空
間４内を上昇した後、ガイド管３の上方から噴出されて
偏向板９で半径方向外側がっ下方に偏向させられる。そ
の後、粉粒体は重力によって容器１の中を落下した後、
再び上昇ガス流と共にガイド空間４内を上昇させられる
。
たガスはその下方の製品排出弁５の曲面５ａの働きによ
り上方向に偏向されると共に、ノズル８からの流体の噴
出力により上向きに偏向され、ガイド空間４内を上昇さ
せられる。この上昇ガス流の力により容器１内の粉粒体
原料は、該容器１の底部壁面の半径方向外側へのショー
トパスを生じることなく、該上昇ガス流と共にガイド空
間４内を上昇した後、ガイド管３の上方から噴出されて
偏向板９で半径方向外側がっ下方に偏向させられる。そ
の後、粉粒体は重力によって容器１の中を落下した後、
再び上昇ガス流と共にガイド空間４内を上昇させられる
。
したがって、容器１内には、ガス供給管２からガイド空
間４内を上昇して半径方向外側に偏向され、容器ｌの内
壁面に沿って落下し、再び該ガイド空間４内を上昇され
るガスおよび粉粒体原料の循環流が形成される。この容
器１の下部においては、供給ガスの偏向流と、ノズル８
よりの空気流の作用により、安定な流動層が形成され、
粉粒体原料はノズル８または８ａから供給されたバイン
ダー液などの作用により所望の造粒、コーチングが行わ
れ、また、このガイド空間４内を上昇することによって
乾燥が行われる。
間４内を上昇して半径方向外側に偏向され、容器ｌの内
壁面に沿って落下し、再び該ガイド空間４内を上昇され
るガスおよび粉粒体原料の循環流が形成される。この容
器１の下部においては、供給ガスの偏向流と、ノズル８
よりの空気流の作用により、安定な流動層が形成され、
粉粒体原料はノズル８または８ａから供給されたバイン
ダー液などの作用により所望の造粒、コーチングが行わ
れ、また、このガイド空間４内を上昇することによって
乾燥が行われる。
また、粉粒体原料は、ガイド空間４内を上昇中にガス供
給管２の外面およびガイド管３の内面と摩擦接触したり
、また偏向板９の偏向面、さらには容器１の内壁面と接
触したり、粉粒体どうしで接触し合ったりすることによ
り、粒子に付着したコーチンダ液膜の展延が促進され、
極めて光沢の良好な被膜をもったコーチング粒子あるい
は球形粒製品を効率良く得ることができる。
給管２の外面およびガイド管３の内面と摩擦接触したり
、また偏向板９の偏向面、さらには容器１の内壁面と接
触したり、粉粒体どうしで接触し合ったりすることによ
り、粒子に付着したコーチンダ液膜の展延が促進され、
極めて光沢の良好な被膜をもったコーチング粒子あるい
は球形粒製品を効率良く得ることができる。
特に、ガス供給管２の外面および偏向板９の偏向面は温
度が高くなるので、粉粒体がこれらの面と接触すること
により前記作用が促進される。
度が高くなるので、粉粒体がこれらの面と接触すること
により前記作用が促進される。
しかも、容器ｌ内には、粉粒体の滞留するデッドスペー
スが形成されないので、団粒の形成や、未コーチングあ
るいは未乾燥などの処理不良部分を生じることなく、均
一な処理を確実に行うことができる。
スが形成されないので、団粒の形成や、未コーチングあ
るいは未乾燥などの処理不良部分を生じることなく、均
一な処理を確実に行うことができる。
〔実施例２〕
第２図は本発明の他の実施例にょる粉粒体処理装置を示
す断面図である。
す断面図である。
本実施例２の装置における容器１は底部がガスおよび粉
粒体の循環流を円滑に形成できるよう曲面状に形成され
ている他は、略円筒形の形状を有している。
粒体の循環流を円滑に形成できるよう曲面状に形成され
ている他は、略円筒形の形状を有している。
この容器１の下部には、ノズル８の周囲の補助ガス噴出
口１３ａから容器ｌ内に補助ガスを噴出して、ノズル８
からのバインダ液などの噴霧の安定化を図り、かつガス
供給管２がらのガスのガイド空間４内への上昇作用を促
進する補助ガス供給機構１３が付設されている。
口１３ａから容器ｌ内に補助ガスを噴出して、ノズル８
からのバインダ液などの噴霧の安定化を図り、かつガス
供給管２がらのガスのガイド空間４内への上昇作用を促
進する補助ガス供給機構１３が付設されている。
さらに、粉粒体原料が容器１内で互いにがっ容器内壁面
とこすれ合うことにより、静電気が発生し、この静電気
の付着力によって粉粒体の円滑な運動が阻害されること
があり、またこの静電気が原因となって発生する火花に
よって粉塵爆発を惹起することもある。そこで、本実施
例２では、この高電圧の静電気を除去するため、容器１
の中に埋め込まれた金属線や炭素繊維などの導電線１４
ａ１およびこの導電線１４ａと導電接続されかつ容器１
内に一部突出する導電ピン１４ｂを有する静電気除去機
構１４が設けられている。
とこすれ合うことにより、静電気が発生し、この静電気
の付着力によって粉粒体の円滑な運動が阻害されること
があり、またこの静電気が原因となって発生する火花に
よって粉塵爆発を惹起することもある。そこで、本実施
例２では、この高電圧の静電気を除去するため、容器１
の中に埋め込まれた金属線や炭素繊維などの導電線１４
ａ１およびこの導電線１４ａと導電接続されかつ容器１
内に一部突出する導電ピン１４ｂを有する静電気除去機
構１４が設けられている。
さらに、本実施例２は偏向板９を別に設けていないが、
本実施例２のように容器ｌの上壁部の内面形状を循環ガ
スの流れに滞溜が生しないような形状としても、ガス流
の偏向などに関するそれらの本質的機能は実施例１のも
のと実質的に同じである。
本実施例２のように容器ｌの上壁部の内面形状を循環ガ
スの流れに滞溜が生しないような形状としても、ガス流
の偏向などに関するそれらの本質的機能は実施例１のも
のと実質的に同じである。
本実施例２においても、ガイド管３をガス供給管２の外
側に配設して両管２，３間にガイド空間４を形成したこ
とにより、容器１内の粉粒体とガス供給管２からのガス
はガイド空間４内を円滑に上昇するので、粉粒体原料は
均一かつ確実に処理でき、また団粒や未処理不良などを
生じることがない。
側に配設して両管２，３間にガイド空間４を形成したこ
とにより、容器１内の粉粒体とガス供給管２からのガス
はガイド空間４内を円滑に上昇するので、粉粒体原料は
均一かつ確実に処理でき、また団粒や未処理不良などを
生じることがない。
さらに、本実施例２では、補助ガス供給機構１３による
補助ガスの働きによってノズル８からの液体噴霧が安定
化され、かつガイド空間４内へのガスおよび粉粒体の上
昇流の形成の促進化が図られる。
補助ガスの働きによってノズル８からの液体噴霧が安定
化され、かつガイド空間４内へのガスおよび粉粒体の上
昇流の形成の促進化が図られる。
しかも、本実施例２によれば、静電気除去機構１４によ
り容器１内への高電圧の静電気蓄積およびそれに起因す
る爆発の防止を図ることができる。
り容器１内への高電圧の静電気蓄積およびそれに起因す
る爆発の防止を図ることができる。
〔実施例３〕
第３図は本発明のさらに他の実施例による粉粒体処理装
置の断面図である。
置の断面図である。
この実施例３においては、容器１は下部の主処理部が略
球形、上部が円筒形の形状よりなる。この容器１の底部
におけるノズル８の近傍には、中空ドーナツ状の環状ノ
ズル１３ｂよりなる補助ガス供給機構１３が設けられ、
環状ノズル１３ｂの補助ガス噴出口１３Ｃはガイド空間
４の下部方向に補助ガスを噴出するよう配向されている
。この補助ガス噴出口１３ｃは図示の例のように環状ノ
ズル１３ｂに沿って不連続に複数個形成してもよいが、
環状スリット状に連続する噴出口構造として形成するこ
ともできる。
球形、上部が円筒形の形状よりなる。この容器１の底部
におけるノズル８の近傍には、中空ドーナツ状の環状ノ
ズル１３ｂよりなる補助ガス供給機構１３が設けられ、
環状ノズル１３ｂの補助ガス噴出口１３Ｃはガイド空間
４の下部方向に補助ガスを噴出するよう配向されている
。この補助ガス噴出口１３ｃは図示の例のように環状ノ
ズル１３ｂに沿って不連続に複数個形成してもよいが、
環状スリット状に連続する噴出口構造として形成するこ
ともできる。
また、本実施例３では、容器１内の粉粒体原料が滞留し
易い底部付近において該容器１内にガスを間欠的に流入
させてその部分における粉粒体の滞留を防止するガス流
入部１５、およびガス源１６からのガスの供給を制御す
る弁１７が設けられている。
易い底部付近において該容器１内にガスを間欠的に流入
させてその部分における粉粒体の滞留を防止するガス流
入部１５、およびガス源１６からのガスの供給を制御す
る弁１７が設けられている。
ガス流入部１５はたとえば焼結金属または濾布などの通
気性材料で形成されている。このガス流入部１５は粉粒
体の滞留防止や団粒化防止に加えて、容器１の底部の周
方向における粉粒体循環流の不均一性を防止する役割も
果たすためには、周方向の複数個所に設けることができ
、それにより粉粒体処理が部分的に不均一になることを
防止でき、さらに乾燥の促進やガス量の節減を図ること
ができる。
気性材料で形成されている。このガス流入部１５は粉粒
体の滞留防止や団粒化防止に加えて、容器１の底部の周
方向における粉粒体循環流の不均一性を防止する役割も
果たすためには、周方向の複数個所に設けることができ
、それにより粉粒体処理が部分的に不均一になることを
防止でき、さらに乾燥の促進やガス量の節減を図ること
ができる。
さらに、本実施例３においては、容器１の上部分内にバ
グフィルタ１１が設けられ、その上方に略し形の回転ノ
ズル１８が配設されている。この回転ノズル１８は下方
向に開口した流体噴出口１８ａを複数個備え、ロータリ
ジヨイント１９において図示しない駆動手段により垂直
軸線の回りで回転可能である。この回転ノズル１８によ
り、容器ｌ内で発生するダストを捕集するバグフィルタ
１１の目詰まりを防止し、安定な空気流を保つことがで
きる。
グフィルタ１１が設けられ、その上方に略し形の回転ノ
ズル１８が配設されている。この回転ノズル１８は下方
向に開口した流体噴出口１８ａを複数個備え、ロータリ
ジヨイント１９において図示しない駆動手段により垂直
軸線の回りで回転可能である。この回転ノズル１８によ
り、容器ｌ内で発生するダストを捕集するバグフィルタ
１１の目詰まりを防止し、安定な空気流を保つことがで
きる。
本実施例３においても、前記実施例１および２のように
ガイド管３などによる処理の均一、確実化、さらには静
電気除去１１ｔｌｉ１４による静電気除去効果などに加
えて、環状ノズル１３ｂによる噴霧の安定化およびガス
や粉粒体の上昇促進、ガス流入部１５による粉粒体の滞
留防止および均一化が図られる他に、回転ノズル１８に
よるバグフィルタ１１の良好な清浄化が可能であること
などの優れた諸効果を相乗的に奏することができる。
ガイド管３などによる処理の均一、確実化、さらには静
電気除去１１ｔｌｉ１４による静電気除去効果などに加
えて、環状ノズル１３ｂによる噴霧の安定化およびガス
や粉粒体の上昇促進、ガス流入部１５による粉粒体の滞
留防止および均一化が図られる他に、回転ノズル１８に
よるバグフィルタ１１の良好な清浄化が可能であること
などの優れた諸効果を相乗的に奏することができる。
なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
他の様々な変形が可能である。
他の様々な変形が可能である。
たとえば、容器の形状などを他の形状にしたり、ガイド
管やガス供給管の寸法や構造を変えることなども可能で
ある。また、ガイド管はガス供給管の外側に同軸的に設
ける以外に、ガス供給管とは別に設けてもよく、さらに
、ガス供給管紅よびガイド管の少なくとも一方の高さ位
置を調整可能にし、容器内の粉粒体原料の量などの処理
条件に合わせて最適な処理を行うこともできる。
管やガス供給管の寸法や構造を変えることなども可能で
ある。また、ガイド管はガス供給管の外側に同軸的に設
ける以外に、ガス供給管とは別に設けてもよく、さらに
、ガス供給管紅よびガイド管の少なくとも一方の高さ位
置を調整可能にし、容器内の粉粒体原料の量などの処理
条件に合わせて最適な処理を行うこともできる。
さらに、本発明の装置は医薬や食品以外の材料の様々な
処理にも広く適用できる。
処理にも広く適用できる。
（１）、粉粒体を収容した容器の中に上方向から該粉粒
体の流動化用のガスを供給し、このガスを前記容器の内
部でガイド手段内を上方向に強制的にガイドし、その上
方向へのガス流に粉粒体を同伴させ、前記ガイド手段の
中を通って前記ガス流と共に上昇した粉粒体の流れを前
記容器内に戻し、再び前記ガイド手段内に循環させるこ
とにより、粉粒体はガイド手段内を分散状態でガス流と
共に円滑に上昇しながらガスと万遍なく接触できるので
、粉粒体は均一かつ確実に所望の処理を受けることがで
きる。
体の流動化用のガスを供給し、このガスを前記容器の内
部でガイド手段内を上方向に強制的にガイドし、その上
方向へのガス流に粉粒体を同伴させ、前記ガイド手段の
中を通って前記ガス流と共に上昇した粉粒体の流れを前
記容器内に戻し、再び前記ガイド手段内に循環させるこ
とにより、粉粒体はガイド手段内を分散状態でガス流と
共に円滑に上昇しながらガスと万遍なく接触できるので
、粉粒体は均一かつ確実に所望の処理を受けることがで
きる。
（２）、粉粒体を収容して処理する容器と、少なくとも
先端部分が前記容器内に上方向から挿入され、その下端
部から前記容器内に粉粒体の流動化用のガスを供給する
ガス供給管と、このガス供給管の外側に設けられて該ガ
ス供給管の外周面との間に粉粒体およびガスの上昇用の
ガイド空間を形成するガイド管と、前記ガス供給管の下
端部から噴出されたガスを前記ガイド空間に向けて上昇
させる流体噴射用のノズルとからなることにより、ガス
供給管から容器内に下向きに供給されるガスはガイド空
間内で粉粒体を分散状態にさせながら円滑に上昇できる
ので、粉粒体とガスとの接触を万遍なく、均一かつ確実
に行うことができ、効率の良い処理が可能である。
先端部分が前記容器内に上方向から挿入され、その下端
部から前記容器内に粉粒体の流動化用のガスを供給する
ガス供給管と、このガス供給管の外側に設けられて該ガ
ス供給管の外周面との間に粉粒体およびガスの上昇用の
ガイド空間を形成するガイド管と、前記ガス供給管の下
端部から噴出されたガスを前記ガイド空間に向けて上昇
させる流体噴射用のノズルとからなることにより、ガス
供給管から容器内に下向きに供給されるガスはガイド空
間内で粉粒体を分散状態にさせながら円滑に上昇できる
ので、粉粒体とガスとの接触を万遍なく、均一かつ確実
に行うことができ、効率の良い処理が可能である。
（３）、前記（２）により、容器内における粉粒体の循
環流動が円滑に行われ、デッドスペースが形成されない
ので、粉粒体の団粒化や、未コーチングや未乾燥などの
処理不良部分の発生を確実に防止できる。
環流動が円滑に行われ、デッドスペースが形成されない
ので、粉粒体の団粒化や、未コーチングや未乾燥などの
処理不良部分の発生を確実に防止できる。
第１図は本発明の一実施例である粉粒体処理装置の断面
図、第２図は本発明の他の実施例にょる粉粒体処理装置
を示す断面図、第３図は本発明のさらに他の実施例にょ
る粉粒体処理装置の断面図である。 １・・・・・容器、 ２・・・・・ガス供給管、 ３ ・ ・ ・ ・ ・ガイド管、 ４・・・・・ガイド空間、 ５・・・・・製品排出弁、 ５ａ・・・・曲面、 ６・・・・・軸、 ７・・・・・製品排出路、 ８．８ａ・・ノズル、 ９・・・・・偏向板、 １１・・・・・バグフィルタ、 １２・・・・・ガイド排出口、 １３・・・・・補助ガス供給機構、 １３ａ・・・・補助ガス噴出口、 １３ｂ・・・・環状ノズル、 １３ｃ・・・・補助ガス噴出口、 １４・・・・・静電気除去機構、 １４ａ・・・・導電線、 １４ｂ・・・・導電ピン、 １５・・・・・ガス流入部、 １６・・・・・ガス源、 １７・・・・・弁、 １８・・・・・回転ノズル、 １８ａ・・・・流体噴出口、 １９・・・・・ロータリジヨイント。 特許出願人 フロイント産業株式会社代理人 弁理士
筒 井 大 相 同 弁理士 松 倉 秀 実 第１図 第２図 第３図 ↓
図、第２図は本発明の他の実施例にょる粉粒体処理装置
を示す断面図、第３図は本発明のさらに他の実施例にょ
る粉粒体処理装置の断面図である。 １・・・・・容器、 ２・・・・・ガス供給管、 ３ ・ ・ ・ ・ ・ガイド管、 ４・・・・・ガイド空間、 ５・・・・・製品排出弁、 ５ａ・・・・曲面、 ６・・・・・軸、 ７・・・・・製品排出路、 ８．８ａ・・ノズル、 ９・・・・・偏向板、 １１・・・・・バグフィルタ、 １２・・・・・ガイド排出口、 １３・・・・・補助ガス供給機構、 １３ａ・・・・補助ガス噴出口、 １３ｂ・・・・環状ノズル、 １３ｃ・・・・補助ガス噴出口、 １４・・・・・静電気除去機構、 １４ａ・・・・導電線、 １４ｂ・・・・導電ピン、 １５・・・・・ガス流入部、 １６・・・・・ガス源、 １７・・・・・弁、 １８・・・・・回転ノズル、 １８ａ・・・・流体噴出口、 １９・・・・・ロータリジヨイント。 特許出願人 フロイント産業株式会社代理人 弁理士
筒 井 大 相 同 弁理士 松 倉 秀 実 第１図 第２図 第３図 ↓
Claims (13)
- （１）、粉粒体を収容した容器の中に上方向から該粉粒
体の流動化用のガスを供給し、このガスを前記容器の内
部でガイド手段内を上方向に強制的にガイドし、その上
方向へのガス流に粉粒体を同伴させ、前記ガイド手段の
中を通って前記ガス流と共に上昇した粉粒体の流れを前
記容器内に戻し、再び前記ガイド手段内に循環させる粉
粒体処理方法。 - （２）、前記容器の中に上方向から供給されたガスがそ
のガス流供給方向とはほぼ反対方向にガイド手段内をガ
イドされながら粉粒体と共に上昇することを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の粉粒体処理方法。 - （３）、粉粒体を収容して処理する容器と、少なくとも
先端部分が前記容器内に上方向から挿入され、その下端
部から前記容器内に粉粒体の流動化用のガスを供給する
ガス供給管と、このガス供給管の外側に設けられて該ガ
ス供給管の外周面との間に粉粒体およびガスの上昇用の
ガイド空間を形成するガイド管と、前記ガス供給管の下
端部から噴出されたガスを前記ガイド空間に向けて上昇
させる流体噴射用のノズルとからなることを特徴とする
粉粒体処理装置。 - （４）、前記ノズルが、粉粒体に液体を供給する液体供
給ノズルであり、この液体供給ノズルの近傍には、前記
液体の供給を補助するガスを供給する機構が配設されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の粉粒
体処理装置。 - （５）、前記液体の供給を補助するガスを供給する機構
が、前記ガイド空間に向けてガスを噴出する連続または
不連続のガス噴出孔を備えたガス供給機構であることを
特徴とする特許請求の範囲第４項記載の粉粒体処理装置
。 - （６）、前記液体の供給を補助するガスを供給する機構
が、前記液体供給ノズルの周囲から前記ガイド空間に向
けてガスを噴出するノズル機構であることを特徴とする
特許請求の範囲第４項記載の粉粒体処理装置。 - （７）、前記ノズルが、前記ガイド空間の下部に向けて
上昇用のガスを噴出するノズルであることを特徴とする
特許請求の範囲第３項記載の粉粒体処理装置。 - （８）、前記ガイド空間の上方に、該ガイド空間を経て
上昇して来た粉粒体およびガスの流れを前記容器の半径
方向外側に偏向させる偏向手段が配設されていることを
特徴とする特許請求の範囲第３項記載の粉粒体処理装置
。 - （９）、前記ガイド空間の上方における前記容器内に、
該容器内で垂直軸線の回りに回転しながら濾過面清浄化
用の流体を噴出する回転ノズルが配設されてなることを
特徴とする特許請求の範囲第３項記載の粉粒体処理装置
。 - （１０）、前記容器の底部近傍の壁部に、該容器内に向
けてガスを供給するガス流入部が１または２ヶ所以上配
設されてなることを特徴とする特許請求の範囲第３項記
載の粉粒体処理装置。 - （１１）、前記容器の少なくとも一部に、該容器内に発
生した静電気を除去する静電気除去手段を備えてなるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の粉粒体処理
装置。 - （１２）、前記ガス供給管およびガイド管の少なくとも
一方の高さ位置が調整可能なことを特徴とする特許請求
の範囲第３項記載の粉粒体処理装置。 - （１３）、前記ガス供給管の先端が前記ガイド管の先端
より上方にあることを特徴とする特許請求の範囲第３項
記載の粉粒体処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP308186A JPH0638910B2 (ja) | 1986-01-10 | 1986-01-10 | 粉粒体処理方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP308186A JPH0638910B2 (ja) | 1986-01-10 | 1986-01-10 | 粉粒体処理方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62160137A true JPS62160137A (ja) | 1987-07-16 |
| JPH0638910B2 JPH0638910B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=11547387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP308186A Expired - Lifetime JPH0638910B2 (ja) | 1986-01-10 | 1986-01-10 | 粉粒体処理方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0638910B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008229544A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Asahi Sunac Corp | 流動式粉体塗料タンク |
| JP2009072679A (ja) * | 2007-09-20 | 2009-04-09 | Utsunomiya Univ | コーティング方法及び装置並びに複合粒子 |
| JPWO2009054116A1 (ja) * | 2007-10-26 | 2011-03-03 | パナソニック株式会社 | クリーンルーム |
| JP2015520297A (ja) * | 2012-05-14 | 2015-07-16 | ピコサン オーワイＰｉｃｏｓｕｎ Ｏｙ | 原子層堆積カートリッジを用いた粉末粒子コーティング |
| CN105727846A (zh) * | 2016-01-29 | 2016-07-06 | 清华大学 | 导流式喷动床和导流式喷动流化床 |
-
1986
- 1986-01-10 JP JP308186A patent/JPH0638910B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008229544A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Asahi Sunac Corp | 流動式粉体塗料タンク |
| JP2009072679A (ja) * | 2007-09-20 | 2009-04-09 | Utsunomiya Univ | コーティング方法及び装置並びに複合粒子 |
| JPWO2009054116A1 (ja) * | 2007-10-26 | 2011-03-03 | パナソニック株式会社 | クリーンルーム |
| JP4889788B2 (ja) * | 2007-10-26 | 2012-03-07 | パナソニック株式会社 | クリーンルーム |
| JP2015520297A (ja) * | 2012-05-14 | 2015-07-16 | ピコサン オーワイＰｉｃｏｓｕｎ Ｏｙ | 原子層堆積カートリッジを用いた粉末粒子コーティング |
| CN105727846A (zh) * | 2016-01-29 | 2016-07-06 | 清华大学 | 导流式喷动床和导流式喷动流化床 |
| CN105727846B (zh) * | 2016-01-29 | 2019-02-05 | 清华大学 | 导流式喷动床和导流式喷动流化床 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0638910B2 (ja) | 1994-05-25 |
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