JPS62160137A - Method and apparatus for trating granular material - Google Patents

Method and apparatus for trating granular material

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JPS62160137A
JPS62160137A JP308186A JP308186A JPS62160137A JP S62160137 A JPS62160137 A JP S62160137A JP 308186 A JP308186 A JP 308186A JP 308186 A JP308186 A JP 308186A JP S62160137 A JPS62160137 A JP S62160137A
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container
powder
granular material
nozzle
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Shimesu Motoyama
本山 示
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坂下 攝
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/24Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
    • B01J8/38Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it
    • B01J8/384Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it being subject to a circulatory movement only
    • B01J8/386Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it being subject to a circulatory movement only internally, i.e. the particles rotate within the vessel

Abstract

PURPOSE:To uniformly and surely contact granular material with gas, by a method wherein the stream of granular material rising through a guide means along with fluidizing gas is returned to a container and again recirculated to the guide means. CONSTITUTION:A recirculation stream of gas and a granular stock material rising through a guide space from a gas supply pipe 2 to be deflected to the outside in a radius direction and falling along the inner wall surface of a container to again rise through the guide space 4 is formed in the container 1. A stable fluidized bed is formed in the lower part of the container 1 by the action of the deflected flow of supply gas and that of the air stream from a nozzle 8. The granular stock material is subjected to desired granulation and coating by the action of the binder liquid supplied from a nozzle 8 or 8a and rises through the guide space 4 to be dried.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は粉粒体処理技術、特に、容器内に供給されるガ
スの働きにより粉粒体を流動化させて造粒、コーチング
、混合、乾燥などの処理を行うために用いて効果のある
粉粒体処理方法および装置に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to powder and granule processing technology, and in particular, to fluidizing powder and granules by the action of gas supplied into a container to perform granulation, coating, mixing, and The present invention relates to a method and apparatus for processing powder and granular materials that are effective when used for processing such as drying.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

粉粒体、たとえば食品、医薬品などの粉末や粒状原料に
対しての造粒、コーチング、混合、乾燥などの処理を施
すための技術としては様々なものが提案されている。そ
の中の1つに、容器内に供給されるガス流で粉粒体を流
動化させることにより所望の処理を行う流動床式の粉粒
体処理技術があり、従来から広(用いられている。
Various techniques have been proposed for performing treatments such as granulation, coating, mixing, and drying on powder and granular materials such as foods and pharmaceuticals. One of these is a fluidized bed powder processing technology that performs the desired treatment by fluidizing the powder with a gas flow supplied into a container. .

ところで、このような粉粒体処理装置の1つとして、特
開昭59−73041号公報には、略球形の容器の上方
向から挿入された浸漬管を経て粉粒体中にガスを供給す
ることによって粉粒体を流動化させて所望の処理を行う
ものが開示されている。この型式の装置は、簡単な構造
で造粒、コーチングなどを比較的良好に実施できるもの
である。
By the way, as one of such powder and granule processing apparatuses, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-73041 discloses a method for supplying gas into powder and granules through a dipping tube inserted from above into a substantially spherical container. It has been disclosed that a powder or granular material is fluidized and subjected to a desired treatment. This type of device has a simple structure and can perform granulation, coating, etc. relatively well.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、前記流動床装置は浸漬管から下向きに噴
出されたガスを深皿状の容器底部で半径方向外側に偏向
させて上昇させるものであるので、ガス流の力は容器底
部との衝突により弱められ、その際の力のロスにより、
ガス流の流動化作用は必ずしも十分ではない場合がある
。また、このガス流は容器内に充填された粉粒体層の中
を上昇するので、勢い、粉粒体層の弱い部分のみにガス
流が集中的に通過する傾向があり、特に大型の装置にお
いては粉粒体層の圧力に打ち鳴っためのエネルギーロス
を生ずるので、この傾向が強い、その結果、ガス流と粉
粒体との接触が必ずしも均一に行われず、容器内にデッ
ドスペースが形成されることにより、団粒や、未コーチ
ング物や未乾燥物などの処理不良部分が発生するなどの
問題点がある。
However, in the fluidized bed device, the gas ejected downward from the immersion tube is deflected radially outward at the bottom of the deep dish-shaped container and raised, so the force of the gas flow is weakened by collision with the bottom of the container. Due to the loss of power at that time,
The fluidizing effect of the gas flow may not always be sufficient. In addition, as this gas flow rises through the powder layer filled in the container, there is a tendency for the gas flow to concentrate and pass only through weak parts of the powder layer, especially in large equipment. This tendency is strong because energy loss occurs due to the pressure of the powder layer.As a result, the contact between the gas flow and the powder does not necessarily occur uniformly, and dead space is formed within the container. This causes problems such as the occurrence of aggregates, uncoated materials, undried materials, and other poorly processed areas.

本発明は、前記問題点を解決するためになされたもので
、その目的は、被処理原料である粉粒体とガスとの接触
を万遍なく、均一かつ確実に行わせ、容器内にデッドス
ペースが形成されたり、団粒や未コーチング、未乾燥な
どの処理不良部分を発生することなく、良好な処理を効
率的に行うことのできる粉粒体処理方法および装置を提
供することにある。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems.The purpose of the present invention is to uniformly and reliably bring the granular material, which is the raw material to be processed, into contact with the gas, so that there is no waste in the container. It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for processing powder and granular material that can efficiently perform good processing without forming spaces or producing unprocessed areas such as aggregates, uncoated particles, or undried particles.

(問題点を解決するための手段) 本発明は、前記目的を達成するため、容器内に流動化用
のガスを下向きに供給するガス供給管とは別にガイド管
を配設し、該ガイド管により形成されたガイド空間を経
てガスと粉粒体を上昇させ、ガイド管の上方から容器内
に半径方向外側に放出拡散させ、さらに下降させた後、
再び前記ガイド空間内を上昇させるという流動循環系を
形成することにより、空気流の持つ運動エネルギーを有
効に利用し、粉粒体とガスとの接触をガイド空間などで
分散状態で万遍なく、均一かつ確実に行わせることがで
き、前記目的を確実に達成することができるものである
(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a guide pipe which is disposed separately from a gas supply pipe that supplies fluidizing gas downward into a container. The gas and powder are raised through the guide space formed by the guide tube, released and diffused radially outward into the container from above the guide tube, and then lowered.
By forming a fluid circulation system in which the air flow rises again in the guide space, the kinetic energy of the air flow is effectively utilized, and the contact between the powder and the gas is uniformly dispersed in the guide space, etc. The process can be performed uniformly and reliably, and the above objective can be achieved reliably.

〔実施例1〕 第1図は本発明の一実施例である粉粒体処理装置の断面
図である。
[Example 1] FIG. 1 is a sectional view of a powder processing apparatus which is an example of the present invention.

この実施例において、内部に粉粒体原料を充填して流動
化により処理するための容器1は、下部が円筒状部、そ
の上側が傾斜部、さらにその上側が大径の円筒状部を有
する傾斜部付き円筒構造である。容器1は通常は金属で
製作されるが、内部の粉粒体処理状態を外部から視認で
きるように、たとえばガラスやプラスチックなどの透明
材料などで作ることもできる。この容器1の内部におけ
るほぼ軸中心部には、該容器1の側方から該容器l内に
挿入されて先端部分が垂直に下降するよう曲げられたガ
ス供給管2が下方向に延びており、その下端は容器1の
底部近くで終端して開口している。このガス供給管2は
、粉粒体原料の流動化用の加熱ガスなどのガスを容器1
内に下向きに供給するものである。
In this embodiment, a container 1 for filling the inside with powdered raw material and processing it by fluidization has a cylindrical part at the lower part, an inclined part at the upper part, and a cylindrical part with a large diameter at the upper part. It has a cylindrical structure with an inclined part. The container 1 is usually made of metal, but it can also be made of a transparent material such as glass or plastic so that the state of the powder or granular material processing inside can be visually checked from the outside. A gas supply pipe 2 is inserted into the container 1 from the side of the container 1 and is bent so that its tip portion descends vertically, and extends downward approximately at the center of the axis inside the container 1. , whose lower end terminates near the bottom of the container 1 and is open. This gas supply pipe 2 supplies gas such as heated gas for fluidizing powder raw material to the container 1.
It supplies the inside downwards.

前記ガス供給管2の垂直方向延長部の外側には、該ガス
供給管2の下端から下向きに供給されたガスをガイドし
て粉粒体と共に上昇させるためにガイド管3が同軸状に
配設されている。すなわち、このガイド管3を設けたこ
とにより、ガス供給管2の外周とガイド管3の内周との
間には、環状ガイド空間4が円筒状に形成され、ガス供
給管2の下端から下向きに供給されたガスはこのガイド
空間4を通って粉粒体原料と共に上昇される。そして、
このガイド空間4内を上昇中の粉粒体は分散状態で上昇
するので、該ガイド空間4内でガスと粉粒体との接触を
万遍なく、均一かつ確実に行わせて、効率の良い処理を
良好に行うことができるものである。
A guide pipe 3 is coaxially disposed outside the vertical extension of the gas supply pipe 2 in order to guide the gas supplied downward from the lower end of the gas supply pipe 2 and raise it together with the powder and granules. has been done. That is, by providing this guide tube 3, an annular guide space 4 is formed in a cylindrical shape between the outer circumference of the gas supply tube 2 and the inner circumference of the guide tube 3, and the annular guide space 4 is formed downward from the lower end of the gas supply tube 2. The gas supplied to the guide space 4 passes through the guide space 4 and rises together with the powder raw material. and,
The powder and granules rising in the guide space 4 rise in a dispersed state, so that the gas and the powder come into contact evenly, uniformly, and reliably within the guide space 4, resulting in high efficiency. This allows for good processing.

前記ガス供給管2の下端から下向きに供給されたガスを
上向きに偏向させてガイド空間4内を上昇させるため、
容器1の底部の中央部におけるガス供給管2の下端との
対向位置には、該ガス供給管2からのガスを受は止めて
前記ガイド空間4の方向に偏向させるような上向き凹面
形状の曲面5aを持つ製品排出弁5が配設されている。
In order to deflect the gas downwardly supplied from the lower end of the gas supply pipe 2 upward and raise the inside of the guide space 4,
At a position opposite to the lower end of the gas supply pipe 2 in the central part of the bottom of the container 1, there is an upwardly concave curved surface that receives the gas from the gas supply pipe 2 and deflects it toward the guide space 4. A product discharge valve 5 having a diameter 5a is provided.

そのため、製品排出弁5は、図示の位置から軸6と共に
流体で作動するシリンダまたはラック・ウオーム機構な
どの昇降機構(図示せず)で上昇させることにより、容
器1内で処理された製品を製品排出路7を経て下方に排
出できるよう構成されている。
Therefore, the product discharge valve 5 is raised from the illustrated position by a lift mechanism (not shown) such as a cylinder or rack worm mechanism operated by fluid together with the shaft 6, thereby discharging the product processed in the container 1. It is configured so that it can be discharged downward via a discharge path 7.

また、容器1内を負圧にすることにより、製品排出路7
の下端より原料を装置内に吸引して供給することが可能
である。
In addition, by creating a negative pressure inside the container 1, the product discharge path 7
It is possible to suction and supply the raw material into the device from the lower end.

また、前記ガス供給管2の下端からのガスをガイド空間
4の方向に上向きに偏向させるため、容器1の底部には
、容器1内の粉粒体原料に造粒またはコーチングなどの
ためにバインダ液および粉体の両方またはいずれか一方
などを供給するためのノズル8が前記ガイド空間4の方
向に向けて配設されている。勿論、このノズル8はバイ
ンダ液と偏向用のガスとを供給する二流体ノズルもしく
は三流体ノズルであってもよく、あるいは偏向用のガス
のみを供給するノズルであってもよい、もっとも、後者
の場合には、液体および粉体の両方またはいずれか一方
の供給用のノズル8aをたとえば二点鎖線で示す如く設
けてもよい。
In addition, in order to deflect the gas from the lower end of the gas supply pipe 2 upward toward the guide space 4, a binder is provided at the bottom of the container 1 for granulating or coating the powder raw material in the container 1. A nozzle 8 for supplying liquid and/or powder is arranged toward the guide space 4 . Of course, this nozzle 8 may be a two-fluid nozzle or a three-fluid nozzle that supplies the binder liquid and the deflection gas, or may be a nozzle that supplies only the deflection gas. In some cases, a nozzle 8a for supplying both or one of liquid and powder may be provided, for example, as shown by the two-dot chain line.

一方、容器1の上部には、ガイド空間4内を上昇して来
たガスと粉粒体の流れを円滑に半径方向外側かつ下方向
に偏向させるための下向き凹面形状の偏向vi、9がガ
ス供給管2で支持されている。
On the other hand, in the upper part of the container 1, there are downwardly concave deflectors vi and 9 for smoothly deflecting the flow of gas and powder particles rising in the guide space 4 radially outward and downward. It is supported by a supply pipe 2.

さらに、偏向板9の上方には、微粉末が系外に放散され
るのを防止するバグフィルタ11が設けられている。ま
た、バグフィルタ11よりも上側における容器1の上部
にはガス排出口12が開口している。なお、本実施例の
容器はバグフィルタ11などを設けた上部分が下部分と
は別体とされ、図示しない蝶番などで上部分を開放して
清掃もしくは粉粒体原料の投入を行うことが可能となっ
ている。
Furthermore, a bag filter 11 is provided above the deflection plate 9 to prevent fine powder from being dispersed outside the system. Further, a gas exhaust port 12 is opened in the upper part of the container 1 above the bag filter 11. Note that in the container of this embodiment, the upper part provided with the bag filter 11 and the like is separate from the lower part, and the upper part can be opened with a hinge (not shown) for cleaning or for charging powdered raw materials. It is possible.

次に、本実施例の作用について説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

まず、容器l内に所定量の粉粒体原料を投入し、ガス供
給管2の下端から容器1の底部に流動化用の加熱ガスな
どの所要のガスを下向きに供給すると共に、ノズル8か
らガイド空間4の下部に向けてたとえばバインダ液など
の液体およびガスの両方またはいずれか一方を噴出する
First, a predetermined amount of granular raw material is put into a container l, and necessary gas such as a heated gas for fluidization is supplied downward from the lower end of the gas supply pipe 2 to the bottom of the container 1, and from the nozzle 8. A liquid such as a binder liquid and/or a gas are ejected toward the lower part of the guide space 4.

それにより、ガス供給管2の下端がら下向きに供給され
たガスはその下方の製品排出弁5の曲面5aの働きによ
り上方向に偏向されると共に、ノズル8からの流体の噴
出力により上向きに偏向され、ガイド空間4内を上昇さ
せられる。この上昇ガス流の力により容器1内の粉粒体
原料は、該容器1の底部壁面の半径方向外側へのショー
トパスを生じることなく、該上昇ガス流と共にガイド空
間4内を上昇した後、ガイド管3の上方から噴出されて
偏向板9で半径方向外側がっ下方に偏向させられる。そ
の後、粉粒体は重力によって容器1の中を落下した後、
再び上昇ガス流と共にガイド空間4内を上昇させられる
As a result, the gas supplied downward from the lower end of the gas supply pipe 2 is deflected upward by the curved surface 5a of the product discharge valve 5 below, and also deflected upward by the jetting force of the fluid from the nozzle 8. and is raised within the guide space 4. Due to the force of this rising gas flow, the granular raw material in the container 1 rises in the guide space 4 together with the rising gas flow without causing a short path to the outside of the bottom wall surface of the container 1 in the radial direction. It is ejected from above the guide tube 3 and is deflected downward in the radial direction by the deflection plate 9. After that, the powder and granules fall down inside the container 1 due to gravity, and then
It is again raised within the guide space 4 together with the rising gas flow.

したがって、容器1内には、ガス供給管2からガイド空
間4内を上昇して半径方向外側に偏向され、容器lの内
壁面に沿って落下し、再び該ガイド空間4内を上昇され
るガスおよび粉粒体原料の循環流が形成される。この容
器1の下部においては、供給ガスの偏向流と、ノズル8
よりの空気流の作用により、安定な流動層が形成され、
粉粒体原料はノズル8または8aから供給されたバイン
ダー液などの作用により所望の造粒、コーチングが行わ
れ、また、このガイド空間4内を上昇することによって
乾燥が行われる。
Therefore, in the container 1, there is gas that rises from the gas supply pipe 2 in the guide space 4, is deflected radially outward, falls along the inner wall surface of the container 1, and rises again in the guide space 4. and a circulating flow of the granular raw material is formed. In the lower part of this vessel 1, a deflected flow of the supply gas and a nozzle 8
Due to the action of the air flow, a stable fluidized bed is formed,
The granular raw material is granulated and coated as desired by the action of the binder liquid supplied from the nozzle 8 or 8a, and dried by rising in the guide space 4.

また、粉粒体原料は、ガイド空間4内を上昇中にガス供
給管2の外面およびガイド管3の内面と摩擦接触したり
、また偏向板9の偏向面、さらには容器1の内壁面と接
触したり、粉粒体どうしで接触し合ったりすることによ
り、粒子に付着したコーチンダ液膜の展延が促進され、
極めて光沢の良好な被膜をもったコーチング粒子あるい
は球形粒製品を効率良く得ることができる。
In addition, while rising in the guide space 4, the powdered raw material comes into frictional contact with the outer surface of the gas supply pipe 2 and the inner surface of the guide pipe 3, and also comes into contact with the deflecting surface of the deflecting plate 9 and the inner wall surface of the container 1. By contacting each other, or by bringing the particles into contact with each other, the spread of the Cochindia liquid film attached to the particles is promoted.
Coated particles or spherical particle products with extremely glossy coatings can be efficiently obtained.

特に、ガス供給管2の外面および偏向板9の偏向面は温
度が高くなるので、粉粒体がこれらの面と接触すること
により前記作用が促進される。
In particular, since the temperature of the outer surface of the gas supply pipe 2 and the deflection surface of the deflection plate 9 is high, the above-mentioned effect is promoted by the contact of the granular material with these surfaces.

しかも、容器l内には、粉粒体の滞留するデッドスペー
スが形成されないので、団粒の形成や、未コーチングあ
るいは未乾燥などの処理不良部分を生じることなく、均
一な処理を確実に行うことができる。
Moreover, since no dead space is formed in the container l where the powder or granules accumulate, uniform processing can be carried out reliably without forming aggregates or producing defective areas such as uncoated or undried areas. I can do it.

〔実施例2〕 第2図は本発明の他の実施例にょる粉粒体処理装置を示
す断面図である。
[Embodiment 2] FIG. 2 is a sectional view showing a powder processing apparatus according to another embodiment of the present invention.

本実施例2の装置における容器1は底部がガスおよび粉
粒体の循環流を円滑に形成できるよう曲面状に形成され
ている他は、略円筒形の形状を有している。
The container 1 in the apparatus of Example 2 has a substantially cylindrical shape except that the bottom is formed into a curved surface so as to smoothly form a circulating flow of gas and powder.

この容器1の下部には、ノズル8の周囲の補助ガス噴出
口13aから容器l内に補助ガスを噴出して、ノズル8
からのバインダ液などの噴霧の安定化を図り、かつガス
供給管2がらのガスのガイド空間4内への上昇作用を促
進する補助ガス供給機構13が付設されている。
In the lower part of the container 1, auxiliary gas is ejected into the container 1 from an auxiliary gas outlet 13a around the nozzle 8.
An auxiliary gas supply mechanism 13 is provided to stabilize the spraying of the binder liquid and the like from the gas supply pipe 2 and to promote the upward movement of gas from the gas supply pipe 2 into the guide space 4 .

さらに、粉粒体原料が容器1内で互いにがっ容器内壁面
とこすれ合うことにより、静電気が発生し、この静電気
の付着力によって粉粒体の円滑な運動が阻害されること
があり、またこの静電気が原因となって発生する火花に
よって粉塵爆発を惹起することもある。そこで、本実施
例2では、この高電圧の静電気を除去するため、容器1
の中に埋め込まれた金属線や炭素繊維などの導電線14
a1およびこの導電線14aと導電接続されかつ容器1
内に一部突出する導電ピン14bを有する静電気除去機
構14が設けられている。
Furthermore, static electricity is generated when the granular raw materials rub against each other and the inner wall surface of the container in the container 1, and the adhesion force of this static electricity may impede the smooth movement of the granular material. Sparks generated by this static electricity can cause dust explosions. Therefore, in this embodiment 2, in order to remove this high voltage static electricity, the container
A conductive wire 14 such as a metal wire or carbon fiber embedded in the
a1 and the container 1 which is conductively connected to the conductive wire 14a.
A static electricity removal mechanism 14 having a conductive pin 14b partially protruding inward is provided.

さらに、本実施例2は偏向板9を別に設けていないが、
本実施例2のように容器lの上壁部の内面形状を循環ガ
スの流れに滞溜が生しないような形状としても、ガス流
の偏向などに関するそれらの本質的機能は実施例1のも
のと実質的に同じである。
Furthermore, although the second embodiment does not separately provide the deflecting plate 9,
Even if the inner surface shape of the upper wall of the container l is shaped so that no stagnation occurs in the flow of circulating gas as in the second embodiment, the essential functions regarding deflection of the gas flow etc. are the same as in the first embodiment. is substantially the same as

本実施例2においても、ガイド管3をガス供給管2の外
側に配設して両管2,3間にガイド空間4を形成したこ
とにより、容器1内の粉粒体とガス供給管2からのガス
はガイド空間4内を円滑に上昇するので、粉粒体原料は
均一かつ確実に処理でき、また団粒や未処理不良などを
生じることがない。
In the second embodiment as well, the guide pipe 3 is arranged outside the gas supply pipe 2 to form the guide space 4 between the two pipes 2 and 3, so that the powder and granules in the container 1 and the gas supply pipe 2 Since the gas from the pipe rises smoothly in the guide space 4, the granular raw material can be processed uniformly and reliably, and aggregates and unprocessed defects will not occur.

さらに、本実施例2では、補助ガス供給機構13による
補助ガスの働きによってノズル8からの液体噴霧が安定
化され、かつガイド空間4内へのガスおよび粉粒体の上
昇流の形成の促進化が図られる。
Furthermore, in the second embodiment, the liquid spray from the nozzle 8 is stabilized by the action of the auxiliary gas by the auxiliary gas supply mechanism 13, and the formation of an upward flow of gas and powder into the guide space 4 is promoted. is planned.

しかも、本実施例2によれば、静電気除去機構14によ
り容器1内への高電圧の静電気蓄積およびそれに起因す
る爆発の防止を図ることができる。
Moreover, according to the second embodiment, the static electricity removing mechanism 14 can prevent the accumulation of high voltage static electricity in the container 1 and the explosion caused by it.

〔実施例3〕 第3図は本発明のさらに他の実施例による粉粒体処理装
置の断面図である。
[Embodiment 3] FIG. 3 is a sectional view of a powder processing apparatus according to still another embodiment of the present invention.

この実施例3においては、容器1は下部の主処理部が略
球形、上部が円筒形の形状よりなる。この容器1の底部
におけるノズル8の近傍には、中空ドーナツ状の環状ノ
ズル13bよりなる補助ガス供給機構13が設けられ、
環状ノズル13bの補助ガス噴出口13Cはガイド空間
4の下部方向に補助ガスを噴出するよう配向されている
。この補助ガス噴出口13cは図示の例のように環状ノ
ズル13bに沿って不連続に複数個形成してもよいが、
環状スリット状に連続する噴出口構造として形成するこ
ともできる。
In this third embodiment, the container 1 has a lower main processing section that is approximately spherical and an upper portion that is cylindrical. An auxiliary gas supply mechanism 13 consisting of a hollow donut-shaped annular nozzle 13b is provided near the nozzle 8 at the bottom of the container 1.
The auxiliary gas ejection port 13C of the annular nozzle 13b is oriented to eject the auxiliary gas toward the lower part of the guide space 4. A plurality of auxiliary gas ejection ports 13c may be formed discontinuously along the annular nozzle 13b as in the illustrated example, but
It can also be formed as a continuous annular slit structure.

また、本実施例3では、容器1内の粉粒体原料が滞留し
易い底部付近において該容器1内にガスを間欠的に流入
させてその部分における粉粒体の滞留を防止するガス流
入部15、およびガス源16からのガスの供給を制御す
る弁17が設けられている。
In addition, in this embodiment 3, a gas inflow section that intermittently causes gas to flow into the container 1 near the bottom where the granular material tends to accumulate in the container 1 to prevent the granular material from stagnation in that part. 15 and a valve 17 for controlling the supply of gas from a gas source 16.

ガス流入部15はたとえば焼結金属または濾布などの通
気性材料で形成されている。このガス流入部15は粉粒
体の滞留防止や団粒化防止に加えて、容器1の底部の周
方向における粉粒体循環流の不均一性を防止する役割も
果たすためには、周方向の複数個所に設けることができ
、それにより粉粒体処理が部分的に不均一になることを
防止でき、さらに乾燥の促進やガス量の節減を図ること
ができる。
The gas inlet 15 is made of a breathable material such as sintered metal or filter cloth. This gas inflow part 15 is designed in the circumferential direction in order to not only prevent the powder from stagnation and agglomeration, but also to prevent non-uniformity in the circulation flow of the powder and granular material in the circumferential direction at the bottom of the container 1. It is possible to provide them at a plurality of locations, thereby making it possible to prevent the powder and granular material treatment from becoming partially non-uniform, and furthermore, it is possible to promote drying and reduce the amount of gas.

さらに、本実施例3においては、容器1の上部分内にバ
グフィルタ11が設けられ、その上方に略し形の回転ノ
ズル18が配設されている。この回転ノズル18は下方
向に開口した流体噴出口18aを複数個備え、ロータリ
ジヨイント19において図示しない駆動手段により垂直
軸線の回りで回転可能である。この回転ノズル18によ
り、容器l内で発生するダストを捕集するバグフィルタ
11の目詰まりを防止し、安定な空気流を保つことがで
きる。
Furthermore, in the third embodiment, a bag filter 11 is provided in the upper portion of the container 1, and an abbreviated rotating nozzle 18 is provided above the bag filter 11. The rotating nozzle 18 has a plurality of fluid jet ports 18a that open downward, and is rotatable around a vertical axis at a rotary joint 19 by a driving means (not shown). This rotating nozzle 18 prevents clogging of the bag filter 11 that collects dust generated within the container l, and maintains a stable air flow.

本実施例3においても、前記実施例1および2のように
ガイド管3などによる処理の均一、確実化、さらには静
電気除去11tli14による静電気除去効果などに加
えて、環状ノズル13bによる噴霧の安定化およびガス
や粉粒体の上昇促進、ガス流入部15による粉粒体の滞
留防止および均一化が図られる他に、回転ノズル18に
よるバグフィルタ11の良好な清浄化が可能であること
などの優れた諸効果を相乗的に奏することができる。
In the third embodiment, as in the first and second embodiments, the guide tube 3 and the like ensure uniform processing, and the static electricity removal 11tli 14 has the effect of removing static electricity. In addition, the annular nozzle 13b stabilizes the spray. In addition to promoting the rise of gas and granular material, preventing the stagnation of granular material by the gas inflow section 15, and making the granular material uniform, the rotary nozzle 18 can effectively clean the bag filter 11. The various effects can be synergistically achieved.

なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
他の様々な変形が可能である。
Note that the present invention is not limited to the above embodiments,
Various other variations are possible.

たとえば、容器の形状などを他の形状にしたり、ガイド
管やガス供給管の寸法や構造を変えることなども可能で
ある。また、ガイド管はガス供給管の外側に同軸的に設
ける以外に、ガス供給管とは別に設けてもよく、さらに
、ガス供給管紅よびガイド管の少なくとも一方の高さ位
置を調整可能にし、容器内の粉粒体原料の量などの処理
条件に合わせて最適な処理を行うこともできる。
For example, it is possible to change the shape of the container or the like, or to change the dimensions and structure of the guide pipe or gas supply pipe. Further, the guide pipe may be provided coaxially outside the gas supply pipe, or may be provided separately from the gas supply pipe, and further, the height position of at least one of the gas supply pipe and the guide pipe is adjustable, Optimal processing can also be performed depending on processing conditions such as the amount of powdered raw material in the container.

さらに、本発明の装置は医薬や食品以外の材料の様々な
処理にも広く適用できる。
Furthermore, the apparatus of the present invention is widely applicable to various treatments of materials other than medicines and foods.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

(1)、粉粒体を収容した容器の中に上方向から該粉粒
体の流動化用のガスを供給し、このガスを前記容器の内
部でガイド手段内を上方向に強制的にガイドし、その上
方向へのガス流に粉粒体を同伴させ、前記ガイド手段の
中を通って前記ガス流と共に上昇した粉粒体の流れを前
記容器内に戻し、再び前記ガイド手段内に循環させるこ
とにより、粉粒体はガイド手段内を分散状態でガス流と
共に円滑に上昇しながらガスと万遍なく接触できるので
、粉粒体は均一かつ確実に所望の処理を受けることがで
きる。
(1) A gas for fluidizing the powder is supplied from above into a container containing the powder, and the gas is forcibly guided upward within the guide means inside the container. The powder and granular material is entrained in the upward gas flow, and the flow of the powder and granular material that passes through the guide means and rises with the gas flow is returned to the container and circulated within the guide means again. By doing so, the powder or granules can uniformly and reliably undergo the desired treatment because the powder or granules can uniformly come into contact with the gas while rising smoothly with the gas flow in a dispersed state within the guide means.

(2)、粉粒体を収容して処理する容器と、少なくとも
先端部分が前記容器内に上方向から挿入され、その下端
部から前記容器内に粉粒体の流動化用のガスを供給する
ガス供給管と、このガス供給管の外側に設けられて該ガ
ス供給管の外周面との間に粉粒体およびガスの上昇用の
ガイド空間を形成するガイド管と、前記ガス供給管の下
端部から噴出されたガスを前記ガイド空間に向けて上昇
させる流体噴射用のノズルとからなることにより、ガス
供給管から容器内に下向きに供給されるガスはガイド空
間内で粉粒体を分散状態にさせながら円滑に上昇できる
ので、粉粒体とガスとの接触を万遍なく、均一かつ確実
に行うことができ、効率の良い処理が可能である。
(2) A container for accommodating and processing powder and granules, at least a tip portion of which is inserted from above into the container, and a gas for fluidizing the powder and granules is supplied from the lower end of the container into the container. a gas supply pipe; a guide pipe provided outside the gas supply pipe to form a guide space for the rise of the powder and gas between the gas supply pipe and the outer peripheral surface of the gas supply pipe; and a lower end of the gas supply pipe. and a fluid injection nozzle that raises the gas ejected from the part toward the guide space, so that the gas supplied downward from the gas supply pipe into the container disperses the powder and granules within the guide space. Since it can be raised smoothly while causing the granules to come into contact with the gas, it is possible to uniformly and reliably bring the powder and granules into contact with the gas evenly, allowing for efficient processing.

(3)、前記(2)により、容器内における粉粒体の循
環流動が円滑に行われ、デッドスペースが形成されない
ので、粉粒体の団粒化や、未コーチングや未乾燥などの
処理不良部分の発生を確実に防止できる。
(3) Due to (2) above, the circulating flow of the powder and granules in the container is carried out smoothly, and dead spaces are not formed. It is possible to reliably prevent the occurrence of parts.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例である粉粒体処理装置の断面
図、第2図は本発明の他の実施例にょる粉粒体処理装置
を示す断面図、第3図は本発明のさらに他の実施例にょ
る粉粒体処理装置の断面図である。 1・・・・・容器、 2・・・・・ガス供給管、 3 ・ ・ ・ ・ ・ガイド管、 4・・・・・ガイド空間、 5・・・・・製品排出弁、 5a・・・・曲面、 6・・・・・軸、 7・・・・・製品排出路、 8.8a・・ノズル、 9・・・・・偏向板、 11・・・・・バグフィルタ、 12・・・・・ガイド排出口、 13・・・・・補助ガス供給機構、 13a・・・・補助ガス噴出口、 13b・・・・環状ノズル、 13c・・・・補助ガス噴出口、 14・・・・・静電気除去機構、 14a・・・・導電線、 14b・・・・導電ピン、 15・・・・・ガス流入部、 16・・・・・ガス源、 17・・・・・弁、 18・・・・・回転ノズル、 18a・・・・流体噴出口、 19・・・・・ロータリジヨイント。 特許出願人  フロイント産業株式会社代理人 弁理士
  筒 井 大 相 同  弁理士  松 倉 秀 実 第1図 第2図 第3図 ↓
FIG. 1 is a sectional view of a powder/granular material processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view showing a powder/granular material processing apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a sectional view of a powder/granular material processing apparatus according to another embodiment of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view of a powder processing apparatus according to still another embodiment of the present invention. 1... Container, 2... Gas supply pipe, 3... Guide pipe, 4... Guide space, 5... Product discharge valve, 5a... - Curved surface, 6... Axis, 7... Product discharge path, 8.8a... Nozzle, 9... Deflection plate, 11... Bag filter, 12... ...Guide discharge port, 13...Auxiliary gas supply mechanism, 13a...Auxiliary gas outlet, 13b...Annular nozzle, 13c...Auxiliary gas outlet, 14... - Static electricity removal mechanism, 14a... Conductive wire, 14b... Conductive pin, 15... Gas inlet, 16... Gas source, 17... Valve, 18. ...Rotary nozzle, 18a...Fluid spout, 19...Rotary joint. Patent applicant Freund Sangyo Co., Ltd. Agent Patent attorney Dai Tsutsui Sodo Patent attorney Hidemi Matsukura Figure 1 Figure 2 Figure 3 ↓

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)、粉粒体を収容した容器の中に上方向から該粉粒
体の流動化用のガスを供給し、このガスを前記容器の内
部でガイド手段内を上方向に強制的にガイドし、その上
方向へのガス流に粉粒体を同伴させ、前記ガイド手段の
中を通って前記ガス流と共に上昇した粉粒体の流れを前
記容器内に戻し、再び前記ガイド手段内に循環させる粉
粒体処理方法。
(1) A gas for fluidizing the powder is supplied from above into a container containing the powder, and the gas is forcibly guided upward within the guide means inside the container. The powder and granular material is entrained in the upward gas flow, and the flow of the powder and granular material that passes through the guide means and rises with the gas flow is returned to the container and circulated within the guide means again. A method for processing powder and granular materials.
(2)、前記容器の中に上方向から供給されたガスがそ
のガス流供給方向とはほぼ反対方向にガイド手段内をガ
イドされながら粉粒体と共に上昇することを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の粉粒体処理方法。
(2) A claim characterized in that the gas supplied into the container from above rises together with the powder while being guided within the guide means in a direction substantially opposite to the direction in which the gas flow is supplied. 1. The method for processing powder or granular material according to item 1.
(3)、粉粒体を収容して処理する容器と、少なくとも
先端部分が前記容器内に上方向から挿入され、その下端
部から前記容器内に粉粒体の流動化用のガスを供給する
ガス供給管と、このガス供給管の外側に設けられて該ガ
ス供給管の外周面との間に粉粒体およびガスの上昇用の
ガイド空間を形成するガイド管と、前記ガス供給管の下
端部から噴出されたガスを前記ガイド空間に向けて上昇
させる流体噴射用のノズルとからなることを特徴とする
粉粒体処理装置。
(3) A container for accommodating and processing powder and granules, at least a tip portion of which is inserted into the container from above, and a gas for fluidizing the powder and granules is supplied into the container from its lower end. a gas supply pipe; a guide pipe provided outside the gas supply pipe to form a guide space for the rise of the powder and gas between the gas supply pipe and the outer peripheral surface of the gas supply pipe; and a lower end of the gas supply pipe. and a fluid ejecting nozzle that causes gas ejected from the part to rise toward the guide space.
(4)、前記ノズルが、粉粒体に液体を供給する液体供
給ノズルであり、この液体供給ノズルの近傍には、前記
液体の供給を補助するガスを供給する機構が配設されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の粉粒
体処理装置。
(4) The nozzle is a liquid supply nozzle that supplies liquid to the powder and granules, and a mechanism that supplies gas to assist in supplying the liquid is disposed near the liquid supply nozzle. A granular material processing apparatus according to claim 3, characterized in that:
(5)、前記液体の供給を補助するガスを供給する機構
が、前記ガイド空間に向けてガスを噴出する連続または
不連続のガス噴出孔を備えたガス供給機構であることを
特徴とする特許請求の範囲第4項記載の粉粒体処理装置
(5) A patent characterized in that the gas supply mechanism that assists in supplying the liquid is a gas supply mechanism that includes continuous or discontinuous gas ejection holes that eject gas toward the guide space. A granular material processing apparatus according to claim 4.
(6)、前記液体の供給を補助するガスを供給する機構
が、前記液体供給ノズルの周囲から前記ガイド空間に向
けてガスを噴出するノズル機構であることを特徴とする
特許請求の範囲第4項記載の粉粒体処理装置。
(6) The fourth aspect of the present invention is characterized in that the mechanism for supplying gas that assists in supplying the liquid is a nozzle mechanism that spouts gas from around the liquid supply nozzle toward the guide space. The powder and granular material processing apparatus described in Section 1.
(7)、前記ノズルが、前記ガイド空間の下部に向けて
上昇用のガスを噴出するノズルであることを特徴とする
特許請求の範囲第3項記載の粉粒体処理装置。
(7) The granular material processing apparatus according to claim 3, wherein the nozzle is a nozzle that spouts rising gas toward the lower part of the guide space.
(8)、前記ガイド空間の上方に、該ガイド空間を経て
上昇して来た粉粒体およびガスの流れを前記容器の半径
方向外側に偏向させる偏向手段が配設されていることを
特徴とする特許請求の範囲第3項記載の粉粒体処理装置
(8) A deflection means is disposed above the guide space to deflect the flow of powder, granules and gas that have risen through the guide space to the outside in the radial direction of the container. A granular material processing apparatus according to claim 3.
(9)、前記ガイド空間の上方における前記容器内に、
該容器内で垂直軸線の回りに回転しながら濾過面清浄化
用の流体を噴出する回転ノズルが配設されてなることを
特徴とする特許請求の範囲第3項記載の粉粒体処理装置
(9) in the container above the guide space;
4. The powder and granular material processing apparatus according to claim 3, further comprising a rotating nozzle that spouts fluid for cleaning the filtration surface while rotating around a vertical axis within the container.
(10)、前記容器の底部近傍の壁部に、該容器内に向
けてガスを供給するガス流入部が1または2ヶ所以上配
設されてなることを特徴とする特許請求の範囲第3項記
載の粉粒体処理装置。
(10) Claim 3, characterized in that one or more gas inflow portions for supplying gas into the container are disposed on the wall near the bottom of the container. The powder and granular material processing apparatus described above.
(11)、前記容器の少なくとも一部に、該容器内に発
生した静電気を除去する静電気除去手段を備えてなるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の粉粒体処理
装置。
(11) The granular material processing apparatus according to claim 3, wherein at least a portion of the container is provided with a static electricity removing means for removing static electricity generated within the container.
(12)、前記ガス供給管およびガイド管の少なくとも
一方の高さ位置が調整可能なことを特徴とする特許請求
の範囲第3項記載の粉粒体処理装置。
(12) The granular material processing apparatus according to claim 3, wherein the height position of at least one of the gas supply pipe and the guide pipe is adjustable.
(13)、前記ガス供給管の先端が前記ガイド管の先端
より上方にあることを特徴とする特許請求の範囲第3項
記載の粉粒体処理装置。
(13) The granular material processing apparatus according to claim 3, wherein the tip of the gas supply pipe is located above the tip of the guide tube.
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