JPS62158257A - 5−アミノピラゾ−ル−4−カルボキシレ−ト系化合物の製造方法 - Google Patents
5−アミノピラゾ−ル−4−カルボキシレ−ト系化合物の製造方法Info
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- JPS62158257A JPS62158257A JP29751585A JP29751585A JPS62158257A JP S62158257 A JPS62158257 A JP S62158257A JP 29751585 A JP29751585 A JP 29751585A JP 29751585 A JP29751585 A JP 29751585A JP S62158257 A JPS62158257 A JP S62158257A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、5−7ミノビラゾールー4−カルボキシレー
ト系化合物の製造方法に関し、更に詳しくはチオセミカ
ルバジドを出発原料として高収率かつ低コストで5−7
ミノビラゾールー4−カルボキシレート系化合物を製造
する方法に関するものである。〔従来技術〕 5−7ミ7ビラゾールー4−カルボキシレート系化合物
は写真用カプラー、特にマゼンタカプラーの中間体とし
て非常に有用な化合物であり、例えば英国特許1252
418号に記載されている。
ト系化合物の製造方法に関し、更に詳しくはチオセミカ
ルバジドを出発原料として高収率かつ低コストで5−7
ミノビラゾールー4−カルボキシレート系化合物を製造
する方法に関するものである。〔従来技術〕 5−7ミ7ビラゾールー4−カルボキシレート系化合物
は写真用カプラー、特にマゼンタカプラーの中間体とし
て非常に有用な化合物であり、例えば英国特許1252
418号に記載されている。
また、5−7ミノビラゾールー4−カルボキシレート系
化合物の合成に関しては、バイヤー (Beyer)等
によりヘミッシl’ベリヒテ(Chew、 Ber、
)。
化合物の合成に関しては、バイヤー (Beyer)等
によりヘミッシl’ベリヒテ(Chew、 Ber、
)。
89巻1652頁 (1956年)に報告されている。
この反応スキームを以下に示すが、エチル−2−クロロ
アセトアセテート(1)とチオセミカルバジド (2)
を2N塩酸水溶液中で反応させ、ヒドラゾン (3)を
単離した後、n−プロパツール中で閉環反応を行い、得
られた6H−1,3,4−チアジアジン(4)を更に2
N塩酸−エタノール中で脱硫することにより目的物(5
)を得るものである。
アセトアセテート(1)とチオセミカルバジド (2)
を2N塩酸水溶液中で反応させ、ヒドラゾン (3)を
単離した後、n−プロパツール中で閉環反応を行い、得
られた6H−1,3,4−チアジアジン(4)を更に2
N塩酸−エタノール中で脱硫することにより目的物(5
)を得るものである。
Cl1CIICOOC211゜
上記文献による合成法は、各反応工程ごとに生成物を単
離し、その度に反応条件、溶媒等を変えなければならな
いので繰作的に非常に煩雑であったり、全収率が46%
と低いなど幾つかの問題を含んでいた。
離し、その度に反応条件、溶媒等を変えなければならな
いので繰作的に非常に煩雑であったり、全収率が46%
と低いなど幾つかの問題を含んでいた。
工業化を目的とした大量合成においては、この ・よう
な繰作の煩雑さ、収率の低さが直ちに製造コストに跳返
ってくるため致命的な欠陥である。また、バイヤー等の
報告は、一般式〔1〕におけるR1がメチル基に限られ
ており、分岐アルキル基等の例示はなく、実際に追試し
てもメチル基より更に低収率になることが確認された。
な繰作の煩雑さ、収率の低さが直ちに製造コストに跳返
ってくるため致命的な欠陥である。また、バイヤー等の
報告は、一般式〔1〕におけるR1がメチル基に限られ
ており、分岐アルキル基等の例示はなく、実際に追試し
てもメチル基より更に低収率になることが確認された。
先に述べた通り、5−7ミノピラゾールー4−力ルボキ
シレート系化合物は写真用カプラーの中間体として有用
な化合物である。写真用カプラーは、溶媒に対する溶解
性、発色性、生成色素の光堅牢性など種々の写真性能を
求められるが、その性能目標を達成させる一手段として
カプラー構造の置換基を変化させることは当業界ではよ
く知られている。そのため、合成法としては簡便で、し
かも汎用性ある方法が望まれ、5−7ミノビラゾールー
4−カルボキシレート系化合物についても、合成法の改
良が要望されていた。
シレート系化合物は写真用カプラーの中間体として有用
な化合物である。写真用カプラーは、溶媒に対する溶解
性、発色性、生成色素の光堅牢性など種々の写真性能を
求められるが、その性能目標を達成させる一手段として
カプラー構造の置換基を変化させることは当業界ではよ
く知られている。そのため、合成法としては簡便で、し
かも汎用性ある方法が望まれ、5−7ミノビラゾールー
4−カルボキシレート系化合物についても、合成法の改
良が要望されていた。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは、チオセミカルバジドを出発原料として
用い、高収率、低コスト、かつ中間体を(…離すること
なく一工程で種々の5−アミノピラゾール−4−カルボ
キシレート系化合物を製造する方法を提供することにあ
る。
とするところは、チオセミカルバジドを出発原料として
用い、高収率、低コスト、かつ中間体を(…離すること
なく一工程で種々の5−アミノピラゾール−4−カルボ
キシレート系化合物を製造する方法を提供することにあ
る。
本発明の上記目的は、チオセミカルバジドと下記一般式
(1)で示される化合物とを反応させ一工程で下記一般
式(I[)で示される5−アミ7ビラゾールー4−カル
ボキシレート系化合物を製造する方法によって達成され
る。
(1)で示される化合物とを反応させ一工程で下記一般
式(I[)で示される5−アミ7ビラゾールー4−カル
ボキシレート系化合物を製造する方法によって達成され
る。
一般式([) R’C0CHCOOR2式中、R1
は結合位が第2級もしくは第3a炭素原子であるフルキ
ル基、ジクロフルキル基、アリール基または複索環基を
表し、R2はアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基または複素環基を表す。Xはハロゲン原子、アルキル
スルホニルオキン基またはアリールスルホニルオキシ基
を表す。
は結合位が第2級もしくは第3a炭素原子であるフルキ
ル基、ジクロフルキル基、アリール基または複索環基を
表し、R2はアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基または複素環基を表す。Xはハロゲン原子、アルキル
スルホニルオキン基またはアリールスルホニルオキシ基
を表す。
一般式(n)
である。Aはプロトン酸を表し、11はOまたは正数を
表す。
表す。
本発明において、出発原料であるチオセミカルパッド
(Nll□CNIINH2)は、関東化学株式会社製(
薬品番号40317)のものを精製することなく用いた
。
(Nll□CNIINH2)は、関東化学株式会社製(
薬品番号40317)のものを精製することなく用いた
。
このチオセミカルバジドは、その反応に際しては分散媒
中に分散されて用いられる。用いることのできる分散媒
としては、ケトン類やアルデヒド類の如くカルボニル基
や酢酸エチルエステルの如(エステル結合を有しない化
合物、例えば水、アルコール類、ベンゼン類、エーテル
類、ハロゲン化炭化水素、アミド類等を代表的に挙げる
ことができる。このうち、好ましいものとしてはアルコ
ール類、エーテル類であり、特に好ましいものはアルコ
ール類である。
中に分散されて用いられる。用いることのできる分散媒
としては、ケトン類やアルデヒド類の如くカルボニル基
や酢酸エチルエステルの如(エステル結合を有しない化
合物、例えば水、アルコール類、ベンゼン類、エーテル
類、ハロゲン化炭化水素、アミド類等を代表的に挙げる
ことができる。このうち、好ましいものとしてはアルコ
ール類、エーテル類であり、特に好ましいものはアルコ
ール類である。
ケトン類やアルデヒド類はカルボニル基がチオセミカル
バジドのアミ7基と反応を起こすため好ましくない。ま
た酢酸エチルエステルはこのカルボニル基がチオカルボ
ヒドラジドのアミノ基と結合しアミドを形成しアルコー
ルが脱離するので目的とする化合物を得ることができず
好ましくない。
バジドのアミ7基と反応を起こすため好ましくない。ま
た酢酸エチルエステルはこのカルボニル基がチオカルボ
ヒドラジドのアミノ基と結合しアミドを形成しアルコー
ルが脱離するので目的とする化合物を得ることができず
好ましくない。
以″下余白
−1,一
本発明において用いられるアルコール類としては、例え
ばメタ7−ル、エタノール、n−”fロバノール、エチ
レングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル等を挙げることができる。
ばメタ7−ル、エタノール、n−”fロバノール、エチ
レングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル等を挙げることができる。
マタ、ベンゼン類とL−(は、ベンゼン、ニトロベンゼ
ン、トルエン、キシレン等が挙げられる。さらにエーテ
ル類としてはジエチルエーテル、エチレングリコールツ
メチルエーテル、ノエチレングリコールノメチルエーテ
ル、テトラヒドロ7ラン、ノオキサン等が挙げられる。
ン、トルエン、キシレン等が挙げられる。さらにエーテ
ル類としてはジエチルエーテル、エチレングリコールツ
メチルエーテル、ノエチレングリコールノメチルエーテ
ル、テトラヒドロ7ラン、ノオキサン等が挙げられる。
ハロゲン化炭化水素としては、四塩化炭素、クロロホル
ム、ブロモホルム等を挙げることができ、アミド類とし
てはホルムアミド、N、N−ツメチルホルムアミド等が
挙げられる。その他ジメチルスルホオキサイド、アセト
ニトリル等も分散媒として用いることができる。この分
散媒は必ずしも無水である必要がな+11゜ チオセミカルバジドは上記分散媒中に分散媒1重ffi
部当り、1〜1000重量部、好ましくは5〜100重
量部の割合で含有せしめられる。
ム、ブロモホルム等を挙げることができ、アミド類とし
てはホルムアミド、N、N−ツメチルホルムアミド等が
挙げられる。その他ジメチルスルホオキサイド、アセト
ニトリル等も分散媒として用いることができる。この分
散媒は必ずしも無水である必要がな+11゜ チオセミカルバジドは上記分散媒中に分散媒1重ffi
部当り、1〜1000重量部、好ましくは5〜100重
量部の割合で含有せしめられる。
次に本発明において上記チオセミカルバジドと共に用い
られる前記一般式[1で示されるα−置換ケトエステル
化合物について説明する。
られる前記一般式[1で示されるα−置換ケトエステル
化合物について説明する。
一般式[Hにおいて、R1で表される結合位がm2級も
しくは第3級炭素原子であるアルキル基としては、好ま
しくは炭素原子数3〜30のアルキル基、例えばイソプ
ロピル基、t−ブチル基、5ee−7ミル基、t−オク
チル基、2−エチルヘキシル基等を挙げることがでさる
。このアルキル基は置換基を有することができ、置換基
としては、ハロゲン原子、アリールオキシ基、アルキル
スルホニル基、アシルアミノ基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基等を挙げることができ、このような置換基を有す
るアルキル基の例としては、3− (2゜4−ノーt−
7ミル7・エノキシ)−1,1−ジメチルプロピル!、
2−(ドデシルスルホニル)−1−メチル−エチル基、
1−メチル−2−フェノキシエチル基等を挙げることが
できる。
しくは第3級炭素原子であるアルキル基としては、好ま
しくは炭素原子数3〜30のアルキル基、例えばイソプ
ロピル基、t−ブチル基、5ee−7ミル基、t−オク
チル基、2−エチルヘキシル基等を挙げることがでさる
。このアルキル基は置換基を有することができ、置換基
としては、ハロゲン原子、アリールオキシ基、アルキル
スルホニル基、アシルアミノ基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基等を挙げることができ、このような置換基を有す
るアルキル基の例としては、3− (2゜4−ノーt−
7ミル7・エノキシ)−1,1−ジメチルプロピル!、
2−(ドデシルスルホニル)−1−メチル−エチル基、
1−メチル−2−フェノキシエチル基等を挙げることが
できる。
R2で表されるアルキル基としては、好ましくは炭素原
子数1〜30の直鎖または分岐のアルキル基、例えば、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、し−ブチル基、
オクチル基、ドデンル基、エイコシル基、トリアコンチ
ル基等を挙げることができる。このアルキル基は置換基
を有することができ、置換基としては、ハロゲン原子、
アリールオキシ基、アルキルスルホニル基、アシルアミ
ノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基等を挙げることがで
き、このような置換基を有するアルキル基の例としては
、γ−(2,4−ジ−t−アミルフェノキン)プクビル
基、β−(トチ゛シルスルホニル)エチル基、7ヱノキ
シメチル基、メトキシエチル基等を挙げることができる
。
子数1〜30の直鎖または分岐のアルキル基、例えば、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、し−ブチル基、
オクチル基、ドデンル基、エイコシル基、トリアコンチ
ル基等を挙げることができる。このアルキル基は置換基
を有することができ、置換基としては、ハロゲン原子、
アリールオキシ基、アルキルスルホニル基、アシルアミ
ノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基等を挙げることがで
き、このような置換基を有するアルキル基の例としては
、γ−(2,4−ジ−t−アミルフェノキン)プクビル
基、β−(トチ゛シルスルホニル)エチル基、7ヱノキ
シメチル基、メトキシエチル基等を挙げることができる
。
R1およびR2で表されるシクロアルキル基としては、
好ましくは炭素原子数3〜12のシクロアルキル基、例
えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロドデシル基等を挙げることができる。
好ましくは炭素原子数3〜12のシクロアルキル基、例
えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロドデシル基等を挙げることができる。
R’お上りR2で表されるアリール基としては、具体的
にはフェニル基が挙げられる。この71ニル基は置換基
を有することができ、置換基とじては、アルコキシ基、
ノ)ロデン原子、アルキル基、アミド基等を挙げること
ができ、このような置換基を有するフェニル基の例とし
ては、p−メトキシフェニル基、ドデシルオキシフェニ
ル基、p−(α−(2,4−ジ−t−7ミルフエノキシ
)ブチリルアミ/+フェニル基、0−クロロフェニル基
、p−)リル基、メシチル(トリメチルフェニル)基等
を挙げることができる。
にはフェニル基が挙げられる。この71ニル基は置換基
を有することができ、置換基とじては、アルコキシ基、
ノ)ロデン原子、アルキル基、アミド基等を挙げること
ができ、このような置換基を有するフェニル基の例とし
ては、p−メトキシフェニル基、ドデシルオキシフェニ
ル基、p−(α−(2,4−ジ−t−7ミルフエノキシ
)ブチリルアミ/+フェニル基、0−クロロフェニル基
、p−)リル基、メシチル(トリメチルフェニル)基等
を挙げることができる。
R’およびR2で表される複素環基としては、具体的に
はフリル基、ピラニル基、チェニル基、ピリジル基、2
H−ピロリル基等を挙げることができる。
はフリル基、ピラニル基、チェニル基、ピリジル基、2
H−ピロリル基等を挙げることができる。
前記R’およびR2で表されるフルキル基、アリール基
又は複素環基のうち、アルキル基が特に好ましい。
又は複素環基のうち、アルキル基が特に好ましい。
一般式[NのXで表されるハロゲン原子としては具体的
には塩素原子、臭素原子、沃素原子等を挙げることがで
きる。またXで表されるアルキルスルホニルオキシ基と
しては例えばメタンスルホニルオキシ基を挙げることが
できる。
には塩素原子、臭素原子、沃素原子等を挙げることがで
きる。またXで表されるアルキルスルホニルオキシ基と
しては例えばメタンスルホニルオキシ基を挙げることが
できる。
さらにXで表されるアリールスルホニルオキシ基として
は具体的にはトルエンスルホニルオキシ基を挙げること
ができる。これらのうち、Xを導入する場合の合成経路
、コスト面よりXはハロゲン原子が好ましく、ハロゲン
原子のうちでは塩素原子が好ましい。
は具体的にはトルエンスルホニルオキシ基を挙げること
ができる。これらのうち、Xを導入する場合の合成経路
、コスト面よりXはハロゲン原子が好ましく、ハロゲン
原子のうちでは塩素原子が好ましい。
本発明の一般式[1で示される化合物の好ましいものは
、α−アシル−a−ハロ酢酸アルキル(又は7リール)
エステルであり、このような化OSは、例えば、オーが
ニック・シンセシス 合冊・4巻(Orir、5ynt
h、Col 1.Vol、4)、592−593頁に記
載されているように、a−アシル酢酸アルキル(又はア
リール)エステルを0℃〜5℃の温度でハロゲン化する
ことによって得ることができる。
、α−アシル−a−ハロ酢酸アルキル(又は7リール)
エステルであり、このような化OSは、例えば、オーが
ニック・シンセシス 合冊・4巻(Orir、5ynt
h、Col 1.Vol、4)、592−593頁に記
載されているように、a−アシル酢酸アルキル(又はア
リール)エステルを0℃〜5℃の温度でハロゲン化する
ことによって得ることができる。
この反応に用いられるハロゲン化試薬としては、ハロゲ
ン分子、スル7リルハライド (例えばスル7リルクロ
ライド)、N−ハロデノ化合物(例えばN−ブロモコハ
ク酸イミド、N−クロロコハク酸イミド等)を用いるこ
とができる。この化合物は常温において無色透明の毒性
を有する液体であり、17+nl6H)(の減圧下では
例えば、エチル−2−クロロ7セトアセテートは85℃
〜89℃の沸点を有している。
ン分子、スル7リルハライド (例えばスル7リルクロ
ライド)、N−ハロデノ化合物(例えばN−ブロモコハ
ク酸イミド、N−クロロコハク酸イミド等)を用いるこ
とができる。この化合物は常温において無色透明の毒性
を有する液体であり、17+nl6H)(の減圧下では
例えば、エチル−2−クロロ7セトアセテートは85℃
〜89℃の沸点を有している。
次に前記一般式[11で示される化合物の代表的具体例
を下記に示すが本発明はこれらに限定されない。
を下記に示すが本発明はこれらに限定されない。
以下余白
[1(CHz)zC1lCOC1lCOOC211s1
−2 (ell、)、CCOClIC0OC211
゜瞭 g し211sLffi 本発明の出発原料として用いられるチオセミカルバジド
と一般式[+1で示される化合物は、1:0,5〜1:
!、5のモル比で用いられ、好ましくは1:0.8〜1
:1.2の範囲である。
−2 (ell、)、CCOClIC0OC211
゜瞭 g し211sLffi 本発明の出発原料として用いられるチオセミカルバジド
と一般式[+1で示される化合物は、1:0,5〜1:
!、5のモル比で用いられ、好ましくは1:0.8〜1
:1.2の範囲である。
一般式[11で示される化合物を滴下する時の温度は、
脱水反応を比較的スムーズに行なわせるため、−20“
0〜200°Cが好ましく、特に0〜100 ’Cの範
囲が好ましい。また滴下後は、反応温度を20〜200
°Cの範囲にするのが好ましく、特に30〜100℃の
範囲で反応を行なうのが好ましい。前記一般式[11で
示される化合物の滴下後の反応温度を低くとも20℃以
上とするのは、この反応において起こる脱硫反応を迅速
に行なうためであり、また、200℃以下とするのは生
、成物の分解が起こり、収率が低下するからである。
脱水反応を比較的スムーズに行なわせるため、−20“
0〜200°Cが好ましく、特に0〜100 ’Cの範
囲が好ましい。また滴下後は、反応温度を20〜200
°Cの範囲にするのが好ましく、特に30〜100℃の
範囲で反応を行なうのが好ましい。前記一般式[11で
示される化合物の滴下後の反応温度を低くとも20℃以
上とするのは、この反応において起こる脱硫反応を迅速
に行なうためであり、また、200℃以下とするのは生
、成物の分解が起こり、収率が低下するからである。
また本発明におい′C反応に要する時間は特に限定され
ないが、上記温度範囲内では最長5分程度で充分であり
、これ以上時間をかけても不都合な問題を生じない。
ないが、上記温度範囲内では最長5分程度で充分であり
、これ以上時間をかけても不都合な問題を生じない。
本発明の上記反応において脱水反応をスムーズに行なわ
せるため、反応系において触媒を用いることが好ましい
。触媒としては塩酸、臭化水素酸、硫酸、スルホン酸類
(メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等)、カルボ
ン酸類(酢酸、蟻酸、プロピオン酸、安息香酸等)等を
挙げることができる。このような触媒は、好ましくは反
応を行なう前にそのまま分散媒中に直接添加される。そ
の添加量は、酸の強度によって異なるが0.01〜10
モル程度が好ましく、更に0.1〜2モル程度が特に好
ましい。
せるため、反応系において触媒を用いることが好ましい
。触媒としては塩酸、臭化水素酸、硫酸、スルホン酸類
(メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等)、カルボ
ン酸類(酢酸、蟻酸、プロピオン酸、安息香酸等)等を
挙げることができる。このような触媒は、好ましくは反
応を行なう前にそのまま分散媒中に直接添加される。そ
の添加量は、酸の強度によって異なるが0.01〜10
モル程度が好ましく、更に0.1〜2モル程度が特に好
ましい。
本発明の方法によれば下記一般式[111で示される目
的化合物が得られる。
的化合物が得られる。
以下余日
式中、R’、R2、Aおよびnは既述の通りである。
Aで表されるプロトン酸としては広範囲の有機酸、無機
酸が用いられるが、好ましいプロトン酸としては、塩酸
、臭化水素酸、硫酸、燐酸、メタンスルホン酸、p−)
ルエンスルホン酸、ピロメリティック酸等を挙げること
ができる・。
酸が用いられるが、好ましいプロトン酸としては、塩酸
、臭化水素酸、硫酸、燐酸、メタンスルホン酸、p−)
ルエンスルホン酸、ピロメリティック酸等を挙げること
ができる・。
以下に一般式〔■〕で示される化合物の具体例を示すが
、本発明はこれに限定されない。
、本発明はこれに限定されない。
[実施例]
以下に本発明の具体的実施例を記載するが本発明はこれ
に限定されない。
に限定されない。
実施例−1(例示化合物3の合成)
チオセミカルバジド141.9g (1,56モル)と
3−tN/−2−クロロ−4−メチルペンタン酸エチル
エステル(例示化合物1−1 ) 300g(1,56
モル)を無水塩酸−エタ/−ル2300ωl(エタノー
ル中に乾燥塩酸〃ス56.8F1(1,56モル)を含
有)に加え、50〜60’Cで3.5時間攪拌したとこ
ろ、チオセミカルバジドは消失し、硫黄が分散状態、で
析出した。
3−tN/−2−クロロ−4−メチルペンタン酸エチル
エステル(例示化合物1−1 ) 300g(1,56
モル)を無水塩酸−エタ/−ル2300ωl(エタノー
ル中に乾燥塩酸〃ス56.8F1(1,56モル)を含
有)に加え、50〜60’Cで3.5時間攪拌したとこ
ろ、チオセミカルバジドは消失し、硫黄が分散状態、で
析出した。
更に加熱し1時間攪拌下に還流した後、減圧下エタノー
ルを留去した。残渣に酢酸エチル800m1’を加えて
加熱し残渣が溶解したら溶液を水冷しながら炭酸水素す
) +7ウム水溶液(炭酸水素ナトリウム130.8g
(1,56モル)を水800m/に溶解したもの)を
少量ずつ添加した(激しく発泡する)。添加終了後、分
液瀘斗にて振盪し酢酸エチル層を分取した。酢酸エチル
層を2回水洗し、しばらく放置し、析出する硫黄を減圧
濾過により除いた。
ルを留去した。残渣に酢酸エチル800m1’を加えて
加熱し残渣が溶解したら溶液を水冷しながら炭酸水素す
) +7ウム水溶液(炭酸水素ナトリウム130.8g
(1,56モル)を水800m/に溶解したもの)を
少量ずつ添加した(激しく発泡する)。添加終了後、分
液瀘斗にて振盪し酢酸エチル層を分取した。酢酸エチル
層を2回水洗し、しばらく放置し、析出する硫黄を減圧
濾過により除いた。
酢酸エチルを500mZ留去した後、溶液を0℃に冷却
し濃硫酸152.7g (1,56モル)をゆっくり滴
下した。1昼夜室温で放置し析出した固□体を濾別、乾
燥し目的とするエチル−5−7ミ/−3−イソプロピル
ピラゾール−4−カルボキシレート・硫酸塩294g(
64%)を得た。ベージュ色固体。融点121〜123
°CFDマススペクトル(197)は構造を支持した。
し濃硫酸152.7g (1,56モル)をゆっくり滴
下した。1昼夜室温で放置し析出した固□体を濾別、乾
燥し目的とするエチル−5−7ミ/−3−イソプロピル
ピラゾール−4−カルボキシレート・硫酸塩294g(
64%)を得た。ベージュ色固体。融点121〜123
°CFDマススペクトル(197)は構造を支持した。
元素分析値(C9H+ 、N 302・H2S O、)
計算値(%) C: 36,6L H: 5.8ON
: 14,23 8 : 10.86実測値(%
) C: 36.43 H: 5.87N : 1
4.41 S : 10.97先に従来技術で述べ
たようにバイヤー等の合成法では、中間体をそれぞれ単
離し、溶媒や反応条件等を変化させ目的物を得るため非
常に繰作が煩雑で、かつ全収率も46%と低かった。従
って工業的規模での合成には不向きであった。
計算値(%) C: 36,6L H: 5.8ON
: 14,23 8 : 10.86実測値(%
) C: 36.43 H: 5.87N : 1
4.41 S : 10.97先に従来技術で述べ
たようにバイヤー等の合成法では、中間体をそれぞれ単
離し、溶媒や反応条件等を変化させ目的物を得るため非
常に繰作が煩雑で、かつ全収率も46%と低かった。従
って工業的規模での合成には不向きであった。
これに反して本発明は、実施例で示したようにバイヤー
等が3工程で行っていた反応を1工程に短縮し、直接目
的物が得られるようにしたこと及び収率が大幅に向上し
たことにより、コスト、操作性その池が者しく改良され
工業規模での合成を可能としたもので、その工業的価値
は大きい。
等が3工程で行っていた反応を1工程に短縮し、直接目
的物が得られるようにしたこと及び収率が大幅に向上し
たことにより、コスト、操作性その池が者しく改良され
工業規模での合成を可能としたもので、その工業的価値
は大きい。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 チオセミカルバジドと下記一般式〔 I 〕で示される化
合物とを反応させることを特徴とする下記一般式〔II〕
で示される5−アミノピラゾール−4カルボキシレート
系化合物の製造方法。 一般式〔 I 〕▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は結合位が第2級もしくは第3級炭素原
子であるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基ま
たは複素環基を表し、R^2はアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基または複素環基を表す。Xはハロゲ
ン原子、アルキルスルホニルオキシ基、またはアリール
スルホニルオキシ基を表す。〕 一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1およびR^2は前記R^1およびR^2
と同義である。Aはプロトン酸を表し、nは0または正
数を表す。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29751585A JPS62158257A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 5−アミノピラゾ−ル−4−カルボキシレ−ト系化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29751585A JPS62158257A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 5−アミノピラゾ−ル−4−カルボキシレ−ト系化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62158257A true JPS62158257A (ja) | 1987-07-14 |
Family
ID=17847514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29751585A Pending JPS62158257A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 5−アミノピラゾ−ル−4−カルボキシレ−ト系化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62158257A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011074063A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-04-14 | Fujifilm Corp | 5−アミノピラゾール誘導体又はその塩の製造方法 |
-
1985
- 1985-12-28 JP JP29751585A patent/JPS62158257A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011074063A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-04-14 | Fujifilm Corp | 5−アミノピラゾール誘導体又はその塩の製造方法 |
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