JPS5845415B2 - トリメチルシクロヘキセン誘導体 - Google Patents
トリメチルシクロヘキセン誘導体Info
- Publication number
- JPS5845415B2 JPS5845415B2 JP958476A JP958476A JPS5845415B2 JP S5845415 B2 JPS5845415 B2 JP S5845415B2 JP 958476 A JP958476 A JP 958476A JP 958476 A JP958476 A JP 958476A JP S5845415 B2 JPS5845415 B2 JP S5845415B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trimethylcyclohexene
- general formula
- derivative
- drimethyl
- hydroxy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なトリメチルシクロヘキセン誘導体に関す
る。
る。
本発明により提供される新規なトリメチルシクロヘキセ
ン誘導体は一般式 を有する。
ン誘導体は一般式 を有する。
ただし一般式〇中Ｒ１は水素原子または低級アシル基た
とえばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基などを
表わし、好ましくは水素原子またはアセチル基である。
とえばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基などを
表わし、好ましくは水素原子またはアセチル基である。
一般式■で示される本発明のトリメチルシクロヘキセン
誘導体は２・６・６−ドリメチルヘキサン環あるいは２
・６・６−ドリメチルヘキセン環を有する種々の価値あ
るテルペノイド類の合成中間体として有用であり、該ト
リメチルシクロヘキセン誘導体を用いることによりたと
えば従来コアネホラ骨リスポラ（ｃｈｏａｎｅｐｈｏｒ
ａ ｔｒｉｓｐｏｒａ ）から単離されているデオキシ
トリスポロン（このものは微生物学的なカロチン類の製
造法におけるカロチン類の生成促進作用を有する価値あ
る化合物である）を合成することが可能である。
誘導体は２・６・６−ドリメチルヘキサン環あるいは２
・６・６−ドリメチルヘキセン環を有する種々の価値あ
るテルペノイド類の合成中間体として有用であり、該ト
リメチルシクロヘキセン誘導体を用いることによりたと
えば従来コアネホラ骨リスポラ（ｃｈｏａｎｅｐｈｏｒ
ａ ｔｒｉｓｐｏｒａ ）から単離されているデオキシ
トリスポロン（このものは微生物学的なカロチン類の製
造法におけるカロチン類の生成促進作用を有する価値あ
る化合物である）を合成することが可能である。
２・６・６−トリメチル−３−ヒドロキシ−１−ヘキセ
ニルメチルフェニルスルホンを用いた場合ヲ例ニドって
本発明者らが見出したデオキシトリスポロンの合成経路
を示せば次のとおりである。
ニルメチルフェニルスルホンを用いた場合ヲ例ニドって
本発明者らが見出したデオキシトリスポロンの合成経路
を示せば次のとおりである。
一般式■で示されるトリメチルシクロヘキセン誘導体は
次の方法により製造することができる。
次の方法により製造することができる。
すなわち、一般式
（式中ｎは０または１または２である）で示されるスル
フィド（ｎ−０）、スルホキシド（ｎ＝１）またはスル
ホン（ｎ＝２）、好ましくはスルホンを二酸化セレンで
酸化すると、アリルメチルおよびスルホニルメチルは共
に酸化されることなく、高収率で で小される２・６・６−ドリメチルー３−ヒドロキシ−
１−シクロへキセニルメチルフェニルスルホンが得られ
る。
フィド（ｎ−０）、スルホキシド（ｎ＝１）またはスル
ホン（ｎ＝２）、好ましくはスルホンを二酸化セレンで
酸化すると、アリルメチルおよびスルホニルメチルは共
に酸化されることなく、高収率で で小される２・６・６−ドリメチルー３−ヒドロキシ−
１−シクロへキセニルメチルフェニルスルホンが得られ
る。
この酸化反応は約り０℃〜約９０℃の温度で、たとえば
ジオキサン、ベンゼン、エタノール、酢酸などの適当な
溶媒の存在下に行うことが好ましい。
ジオキサン、ベンゼン、エタノール、酢酸などの適当な
溶媒の存在下に行うことが好ましい。
二酸化セレンは、通常、化学量論量またはこれに近い量
もしくはこれよりも若干過剰に用いるのがよい。
もしくはこれよりも若干過剰に用いるのがよい。
上記のようにして得られたＩａのアルコールをアシル化
することによりＲ１が低級アシル基である一般式■の化
合物を得ることができる。
することによりＲ１が低級アシル基である一般式■の化
合物を得ることができる。
また上記一般式Ｈの化合物の二酸化セレンによる酸化反
応を酢酸、プロピオン酸、酪酸などの低級脂肪族カルボ
ン酸および／またはその塩（好ましくはアルカリ金属塩
）の存在下で行うとＩａのアルコールと共にまたはＩａ
のアルコールのかわりに該アルコールの低級脂肪族カル
ボン酸エステル（すなわちＲ１が低級アシル基である一
般式■の化合物）が得られる。
応を酢酸、プロピオン酸、酪酸などの低級脂肪族カルボ
ン酸および／またはその塩（好ましくはアルカリ金属塩
）の存在下で行うとＩａのアルコールと共にまたはＩａ
のアルコールのかわりに該アルコールの低級脂肪族カル
ボン酸エステル（すなわちＲ１が低級アシル基である一
般式■の化合物）が得られる。
この場合、前記ジオキサンなどの溶媒のかわりに該低級
脂肪族カルボン酸を溶媒兼反応剤として使用することも
できる。
脂肪族カルボン酸を溶媒兼反応剤として使用することも
できる。
一般式■の化合物は公知の物質であり、たとえば下記の
一般式 （式中ｎは一般式■中のそれと同じ意味を有する）で示
される化合物の酸触媒の存在下に環化反応させることに
より容易に好収率で得られる（日本化学会第３２春季年
会講演予稿集■第１８９１頁（１９７５年）および特願
昭５０−５８０８６号明細書参照）。
一般式 （式中ｎは一般式■中のそれと同じ意味を有する）で示
される化合物の酸触媒の存在下に環化反応させることに
より容易に好収率で得られる（日本化学会第３２春季年
会講演予稿集■第１８９１頁（１９７５年）および特願
昭５０−５８０８６号明細書参照）。
実施例 １
ジムロートを備えた二つ目フラスコ（１０ＴＬｌ容量）
に２・６・６−ドリメチルー１−シクロへキセニルメチ
ルフェニルスルホン１０１．７ｍ９ト二酸化セレン６１
．７■を秤りとり、これにジオキサン１ｍｌを注入した
のち約８０℃で１．５時間かぎまぜた。
に２・６・６−ドリメチルー１−シクロへキセニルメチ
ルフェニルスルホン１０１．７ｍ９ト二酸化セレン６１
．７■を秤りとり、これにジオキサン１ｍｌを注入した
のち約８０℃で１．５時間かぎまぜた。
反応終了後、反応混合物をクロロホルムでよく洗いなか
ら遠沈管に移し、遠心分離した。
ら遠沈管に移し、遠心分離した。
上澄液をテカンテーションにより分ち、エバポレーター
で溶媒を留去すると、赤褐色の粘性の高い液体が残った
。
で溶媒を留去すると、赤褐色の粘性の高い液体が残った
。
この残留物をシリカゲルカラム（展開溶媒：ベンゼン／
酢酸エチル−５／１）上に展開させて２・２・６−ドリ
メチルー３−ヒドロキシ−１−ヘキセニルメチルフェニ
ルスルホン８２．２■を分取すると共に原料２３．７■
を回収した。
酢酸エチル−５／１）上に展開させて２・２・６−ドリ
メチルー３−ヒドロキシ−１−ヘキセニルメチルフェニ
ルスルホン８２．２■を分取すると共に原料２３．７■
を回収した。
得られた２・２・６−ドリメチルー３−ヒドロキシ１−
シクロへキセニルメチルフェニルスルホンの性状は次の
とおりであった。
シクロへキセニルメチルフェニルスルホンの性状は次の
とおりであった。
ベンゼン／ｎ−ヘキサン−１／１０の混合溶媒で再結晶
後の融点：９４〜９５℃、赤外線吸収ス上記と同様にし
て２・６・６−ドリメチルー１−シクロヘキセニルメチ
ルトルイルスルホンからは２・６・６−ドリメチルー３
−ヒドロキシ−１−シクロヘキセニルトルイルスルホン
を収率７２％で得ることができた。
後の融点：９４〜９５℃、赤外線吸収ス上記と同様にし
て２・６・６−ドリメチルー１−シクロヘキセニルメチ
ルトルイルスルホンからは２・６・６−ドリメチルー３
−ヒドロキシ−１−シクロヘキセニルトルイルスルホン
を収率７２％で得ることができた。
実施例 ２
ておき、これに反応温度を一５°〜＋５℃に保つように
してアセチルクロリド７．９■のジエチルエーテル１ｍ
ｌ溶液を滴下し、ついで反応温度を３０℃に上げてさら
に２時間攪拌した。
してアセチルクロリド７．９■のジエチルエーテル１ｍ
ｌ溶液を滴下し、ついで反応温度を３０℃に上げてさら
に２時間攪拌した。
反応液を水にあげてニーチーチル抽出、乾燥後、溶媒を
減圧留去し、残留物をカラムクロマトグラフィーにして
精製して２・６・６−ドリメチルー３−アセトキシ−１
−シクロヘキセニルメチルフェニルスルホン３０．８ｍ
９を得た。
減圧留去し、残留物をカラムクロマトグラフィーにして
精製して２・６・６−ドリメチルー３−アセトキシ−１
−シクロヘキセニルメチルフェニルスルホン３０．８ｍ
９を得た。
この生成物は無色の結晶であり、これの赤外線吸収スペ
クトルおよび核磁気共鳴スペクトルは次のとおりであっ
た。
クトルおよび核磁気共鳴スペクトルは次のとおりであっ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中Ｒ１は水素原子または低級アシル基を表わす）で
示されるトリメチルシクロヘキセン誘導体。 ２２・６・６−ドリメチルー３−ヒドロキシ−１−シク
ロへキセニルメチルフェニルスルホンである特許請求の
範囲第１項記載のトリメチルシクロヘキセン誘導体。 ３２・６・６−ドリメチルー３−アセトキシ１−シクロ
へキセニルメチルフェニルスルホンである特許請求の範
囲第１項記載のトリメチルシクロヘキセン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP958476A JPS5845415B2 (ja) | 1976-01-30 | 1976-01-30 | トリメチルシクロヘキセン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP958476A JPS5845415B2 (ja) | 1976-01-30 | 1976-01-30 | トリメチルシクロヘキセン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5293750A JPS5293750A (en) | 1977-08-06 |
| JPS5845415B2 true JPS5845415B2 (ja) | 1983-10-08 |
Family
ID=11724353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP958476A Expired JPS5845415B2 (ja) | 1976-01-30 | 1976-01-30 | トリメチルシクロヘキセン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5845415B2 (ja) |
-
1976
- 1976-01-30 JP JP958476A patent/JPS5845415B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5293750A (en) | 1977-08-06 |
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