KR950007921B1 - 피라졸 설포닐이소시아네이트 유도체의 제조방법 - Google Patents

피라졸 설포닐이소시아네이트 유도체의 제조방법 Download PDF

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    • C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
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    • C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
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Abstract

내용 없음.

Description

피라졸 설포닐이소시아네이트 유도체의 제조방법
본 발명은 피라졸 설포닐 우레아계 제초제의 중간체로 유용한 하기 일반식(I)로 표시되는 피라졸 설포닐이소시아네이트 유도체의 제조방법에 관한 것이다.
[화학식 1]
상기식에서, Rl은 수소원자, Cl-C8알킬기 또는 페닐기이고 R2는 수소원자, Cl-C8알킬기, 알릴기 또는 프로파길기이며, R3는 수소원자, 메틸기, 에틸기 또는 페닐기이다.
상기 일반식(1)의 화합물을 합성하는 방법이 대한민국 특허 제89-1546호 및 유럽공개특허 제87,870호에 기재되어 있다. 이들 공지의 방법에 따르면, 하기 반응식(1)에 나타낸 바와 같이 일반식(II′)의 설폰아미드화합물을 n-부틸이소시아네이트와 반응시켜 화합물(III′)를 합성하고 이를 포스겐과 반응시켜 일반식(I)의 화합물을 합성하고 있다.
[화학식 2]
[화학식 3]
상기식에서,Rl, R2및 R3는 전술한 바와 동일하다.
그러나, 상기 방법에서는 인체에 매우 유독한 포스겐을 사용하고 있고, 반응시약으로 사용되고 있는 n-부틸이소시아네이트가 상당히 고가일 뿐 아니라, 최종 수율도 저조한 편이므로 공업적인 대량 생산방법으로는 적합하지 못하다.
본 발명은 전술한 공지 방법의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 하기 일반식 (II)의 카바메이트 화합물을 용매 또는 용매 부재하에서 오염화인과 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(I)의 피라졸 설포닐이소시아네이트 유도체의 제조방법을 제공한다.
[화학식 2]
[화학식 1]
상기식에서, Rl, R2, 및 R3는 전술한 바와 동일하며, R은 C1-C8의 알킬기, 알킬에테르기, 알릴기 또는 페닐기이며, 바람직하게는 C2-C4알킬기, 특히 바람직하게는 에틸기이다.
본 발명의 방법에 따른 반응은 용매 중에서 출발물질(II) 및 오염화인을 질소대기 하에서 용매의 환류온도로 5시간 내지 24시간동안 반응시키거나, 용매없이 출발물질과 오염화인을 약 140℃로 융화시켜 출발물질(II)이 소멸될 때까지 반응시킴으로서 이루어 진다.
본 발명의 반응에서, 오염화인은 출발물질(II)에 대하여 1.5당량 이상을 사용하여 반응시킬 수 있으나, 약 1.5 내지 5당량을 사용하는 것이 적당하고, 특히 2.0당량이 가장 바람직하다. 용매는 오염화인에 대하여 불활성인 디클로로메탄, 트리클로로에탄, 1,2-디클로로에탄 등과 같은 할로겐알칸류, 벤젠 및 톨루엔, 클로로벤젠 등의 유도체를 사용하는 것이 좋으며, 특히 약 100℃ 이상의 끊는 점을 가진 벤젠유도체를 용매로 사용하는 것이 5 내지 8시간의 반응시간으로 반응을 완료할 수 있어 바람직하다.
이하 본 발명을 실시예에 의거 보다 구체적으로 설명한다.
[제조예]
N-(에톡시 카보닐)-4-에톡시 카보닐 -1-메틸피라졸-5-설폰아미드의 합성
23.32g(0.1몰)의 4-에톡시카보닐-1-메틸피라졸-5-설폰아민과 아세톤 100ml 및 16.59g(0.12몰)의 K2CO3을 플라스크에 넣고 교반시키면서 에틸클로로포르메이트 13.02g(0.12몰)을 적가한 후 질소 대기 하에서 실온으로 24시간 교반한다. 반응이 완결되면 감압하에서 아세톤을 제거하고 10% 황산용액 20ml을 반응플라스트에 투입후 에틸에테르로 반응생성물을 추출하고 마그네슘설페이트로 건조한 다음 용매를 제거하여 표제 화합물의 조생성물 29.59g을 얻었다.
이 조생성물을 다시 에탄올로 재결정하여 순수한 표제 화합물 20.20g 얻었다.
실시예
4-에톡시카보닐-1-메틸피라졸-5-설포닐이소시아네이트의 합성
상기 제조예에서 합성한 화합물 30.5g(0.1몰)과 오염화인 41.6g(0.2몰) 및 톨루엔 200m1을 플라스크에 넣고 약6시간 질소 대기하에서 환류 교반시킨 후 내부 온도를 실온으로 냉각하고 톨루렌 용매를 감압하여 제거하고 플라스크에 남아 있는 생성물질을 감압 증류하여 표제 화합물 23.8g(수율95%)을 얻었다.

Claims (3)

  1. 하기 일반식(II)의 카바메이트 화합물을 용매 존재 또는 용매 부재하에서 오염화인과 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(I)의 피라졸 설포닐이소시아네이트 유도체의 제조방법.
    상기식에서, 4는 수소원자, C1-C4알킬기 또는 페닐기이고, R2는 수소원자, C1-C4알킬기, 알릴기 또는 프로파길기이며, R3는 수소원자, 매틸기, 에틸기 또는 페닐기이며, R은 C1-C8의 알킬기, 알킬에테르기, 알릴기 또는 페닐기를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 용매가 벤젠, 톨루엔 또는 클로로벤젠임을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 오염화인의 사용량이 일반식(II)의 화합물에 대하여 1.5 내지 5당랑임을 특징으로하는 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7220976B2 (en) 2003-12-19 2007-05-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Ion source and ion implanter having the same

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