JPS6215217A - ビスフエノ−ルaノボラツク樹脂の製造法 - Google Patents

ビスフエノ−ルaノボラツク樹脂の製造法

Info

Publication number
JPS6215217A
JPS6215217A JP15497285A JP15497285A JPS6215217A JP S6215217 A JPS6215217 A JP S6215217A JP 15497285 A JP15497285 A JP 15497285A JP 15497285 A JP15497285 A JP 15497285A JP S6215217 A JPS6215217 A JP S6215217A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bisphenol
resin
toluene
formaldehyde
mol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP15497285A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0533251B2 (ja
Inventor
Noburu Kikuchi
宣 菊地
Hiroyuki Kawakami
広幸 川上
Takayuki Saito
斉藤 高之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP15497285A priority Critical patent/JPS6215217A/ja
Publication of JPS6215217A publication Critical patent/JPS6215217A/ja
Publication of JPH0533251B2 publication Critical patent/JPH0533251B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、新規かつエポキシ樹脂の硬化剤として有用な
ビスフェノールAノボラック樹脂の製造法に関する。
(従来の技術) 従来、フェノール化合物とホルムアルデヒドを酸性触媒
の存在下に脱水縮合せしめて得られるノボラック樹脂が
良く知られており、該フェノール化合物としてビスフェ
ノールAを用いて得られたノボラック樹脂はビスフェノ
ールAノボラック樹脂として知られている。これは、主
にエポキシ樹脂の硬化剤としてエポキシ樹脂と混合して
、プリプレグ及び回路形成用積層板の製造に供される。
一方、エポキシ樹脂を用いた積層板の製造において、エ
ポキシ樹脂硬化剤としては、ジシアンジアミドが主流を
占めている。
積層板の製造は、一般に、エポキシ樹脂及び硬化剤をメ
チルエチルケトン等の溶剤に溶解させた後、硬化促進剤
を加え、樹脂ワニスとする。ついで、この樹脂ワニスを
ガラス布に含浸させた後。
乾燥器で溶剤を蒸発揮散させ、プリプレグとする。
このプリプレグは、適当量積層され又は、さらに銅箔を
積層してプレス加圧下に加熱硬化させられる。このよう
にして得られた積層板には9回路形成のためのエツチン
グ、穴あけ等の加工が施される。
また、積層板分野においては、樹脂の硬化性。
硬化樹脂の耐熱性、積層板のドリル加工性、耐湿性、電
気特性及び色相安定性、樹脂ワニスの安定性などが要求
項目として挙げられる。
(発明が解決しようとする問題点) エポキシ樹脂の硬化剤としてジンアンジアミドを使用し
た場合、樹脂の硬化性(高温加熱が必要)。
硬化樹脂の耐熱性、積層板の色相安定性及びドリル加工
性に劣る面があるため、硬化性に優れるビスフェノール
Aノボラック樹脂を使用して、このような欠点を改善す
ることが期待される。
そこで1本発明者らが従来知られているビスフェノール
Aノボラック樹脂について、flll々検討した結果9
次のことがわかった。
すなわち、従来知られているビスフェノールAノボラッ
ク樹脂を使用して調整したエポキシ樹脂組成物は、積層
板のドリル加工性1色相安定性及び電気特性について特
に1問題はなかったが、(1)樹脂の硬化性が不十分で
ある(ジシアンジアミドより低温でよいが、比較的高温
でなければ十分硬化しない) 、 +2)硬化樹脂の耐
熱性に劣る。(3)樹脂ワニスの保存安定性に劣る(可
使時間が短い)及ヒ(41エポキシ樹脂とビスフェノー
ルAノボラック樹脂との相爵性に劣るためプリプレグが
白化すると共に硬化が十分になされないなどの欠点があ
る。
そこで、さらに、ビスフェノールAノボラックについて
、詳細に検討したところ1次のことがわかった。
すなわち、ビスフェノールAに対するホルムアルデヒド
の仕込み比率を種々変化させて9例えばビスフェノール
A1モルに対して、ホルムアルデヒドの仕込み量を0.
4〜1.0モルまで変化させて反応させたところ、ホル
ムアルデヒドが1.0モルの場合には2反応中にゲル化
が起こり目的物質が得られず、ホルムアルデヒドの仕込
み量が0.9モルでは、得られたノボラック樹脂中に未
反応ビスフェノールA単量体が約18重f%含まれてお
り。
ホルムアルデヒドの仕込み量が0.9モルよシ少ない場
合、それ以上の未反応ビスフェノールA単量体が含まれ
る。
そこで9本発明者らは、この点に着目し、残存する未反
応ビスフェノールAdit体の量と上記欠点の関係を検
討することとした。
その結果、上記欠点のない新規なビスフェノールAノボ
ラック樹脂の製造法を開発した。本発明は、この製造法
を提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、ビスフェノールA1モルに対してホルムアル
デヒド0.4〜0.8モルを配合し、酸性触媒の存在下
に加熱反応させた後、上記ビスフェノールAに対して2
5〜400重tチのトルエンの存在下に加熱し、80℃
以上の温度下で軽液(上層)と重液(下層)の二層に分
離し1重液を分離して、これからトルエンを除去するこ
とを特徴とするビスフェノールAノボラック樹脂の製造
法に関する。
本発明の目的物質は9次の特性を有するものが特に好ま
しい。しかし、これに限定されるものでない。
すなわち、目的物質であるビスフェノールAノボラック
においてフェノール成分(残存未反応単量体を含む)1
モルに対して結合ホルムアルデヒドが0.7〜0.9モ
ルであってフェノール単量体含有量が10重量%以下で
あることである。
フェノール成分1モルに対して結合ホルムアルデヒドの
モル数が小さすぎると残存する未反応単量体の含有量が
多くなるか数平均分子量が低下するため硬化性及び耐熱
性が低下し、大きすぎると分子量が高くなりすぎ、エポ
キシ樹脂との相溶性が低下しやすくなる。
ここで、フェノール(ビスフェノールA)成分−1モル
に対する結合ホルムアルデヒドのモル数は。
ビスフェノールAノボラック樹脂の核磁気共鳴スペクト
ルのビスフェノールA成分中のメチル基に基づ< 1.
5 ppmのピークとビスフェノールAにホルムアルデ
ヒドが付加縮合して形成されるメチレン基に基づ< 3
.75 ppmのピークの面積強度比から求めたもので
ある。この測定において溶媒としては、ジメチルスルホ
キシド(ただし、メチル基の水素はすべてジウテリウム
である。 DMSOd6)を使用する。
本発明の目的物質であるビスフェノールAノボラック樹
脂は、フェノール単量体含有量が10重量%以下である
ことが好ましい。この含有量が10重量%を超えると硬
化性、硬化樹脂の耐熱性が低下しやすくなる。
また、フェノール(ビスフェノールA)成分1モルに対
する結合ホルムアルデヒドモル数及びフェノール(ビス
フェノールA)単量体含有量が上記した範囲内にないと
樹脂ワニスの保存安定性が劣る傾向がある。
本発明に係るビスフェノールAノボラック樹脂は、また
、数平均分子量が600−2,000のものが好ましい
数平均分子量が600未満になると硬化樹脂の耐熱性が
低下しやすくなり、2,000を超えるとエポキシ樹脂
との相溶性が悪くなりやすい。
また9本発明におけるビスフェノールAノボラック樹脂
は9分散度が2.2以下が好ましい。分散度がこの範囲
であることにより、プリプレグ乾燥時の硬化反応の一部
進行の防止及び硬化温度の低温化による積層板の着色防
止の効果がある。ここで分散度とは9重量平均分子量/
数平均分子量の比である。本発明において1重量平均分
子量と数平均分子量は、ゲルパーミェーションクロマト
グラフィーによシ求めたものである。検量線は、ビスフ
ェノール単量体(分子i1228 )、  ビスフェノ
ールA1モルとホルムアルデヒド0.4〜0.8モルを
酸性触媒下で反応させて得られる反応物中のビスフェノ
ールA成分を2〜7個有する化合物を利用して作成した
ものを使用する。浴離液はテトラヒドロフラン、流量は
1.7 me 1分、温度は38℃及び圧力は48kg
/cm2とする。
本発明の目的物質であるビスフェノールAノボラック樹
脂は2次のようにして製造することができる。
ビスフェノールA1モルに対してホルムアルデヒド0.
4〜0.8モルを好ましくは、ベンゼン、キシレン、ト
ルエン等の芳香族系溶媒中で、酸性触媒の存在下に反応
させる(第1工程)。ついで。
得られた樹脂と仕込みビスフェノールAに対して25〜
400重量−のトルエンを混合し、好ましくは、80℃
以上でトルエンの沸点以下の温度で好ましくは0.5時
間以上攪拌した後、該温度下で静置すると2層に分離す
るのでその下層(トルエン及びビスフェノールAノボラ
ック樹脂を含む美粘稠な又は若干粘稠な液状物ヲ分離し
、これからトルエンを除去する(第2工程)。
各工程について、さらに詳しく説明する。
第1工程において、ホルムアルデヒドは、ビスフェノー
ルA1モルに対して0.4〜0.8モルである。0.4
モル未満では、未反応ビスフェノールAが多くなると共
に、最終的に得られる樹脂においてビスフェノールA成
分1モルに対する結合ホルムアルデヒド金0.7モル以
上にするのが困難になる。また、0.8モル%を超える
と反応中にゲル化するおそれ及び分子量が20,000
を超える分子種の生成が多くなり、最終的に得られる樹
脂のエポキシ樹脂との相溶性が低下しやすくなると共に
場合により数平均分子量及び分散匿が大きくなる。
ホルムアルデヒドは、パラホルムアルデヒド、ホに?I
Jン水溶液、α−ポリオキシメチレン等ノ形態で使用す
ることができる。芳香族系溶剤は、水と共沸組成を形成
するものが好ましい。その使用量は仕込みビスフェノー
ルAに対して20〜100重!−チが好ましい。また、
芳香族系溶剤としては。
トルエンを使用するのが、第1工程にひきつづいて第2
工程を行なうことができるので好ましい。
酸性触媒としては、硫酸、塩酸等の鉱酸、パラトルエン
スルホン酸、シュウ酸等の有機酸など通常フェノールノ
ボラック樹脂の製造に使用されるものを用いることがで
き、その使用量は、仕込みビスフェノールAに対して0
.1〜2重t%が好ましい。反応温度は、70〜90℃
で1.5〜4時間反応させ、主にビスフェノールAへの
ホルムアルデヒドの付加反応を行なった後、100℃以
上で還流温度以下に昇温して反応させ、脱水縮合反応さ
せるのが好ましい。この場合、縮合水全除去しつつ行な
い、縮合水が生成しなくなるまで反応させるのが好まし
い。この時間は通常3〜5時間である。この後9反応液
には、酸性触媒を中和するためにアルカリを酸性触媒と
当量で加えるのが好ましい。ここでアルカリとしては、
水酸化リチウム。
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエタノールア
ミン、モルホリン等がある。このようにして、得られた
第1零四工程反応液は、溶剤を蒸留等によって除去した
後(トルエン全溶剤とした時は反応液のままでもよい)
、第2工程に供される。
第2工程では、仕込みビスフェノールAに対してトルエ
ンが25〜400重i%になるように。
第1工程で得られた樹脂とトルエンを混合又は反応液に
トルエンが追加される。このようにして得られた樹脂溶
液は、ついで、好ましくは80℃以上でトルエンの沸点
以下で、好ましくは0.5時間以上加熱攪拌される。こ
の後、樹脂耐液は、80℃以上で好ましくはトルエンの
沸点以下で該樹脂溶液を上下二層に分離する。この時、
下層はトルエン及びビスフェノールAノボラック樹脂ヲ
含む粘稠な又は若干粘稠な液状物からなり、上層は。
ビスフェノールA単量体及び少量のビスフェノールA成
分を分子内に2個有するホルムアルデヒド反応物が溶解
したトルエンm液である。この分離は、静置して行なう
のが好ましく、また、遠心分離器を用いて強制的に分離
することもできる。この分離が80℃未満で行なわれる
と上層のトルエン溶剤からビスフェノールA単量体が析
出し、下層と混じるため好ましくない。
下層を分離採取した後、トルエン金蒸留除去することに
より9本発明に係るビスフェノールAノボラック樹脂を
得ることができる。第2工程においテ、トルエンが仕込
みビスフェノールAに対して、25重量−未満では、ト
ルエンがビスフェノールAノボラック樹脂に吸収された
形の粘稠物にな、9,400重量%を超えるとビスフェ
ノールAノボラック樹脂の比較的低分子量分子種が上層
のトルエンに溶解し、収率が低下し、大過剰の時は二層
に分離せずトルエンの均一溶液になる。第2工程は、1
回行なえば9通常9本発明に係るビスフェノールAノボ
ラック樹脂を得ることができるが、場合によ92回以上
繰返してもよい。この場合上記したトルエン債は樹脂量
に対してのものである。
第2工程において、その処理粂件を調整することによシ
、得られるビスフェノールAノボラックの数平均分子量
及び分散度、を調整することができる。
このようにして得られたビスフェノールAノボラック樹
脂は、含まれる中和塩を除去せずそのまま又は熱水処理
等によって中和塩を除去した後。
使用に供することができる。
第2工程において使用する溶剤は、トルエンであるが9
例えばベンゼン、キシレン等の他の溶剤では目的を達成
することができない。
なお2本発明におけるビスフェノールAノボラック樹脂
は、その構成成分として、ビスフェノールA以外のフェ
ノール類が9本発明の目的に合致する範囲で含まれてい
てもよい。このようなフェノール類としては、クレゾー
ル、フェノール等があり、前記製造時にビスフェノール
Aと共に便用(実施例) 次に1本発明の実施例を示す。
実施例1 ディーン・スターク油水分離器、温度計および攪拌器を
取シ付けた11!ガラス製四つロフラスコに、ビスフェ
ノールA228 g (1,0−r−ル)、 s。
チハラホルムアルデヒド22.59(ホルムアルデヒド
換算0.6モル)及びトルエン171gを仕込み、攪拌
しながら昇温した。フラスコ内の温度が80℃になった
時点で触媒のシュウ酸二水和物1.5gを加え、80℃
で3時間攪拌を続けた。この後、フラスコ内の温度を1
05℃にして、トルエンを還流させ、共沸して流出する
水は系外に除去した。水の流出がなくなるまでトルエン
還流を続けた。この時のフラスコ内の温度は113℃で
あシ、除去された水の合計量は15.7 m/であった
。この量は、80俤パラホルムアルデヒド中に含まれる
水、シュウ酸二水和物中の水分量及び発生すべき縮合水
の合計量に一致する。この時の反ついで、トリエタノー
ルアミンを加えて中和した後、トルエン228gを加え
、トルエンが還流する温度まで昇温した。この時に、攪
拌を止めると軽液(上層)と重液(下層)の二層に分離
する。
昇温後、30分間攪拌した後、攪拌を止め1反応液を軽
液と重液の二層に分離させた。軽液をデカンテーション
によって除去して重/ff1k得た。この重液にトルエ
ン4009を加え、トルエ/i流下30分間攪拌した俵
、攪拌を止め再度二層に分離し9重液(下層)を分離採
取した。これは若干粘稠な液体であった。これからエバ
ポレーターによってトルエンを除去し、淡黄色の樹脂(
A) 132gを得た。
得られた樹脂について、軟化点は環球式で求めた。樹脂
中に含まれる残存ビスフェノールAjlif体及び分子
量はゲルパーミェーションクロマトグラフィー(GPC
)を利用して測定した。この時の分離カラムとしては、
GELPACK−R420゜R430及びR,440(
いずれも日立化成工業■商品名、多孔性スチレン−ジビ
ニルベンゼン共重合体粒子をカラム充填剤として使用)
を一本ずつ直列に連結し、溶離液としてはテトラヒト、
ロンラン、検出器としては示差屈折計を使用し、流量は
1.75m//分とした。この時に得られたタロマドグ
ラムを第1図に示す。また1分子量の算定に用いた検量
線については、下記に示す。
樹脂中のビスフェノールA成分1モルに対スる結合ホル
ムアルデヒドfifは、該樹脂の核磁気共鳴(NMR)
スペクトルから求めた。このスペクトルを第2図に示す
。すなわち、1.5ppmに出現するビスフェノールA
成分のメチル基に基づくピー、りの積分強度A及び3.
75pI)mに出現する結合ホルムアルデヒドのメチレ
ン基に基づくピークの積分強度Fから1式 %式%) によって求めたものである。
以上の結果を表1に示す。
実施例2 実施例1において、80%パラホルムアルデヒドの使用
量を30g(ホルムアルデヒド換算0.8モル)とし、
トルエンのf更用i1’!r115gとすること以外は
、実施例1に準じて反応を進め、軽液を除去して重液を
得た。
この重液にトルエン200gを加え、トルエン還流下に
30分間攪拌した後、攪拌を止め、軽液と重液に分離し
、軽液をデカンテーションによって除去して重液を得た
。ついで、この操作をもう一度繰返した。
このようにして得られた重液からエバポレーターによっ
てトルエンを除去して淡黄色の樹脂(B)178gを得
た。
この樹脂CB)について、実施例1と同様にして測定し
た物性を表1に示す。
実施例3 実施例1に準じて反応を進め1重液を得た。ついで、重
液vcトルエン2009を加え、トルエン還流下に30
分間攪拌した後、攪拌を止め、軽、′f。
と重液に分離し、軽glデカンテーションによって除去
して重液を得る操作を4回繰返した。
このようにして得ら扛た重液からエバポレーターによっ
てトルエンを除去して淡黄色の樹脂〔C〕749を得た
この樹脂〔C〕について、実施例1と同様にして測定し
た物性を表1に示す。
比較例1 実施例1において、トリエタノールアミンを加えて中和
したトルエン溶液からエバポレーターによってトルエン
を除去し、淡黄色の樹脂[D] 2319を得た。
この樹脂〔D〕について、実施例1と同様にして測定し
た物性を表1に示す。!iた。樹脂CD)のGPCクロ
マトグラムを第3図に示す。
比較例2 実施例1において、80%パラホルムアルデヒドの使用
′1に’i33.89(ホルムアルデヒド換算0.90
モル)を用いたこと以外は、実施例IK$じて反応を進
め、トリエタノールアミンを加えて中和した。この反応
液からエバポレーターによってトルエンを除去し、淡黄
色の樹脂[E) 235 taを得た。
この樹脂[E)について、実施例1と同様にして測定し
た物性を表1に示す。
〔検量線の作成〕
GPCKよる分子量決定のための検量線は次の測定を行
ない、クロマトグラムを求めた。このクロマトグラムを
第4図にグラフ1として示す。このクロマトグラムにお
いて、ピーク2〜8は、それぞれ、順に下記一般式〔1
〕のnが0〜6の化合物であり、nが0のときはビスフ
ェノールA単量体である。
H (ただし9式中、Bは、ビスフェノールA単量体の一方
の水酸基に対してオルト位の二つの水素又は両方の水酸
基に対してオルト位の水素1個ずつであって合計二つの
水素を除いた二価の残基を示し、nは0又は1〜6の整
数である) ここで、nがθ〜6に対応する各化合物の分子量は次の
とおシである。
nがOのとき、228゜ nが1のとき、469゜ nが2のとき、709゜ nが3のとき、949゜ nが4のとき、1190゜ nが5のとき、1430゜ nが6のとき、1670である。
ついで、各化合物の溶出時間(分)を横軸に1分子量を
対数目盛で縦軸にしてプロットし、これに基づいて、第
4図に示すように検量線9.を求めた。
第4図から明らかなように、検量線9は明確な直線性を
示す。
比較例3 比較例1で得た樹脂(D)100gをキシレン(メタ体
とパラ体の混合物)に溶解し、135°Cで30分間加
熱攪拌した後、攪拌を止め9反応液を重液と軽液に分離
させた。軽液をデカンテーションによって除去して重液
を得た。この重液からエバポレーターによってキシレン
を除去し、淡黄色の樹脂(F)を得た。
この樹脂〔F〕について、実施例1と同様にして測定し
た物性を表1に示す。
参考例1〜5 エピコート828(シェルケミカル社商品名。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量190
)100重量部、実施例1〜3及び比較例1〜2で得ら
れた硬化剤61重量部を130℃でよく混合したのち、
2−エチル−4メチルイミダゾール0.5重量部を添加
し、エポキシ樹脂組成物を作成した。作成直後、170
°Cで2時間加熱して硬化させた。
得られた硬化物について耐熱性試験を行なった。
その結果を表2に示す。
耐熱性試験としては、ガラス転移温度及びJISK  
7207(1983年)に基づく熱変形温度の測定を行
なった。ガラス転移点は熱機械試験機金用いて熱膨張係
数を測定した場合に該係数の変曲点を示す温度とした。
表2 硬化物の耐熱性試験結果 参考例6〜7 エピコート828 100重量部とテトラブロムヒスフ
ェノールA63重量部をテトラメチルアンモニウムクロ
ライド0.1重量部の存在下に反応させて得られたエポ
キシ樹脂(エポキシ当量410)100重量部、硬化剤
として樹脂(A)又は樹脂CD) 31 重Jt部及び
1−シアンエチル−2−7エニルイミダゾール0.7重
量部をメチルエチルケト7120重量部に溶解し、エポ
キシ樹脂組成物ワニスを作成した。このフェノについて
、ゲルタイムの測定を行なった。ゲルタイムの測定は、
クロス作成直後又は23℃で1ケ月保存後に、150℃
の熱板上でフェノがゲル化するまでの時間(秒)を測定
することによって行なった。
また、上記フェノの作成後、ガラスクロス(表面がエポ
キシシランで処理されたガラス繊維のガラスクロス、厚
さ0.18mm、  日東紡績■G−9020−BZG
)100重量部にフェノを固形分で52重量部含浸させ
てプリプレグを作成した。
このプリプレグを70〜110℃の乾燥炉中で10分間
乾燥させた。
この乾燥プリプレグの外観を目視した。
また、乾燥プリプレグを170℃で2時間加熱硬化させ
、このときのプリプレグの色相の変化を目視により調べ
た。
さらに、上記乾燥プリプレグを示査走青熱量計で150
℃の温度に加熱したときの上記乾燥プリプレグの発熱開
始から終了までの時間を測定した。
さらに、上記乾燥プリプレグ15枚及び35μmの銅箔
6枚を該プリプレグ3枚毎に該銅箔1枚(ただし、2枚
は表面及び裏面)積層し、130℃で15分間、ついで
150℃で15分間、40に9 /cm2の圧力でプレ
ス成形して積層板を得た。
この積層板を121℃で圧力2kg/Cm”のスチーム
雰囲気下に6時間静置し、その重量増加分を測定して、
積層板の吸湿性を調べた。
一方、上記で得られた積層板に、1叩φのドリルで1万
個の穴をあけ、そのうち200個を選択して、スミャ発
生率を調べ、ドリル加工性を判定した。
以上の結果を表3に示す。
参考例8 硬化剤として樹脂〔D′3を使用し、参考例6と同様に
して、乾燥プリプレグを作成し、その外観を目視した。
この結果を表3に示す。
表3 ワニス、プリプレグ及び積層板の特性表3の結果
から、明らかなように、ワニスの作成直後と1ケ月保存
後のゲルタイムは、樹脂〔A〕を硬化剤とした場合(実
施例/)は樹脂〔D〕を硬化剤とした場合(比較例1)
に比し、変化が小さく、保存安定性が優れる。プリプレ
グの外観が半透明で白化部分がないということは、エポ
キシ樹脂と硬化剤の相溶性が優れることを示す。また。
発熱終了までの時間が短いということは、短時間で硬化
が完了することを意味し、この点で樹脂(A〕を硬化剤
としたとき(実施例1)の方が樹脂〔D〕を硬化剤とし
たとき(比較例/)に比し、優れることがわかる。
また9体積抵抗値から、樹脂[A)を硬化剤として得ら
れた積層板の方が、樹脂CD)を硬化剤として得られた
積層板よシも電気絶縁性が優れることがわかる。
λ 硬化剤として樹脂〔E〕を用いた場合(比較例1)。
プリプレグは白化した。これは、樹脂〔E〕が残存ビス
フェノールA単量体を18.2重量%含有するにもかか
わらず9重量平均分子量が樹脂〔B〕と同程度であるこ
とからもわかるように1分子量20.000を超える分
子稲が比較的多く存在するため、エポキシ樹脂との相溶
性が劣るためである。
(発明の効果) 本発明により、新規なビスフェノールAノボラック樹脂
が得られ、このビスフェノールAノボラック樹脂は、エ
ポキシ樹脂の硬化剤として有用であシ、これを硬化剤と
して得られるエポキシ樹脂硬化物は、優れた耐熱性を示
し、核樹脂を硬化剤として含有するエポキシ樹脂ワニス
は、保存安定性が優れ、まfc、このワニスを使用して
得られるプリプレグは、硬化性及び色相安定性に優れる
また、このプリプレグから得られる8を層板は良好な体
積抵抗、耐吸湿性及びドリル加工性を示す。
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例1で得られた樹脂〔A〕のGPCクロ
マトグラム、第2図は樹脂[A)の核磁気共鳴スペクト
ル、第3図は比較例1で得られた樹脂〔D〕のGPCク
ロマトグラム並びに第4図は、実施例3で得られた樹脂
〔C〕のGPCクロマトグラム及び検量線を示す。 符号の説明 1・・・樹脂〔C〕のGPCクロマトグラム9・・・検
量線 代理人 弁理士 若 林 邦 彦4  。 3落出11千問(分)、− ♀4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ビスフェノールA1モルに対してホルムアルデヒド
    0.4〜0.8モルを配合し、酸性触媒の存在下に加熱
    反応させた後、上記ビスフェノールAに対して25〜4
    00重量%のトルエンの存在下に加熱し、80℃以上の
    温度下で軽液(上層)と重液(下層)の二層に分離し、
    重液を分離して、これからトルエンを除去することを特
    徴とするビスフェノールAノボラック樹脂の製造法。
JP15497285A 1985-07-12 1985-07-12 ビスフエノ−ルaノボラツク樹脂の製造法 Granted JPS6215217A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15497285A JPS6215217A (ja) 1985-07-12 1985-07-12 ビスフエノ−ルaノボラツク樹脂の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15497285A JPS6215217A (ja) 1985-07-12 1985-07-12 ビスフエノ−ルaノボラツク樹脂の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6215217A true JPS6215217A (ja) 1987-01-23
JPH0533251B2 JPH0533251B2 (ja) 1993-05-19

Family

ID=15595906

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15497285A Granted JPS6215217A (ja) 1985-07-12 1985-07-12 ビスフエノ−ルaノボラツク樹脂の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6215217A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6184963B1 (en) 1987-06-10 2001-02-06 Hitachi, Ltd. TFT active matrix LCD devices employing two superposed conductive films having different dimensions for the scanning signal lines
US6814728B2 (en) 2001-02-26 2004-11-09 Pentax Corporation Endoscope having an operation wire
JP2008001882A (ja) * 2006-06-21 2008-01-10 Chang Chun Plastics Co Ltd 新規なフェノール・アルデヒド樹脂およびその製造方法ならびにその用途

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6184963B1 (en) 1987-06-10 2001-02-06 Hitachi, Ltd. TFT active matrix LCD devices employing two superposed conductive films having different dimensions for the scanning signal lines
US6384879B2 (en) 1987-06-10 2002-05-07 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device including thin film transistors having gate electrodes completely covering the semiconductor
US6839098B2 (en) 1987-06-10 2005-01-04 Hitachi, Ltd. TFT active matrix liquid crystal display devices
US6992744B2 (en) 1987-06-10 2006-01-31 Hitachi, Ltd. TFT active matrix liquid crystal display devices
US7196762B2 (en) 1987-06-10 2007-03-27 Hitachi, Ltd. TFT active matrix liquid crystal display devices
US7450210B2 (en) 1987-06-10 2008-11-11 Hitachi, Ltd. TFT active matrix liquid crystal display devices
US6814728B2 (en) 2001-02-26 2004-11-09 Pentax Corporation Endoscope having an operation wire
US7857749B2 (en) 2001-02-26 2010-12-28 Hoya Corporation Treatment tools for endoscope
JP2008001882A (ja) * 2006-06-21 2008-01-10 Chang Chun Plastics Co Ltd 新規なフェノール・アルデヒド樹脂およびその製造方法ならびにその用途
US7662902B2 (en) * 2006-06-21 2010-02-16 Chang Chun Plastics Co., Ltd. Phenolic resin with low level of free bisphenol
JP4551387B2 (ja) * 2006-06-21 2010-09-29 長春人造樹脂廠股▲分▼有限公司 新規なフェノール・アルデヒド樹脂およびその製造方法ならびにその用途

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0533251B2 (ja) 1993-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6361962B2 (ja)
JPS6215217A (ja) ビスフエノ−ルaノボラツク樹脂の製造法
CN112079978A (zh) 一种dcpd-双酚型苯并噁嗪树脂和覆铜板用组合物及其制备方法
JPH03717A (ja) 新規エポキシ樹脂及びその製造法
JPS6215216A (ja) ビスフエノ−ルaノボラツク樹脂
JP2732125B2 (ja) 高耐熱性樹脂組成物
EP0506080A2 (en) Epoxy resin hardener and epoxy resin composition
TW201542614A (zh) 一種窄分散苯酚酚醛清漆樹脂及其製造方法
JPS6215221A (ja) エポキシ樹脂組成物
JPS62167318A (ja) エポキシ樹脂の硬化方法
JP3236382B2 (ja) フェノール系樹脂の製造法
TWI548693B (zh) 聚苯醚改質酚-苯甲醛多官能基環氧樹脂與應用
WO2001046101A1 (en) Stable bisphenolic compositions
JPH0397710A (ja) 共役二重結合含有シリコーン変性ノボラック樹脂の製造方法
JP7209763B2 (ja) ベンゾオキサジン樹脂、その製造方法、及び樹脂組成物
JPH04225012A (ja) 4核体フェノール類ノボラック及びその製造法
US6716729B2 (en) Stable bisphenolic compositions
JPH04282331A (ja) 新規化合物、樹脂、樹脂組成物及び硬化物
JPH01240511A (ja) ビスフエノールaノボラック樹脂の製造法
JPH05287053A (ja) エポキシ樹脂、樹脂組成物及び硬化物
JPS6377915A (ja) フェノール類ノボラック組成物の製造法
JPS62242676A (ja) エポキシ樹脂の製造法
KR102295391B1 (ko) 벤족사진 및 이를 이용한 폴리벤족사진의 제조방법
TWI600674B (zh) 二環戊二烯-酚樹脂與2,6二甲基苯酚共聚物環氧樹脂製造與應用
JPH0359020A (ja) エポキシ樹脂組成物