JPS62150700A - Ｘ線管フイラメント加熱回路 - Google Patents
Ｘ線管フイラメント加熱回路Info
- Publication number
- JPS62150700A JPS62150700A JP29130985A JP29130985A JPS62150700A JP S62150700 A JPS62150700 A JP S62150700A JP 29130985 A JP29130985 A JP 29130985A JP 29130985 A JP29130985 A JP 29130985A JP S62150700 A JPS62150700 A JP S62150700A
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- current
- heating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、例えば医用Ｘ線装置におけるＸ線管のフィラ
メント電流を調整してＸ線管電流を制御するＸ線管フィ
ラメント加熱回路の改良に関する。
メント電流を調整してＸ線管電流を制御するＸ線管フィ
ラメント加熱回路の改良に関する。
この種のＸ線管フィラメント加熱回路の従来構成を第３
図及び第４図を参照して説明する。第３図に示す構成は
タップ切換え方式のものであり、交流電源１の交流電力
は、スタビライザ２．空間電荷補償トランス３．加熱調
整抵抗器４及びそのタップを切換える管電流設定器５を
介してフィラメントトランス６の一次側に供給され、そ
の二次出力をＸ線管７のフィラメントに与えるようにし
ている。ここで管電流設定器５でタップを切換えること
により加熱調整抵抗器４の抵抗値を変え、これによる抵
抗で電圧ドロップを変化させＸｒＪ管７のフィラメント
加熱を調整している。
図及び第４図を参照して説明する。第３図に示す構成は
タップ切換え方式のものであり、交流電源１の交流電力
は、スタビライザ２．空間電荷補償トランス３．加熱調
整抵抗器４及びそのタップを切換える管電流設定器５を
介してフィラメントトランス６の一次側に供給され、そ
の二次出力をＸ線管７のフィラメントに与えるようにし
ている。ここで管電流設定器５でタップを切換えること
により加熱調整抵抗器４の抵抗値を変え、これによる抵
抗で電圧ドロップを変化させＸｒＪ管７のフィラメント
加熱を調整している。
第４図に示す構成は半導体方式のものであり、交流電源
１の交流電力は、ダイオードブリッジ８ａと平滑コンデ
ンサ８ｂからなる整流平滑回路８、スイッチングトラン
ジスタ９ａとリアクトル９ｂと平滑コンデンサ９Ｃとダ
イオード９ｄからなるレギュレータ回路９．スイッチン
グトランジスタ１０ａ及び１０ｂからなるインバータ回
路１０を介してフィラメントトランス１１の一次側に供
給され、その二次出力をＸＩＩ管７のフィラメントに与
えるようにしている。ここでレギュレータ回路９のトラ
ンジスタ９ａのオン、オフ比を変えることにより、Ｘ線
管７のフィラメント加熱を調整している。
１の交流電力は、ダイオードブリッジ８ａと平滑コンデ
ンサ８ｂからなる整流平滑回路８、スイッチングトラン
ジスタ９ａとリアクトル９ｂと平滑コンデンサ９Ｃとダ
イオード９ｄからなるレギュレータ回路９．スイッチン
グトランジスタ１０ａ及び１０ｂからなるインバータ回
路１０を介してフィラメントトランス１１の一次側に供
給され、その二次出力をＸＩＩ管７のフィラメントに与
えるようにしている。ここでレギュレータ回路９のトラ
ンジスタ９ａのオン、オフ比を変えることにより、Ｘ線
管７のフィラメント加熱を調整している。
上述した従来の回路構成では、フィラメント加熱調整は
タップ方式であるか半導体方式であるかの手段の相違は
あるものの、いずれも設定曝射管電圧と設定曝射電流と
の値からその条件に応じた一つの加熱レベル（フィラメ
ントに加える電力）が決定され、この加熱レベルで上記
手段が制御されるものである。従って、Ｘ線制御器でＲ
ＥＡＤＹ操作中は一定の加熱レベルが保たれる。
タップ方式であるか半導体方式であるかの手段の相違は
あるものの、いずれも設定曝射管電圧と設定曝射電流と
の値からその条件に応じた一つの加熱レベル（フィラメ
ントに加える電力）が決定され、この加熱レベルで上記
手段が制御されるものである。従って、Ｘ線制御器でＲ
ＥＡＤＹ操作中は一定の加熱レベルが保たれる。
ところで、医用Ｘ線装置として例えばスポットショット
ｍ影装置等では、スポットショット撮影時等にあってｘ
ｔａ・管フィラメントの立上りに長時間を要すると禮影
タイミングを逸する恐れがあり、上記立上り時間は例え
ば０．８秒以下程度のできるだけ短い時間であることが
望ましい。
ｍ影装置等では、スポットショット撮影時等にあってｘ
ｔａ・管フィラメントの立上りに長時間を要すると禮影
タイミングを逸する恐れがあり、上記立上り時間は例え
ば０．８秒以下程度のできるだけ短い時間であることが
望ましい。
第５図は第３図及び第４図の構成におけるフィラメント
熱の立上がり特性を示す図であり、この第５図に示す如
＜ＲＥＡＤＹ期間中一定の加熱レベルでフィラメントを
加熱する方式であるので、高電圧、低電流条件時に加熱
の立上がりが２秒以上もかかることがある。
熱の立上がり特性を示す図であり、この第５図に示す如
＜ＲＥＡＤＹ期間中一定の加熱レベルでフィラメントを
加熱する方式であるので、高電圧、低電流条件時に加熱
の立上がりが２秒以上もかかることがある。
また短時間の立上り特性を得るために、従来構成にブレ
フラッシュを実施する構成を付加することが考えられる
。すなわち、第６図は第３図の構成に、ブレフラッシュ
制御回路１２で動作するスイッチ１３及び可変抵抗１４
からなるバイアス回路を付加したものである。また、第
４図に対するブレフラッシュのための構成としては、レ
ギュレータ回路９のトランジスタ９ａのオン時間をＲＥ
ＡＤＹ信号が与えられてから所定時間だけ延長すること
により実現される。
フラッシュを実施する構成を付加することが考えられる
。すなわち、第６図は第３図の構成に、ブレフラッシュ
制御回路１２で動作するスイッチ１３及び可変抵抗１４
からなるバイアス回路を付加したものである。また、第
４図に対するブレフラッシュのための構成としては、レ
ギュレータ回路９のトランジスタ９ａのオン時間をＲＥ
ＡＤＹ信号が与えられてから所定時間だけ延長すること
により実現される。
これらブレフラッシュ機能を付加した従来構成であれば
、第７図に示す如＜ＲＥＡＤＹ信号が与えられてから、
ある短時間だけは加熱レベルを本加熱レベルよりも高く
するつまりブレフラッシュ動作を行ない、これにより加
熱の立上りを速くすることが可能となる。しかし乍、ブ
レフラッシュ量つまり（ブレフラッシュレベル）×（ブ
レフラッシュ時間）は、曝射条件や使用するＸｆ！管毎
に変えなければならないため、管電流条件と管電圧条件
との積だけブレフラッシュ量の調整が必要になる。この
機能をハードウェアで実現するには構成が複雑でありま
た操作調整も面倒なものとなり、実際のＸ線装置への適
用には問題があった。
、第７図に示す如＜ＲＥＡＤＹ信号が与えられてから、
ある短時間だけは加熱レベルを本加熱レベルよりも高く
するつまりブレフラッシュ動作を行ない、これにより加
熱の立上りを速くすることが可能となる。しかし乍、ブ
レフラッシュ量つまり（ブレフラッシュレベル）×（ブ
レフラッシュ時間）は、曝射条件や使用するＸｆ！管毎
に変えなければならないため、管電流条件と管電圧条件
との積だけブレフラッシュ量の調整が必要になる。この
機能をハードウェアで実現するには構成が複雑でありま
た操作調整も面倒なものとなり、実際のＸ線装置への適
用には問題があった。
本発明は上記事情に基づいてなされたもので、その目的
は、操作調整が簡単であり且つあらゆる撮影＠射条件に
おいて０．８秒程度の素早いフィラメント加熱立上り特
性が得られるＸ線管フィラメント加熱回路を提供するこ
とにある。
は、操作調整が簡単であり且つあらゆる撮影＠射条件に
おいて０．８秒程度の素早いフィラメント加熱立上り特
性が得られるＸ線管フィラメント加熱回路を提供するこ
とにある。
上記目的を達成するために本発明によるＸ線管フィラメ
ント加熱回路は、外部から与えられる設定Ｘ１ａＩＩｉ
射条件（設定管電圧条件及び設定管電流条件）によりフ
ィラメント電流ＩＦを求める第１の手段と、この第１の
手段によって求めたフィラメント電流ＩＦによりフィラ
メント電圧Ｖｐを求める第２の手段と、上記第１の手段
によって求めたフィラメント電流１ｐからこのフィラメ
ント電流ＩＦの増加に対して減少する関数Ｋを求める第
３の手段とを持ち、ブレフラッシュ動作時においてはＶ
ＦＸＫという量でＸ線管のフィラメント電流を制御する
ことを特徴とする。
ント加熱回路は、外部から与えられる設定Ｘ１ａＩＩｉ
射条件（設定管電圧条件及び設定管電流条件）によりフ
ィラメント電流ＩＦを求める第１の手段と、この第１の
手段によって求めたフィラメント電流ＩＦによりフィラ
メント電圧Ｖｐを求める第２の手段と、上記第１の手段
によって求めたフィラメント電流１ｐからこのフィラメ
ント電流ＩＦの増加に対して減少する関数Ｋを求める第
３の手段とを持ち、ブレフラッシュ動作時においてはＶ
ＦＸＫという量でＸ線管のフィラメント電流を制御する
ことを特徴とする。
先ず、実施例の説明に先立つ本発明の原理について説明
する。すなわち、本発明では、ブレフラッシュ時間を０
．５秒前後の一定時間としておき、ブレフラッシュ量は
、設定した曝射条件に応じて変化させるようにしている
。
する。すなわち、本発明では、ブレフラッシュ時間を０
．５秒前後の一定時間としておき、ブレフラッシュ量は
、設定した曝射条件に応じて変化させるようにしている
。
ところで、フィラメントの加熱立上りは加熱レベルが大
きいほど速い傾向にある。従って、低電圧、大電流の条
件では立上りが速く、逆に高電圧。
きいほど速い傾向にある。従って、低電圧、大電流の条
件では立上りが速く、逆に高電圧。
低電流になるほど立上りが遅くなるものである。
今、ブレフラッシュ時間を０．５秒に固定すると、ある
本加熱レベルにおいて、０．５秒の時間でフィラメント
の表面温度を定常時の９０％まで上げるためブレフラッ
シュレベルが得られる。そこで、この比をに′とすると
、各Ｘ線管について本加熱レベルに対するに′のカーブ
が得られる。
本加熱レベルにおいて、０．５秒の時間でフィラメント
の表面温度を定常時の９０％まで上げるためブレフラッ
シュレベルが得られる。そこで、この比をに′とすると
、各Ｘ線管について本加熱レベルに対するに′のカーブ
が得られる。
Ｋ′＝（ブレフラッシュレベル）／
（本加熱レベル〉
また、加熱レベルは管電流ＩＦの関数であるから、Ｋ′
一本加熱レベルのカーブからに′−ＩＦのカーブを得る
事ができる。ただし、Ｋ≧１としておくが、これは以下
の理由による。すなわち、Ｋ＜１では本加熱レベルより
もブレフラッシュレベルが小さくなるでブレフラッシュ
を行わなくともフィラメントの加熱立上りを０．８秒以
下にすることができるものである。
一本加熱レベルのカーブからに′−ＩＦのカーブを得る
事ができる。ただし、Ｋ≧１としておくが、これは以下
の理由による。すなわち、Ｋ＜１では本加熱レベルより
もブレフラッシュレベルが小さくなるでブレフラッシュ
を行わなくともフィラメントの加熱立上りを０．８秒以
下にすることができるものである。
以下本発明にかがるｘｓＩＩフィラメント加熱回路の一
実施例を第１図を参照して説明する。
実施例を第１図を参照して説明する。
第１図において、２１は外部から与えられる設定Ｘ線曝
射条件（設定管電圧条件及び設定管電流条件）によりフ
ィラメント電流ＩＦを求める第１の手段である。２２は
第１の手段２１によって求めたフィラメント電流ＩＦに
よりフィラメント電する関数Ｋを求める第３の手段であ
る。２４は第２、第３の手段で求めたフィラメント電圧
Ｖｐと関数にとの積ＶｐＸＫを求める第４の手段である
。
射条件（設定管電圧条件及び設定管電流条件）によりフ
ィラメント電流ＩＦを求める第１の手段である。２２は
第１の手段２１によって求めたフィラメント電流ＩＦに
よりフィラメント電する関数Ｋを求める第３の手段であ
る。２４は第２、第３の手段で求めたフィラメント電圧
Ｖｐと関数にとの積ＶｐＸＫを求める第４の手段である
。
２５は第４の手段２４により求めたＶＦＸＫつまり制御
信号によりＸ線管７のフィラメントに与える電力を生成
するパワー制御部である。このパワー制御部２５は第２
図の如く構成される。第２図の構成は、第４図において
正負ライン間に抵抗１５ａと１５ｂからなる電圧検出器
１５を設けており、この電圧検出器１５の出力と第４の
手段２４により求めたＶｐＸＫの制御信号との偏差を増
幅する増幅器１６、この増幅器１６の出力と鋸波発生器
１７からの鋸波とを比較してパルス幅変調する比較器１
８、この比較器１８の出力に基づきレギュレータ回路９
のトランジスタ９ａに駆動信号を与えるドライバ１９よ
り構成されている。
信号によりＸ線管７のフィラメントに与える電力を生成
するパワー制御部である。このパワー制御部２５は第２
図の如く構成される。第２図の構成は、第４図において
正負ライン間に抵抗１５ａと１５ｂからなる電圧検出器
１５を設けており、この電圧検出器１５の出力と第４の
手段２４により求めたＶｐＸＫの制御信号との偏差を増
幅する増幅器１６、この増幅器１６の出力と鋸波発生器
１７からの鋸波とを比較してパルス幅変調する比較器１
８、この比較器１８の出力に基づきレギュレータ回路９
のトランジスタ９ａに駆動信号を与えるドライバ１９よ
り構成されている。
上記構成による動作は以下の通りである。すなわち、第
１の手段に２１に外部から設定ｘｍｓ射条件（設定管電
圧条件及び設定管電流条件）を与え、ここでフィラメン
ト電Ｆ＆Ｉ Ｐを求め、これを第２の手段２２に与えて
フィラメント電圧ＶＦを求め、また、第３の手段２３に
よりフィラメント電圧ｒｐの増加に対して減少する関数
Ｋを求め、第４の手段２４により制御信号ＶｐＸＫを求
め、これを増幅器１６に与える。この増幅器１６では電
圧検出器１５の出力と第４の手段２４により求めたＶＦ
ＸＫの制御信号との偏差を増幅し、この偏差信号と鋸波
発生器１７からの鋸波とを比較器１８により比較してパ
ルス幅変調し、ドライバ１９を介してレギュレータ回路
９のトランジスタ９ａに与えられ、電圧検出回路１５の
出力が上記制御人力ＶｐＸＫに一致するようにトランジ
スタ９ａのオン時間が調節されるものである。
１の手段に２１に外部から設定ｘｍｓ射条件（設定管電
圧条件及び設定管電流条件）を与え、ここでフィラメン
ト電Ｆ＆Ｉ Ｐを求め、これを第２の手段２２に与えて
フィラメント電圧ＶＦを求め、また、第３の手段２３に
よりフィラメント電圧ｒｐの増加に対して減少する関数
Ｋを求め、第４の手段２４により制御信号ＶｐＸＫを求
め、これを増幅器１６に与える。この増幅器１６では電
圧検出器１５の出力と第４の手段２４により求めたＶＦ
ＸＫの制御信号との偏差を増幅し、この偏差信号と鋸波
発生器１７からの鋸波とを比較器１８により比較してパ
ルス幅変調し、ドライバ１９を介してレギュレータ回路
９のトランジスタ９ａに与えられ、電圧検出回路１５の
出力が上記制御人力ＶｐＸＫに一致するようにトランジ
スタ９ａのオン時間が調節されるものである。
上記によりブレフラッシュ量の調整は、Ｋ−１ｐカーブ
の調整のみで済むことになり、調整のポイントが少なく
フィラメントの加熱立上りを速することが可能なブレフ
ラッシュ量の調整が行なえるものである。尚、本加熱レ
ベルは第１゜第２の手段２１．２２により求めたＩＦ、
ＶＦでパワー制御部２５（第２図に示す構成）を動作さ
せればよい。
の調整のみで済むことになり、調整のポイントが少なく
フィラメントの加熱立上りを速することが可能なブレフ
ラッシュ量の調整が行なえるものである。尚、本加熱レ
ベルは第１゜第２の手段２１．２２により求めたＩＦ、
ＶＦでパワー制御部２５（第２図に示す構成）を動作さ
せればよい。
以上詳述したように本発明は、外部から与えられる設定
Ｘ線曝射条件（設定管電圧条件及び設定管電流条件）に
よりフィラメント電流ＩＦを求める第１の手段と、この
第１の手段によって求めたフィラメントＮ流ｒｐにより
フィラメント電圧ＶＦを求める第２の手段と、上記第１
の手段によって求めたフィラメント電流ＩＦからこのフ
ィラメント電流ｉｐの増加に対して減少する関数Ｋを求
める第３の手段とを持ち、ブレフラッシュ動作時におい
てはＶＦ×Ｋという量でＸ線管のフィラメント電流を制
御するようにしたものであり、この構成によれば、操作
調整が簡単であり且つあらゆる撮影Ｆ！ｊＡｆＪＪ条件
において０．８秒程度の素早いフィラメント加熱立上り
特性が得られるＸｌＩ管フィラメント加熱回路が提供で
きるものである。
Ｘ線曝射条件（設定管電圧条件及び設定管電流条件）に
よりフィラメント電流ＩＦを求める第１の手段と、この
第１の手段によって求めたフィラメントＮ流ｒｐにより
フィラメント電圧ＶＦを求める第２の手段と、上記第１
の手段によって求めたフィラメント電流ＩＦからこのフ
ィラメント電流ｉｐの増加に対して減少する関数Ｋを求
める第３の手段とを持ち、ブレフラッシュ動作時におい
てはＶＦ×Ｋという量でＸ線管のフィラメント電流を制
御するようにしたものであり、この構成によれば、操作
調整が簡単であり且つあらゆる撮影Ｆ！ｊＡｆＪＪ条件
において０．８秒程度の素早いフィラメント加熱立上り
特性が得られるＸｌＩ管フィラメント加熱回路が提供で
きるものである。
第１図及び第２図は夫々本発明の一実施例を示し第１図
はブロック図、第２図はパワー制御部の回路図、第３図
及び第４図は夫々従来例の回路図、第５図は第３図及び
第４図に示す回路の特性図、第６図は従来例にブレフラ
ッシュ動作機能を付加した例の回路図、第７図は第６図
に示す回路の特性図である。 １・・・交流電源、７・・・Ｘ線管、８・・・平滑整流
回路、９・・・レギュレータ回路、９ａ・・・トランジ
スタ、１０・・・インバータ回路、１１・・・フィラメ
ントトランス、１５・・・電圧検出回路、１６・・・増
幅器、１７・・・鋸波発生器、１８・・・比較器、１９
・・・ドライバ、２１・・・第１の手段、２２・・・第
２の手段、２３・・・第３の手段、２４・・・第４の手
段、２５・・・パワー制御部。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 ＲＥＡＤＹ句号 第５図 ＩＮ７ 図
はブロック図、第２図はパワー制御部の回路図、第３図
及び第４図は夫々従来例の回路図、第５図は第３図及び
第４図に示す回路の特性図、第６図は従来例にブレフラ
ッシュ動作機能を付加した例の回路図、第７図は第６図
に示す回路の特性図である。 １・・・交流電源、７・・・Ｘ線管、８・・・平滑整流
回路、９・・・レギュレータ回路、９ａ・・・トランジ
スタ、１０・・・インバータ回路、１１・・・フィラメ
ントトランス、１５・・・電圧検出回路、１６・・・増
幅器、１７・・・鋸波発生器、１８・・・比較器、１９
・・・ドライバ、２１・・・第１の手段、２２・・・第
２の手段、２３・・・第３の手段、２４・・・第４の手
段、２５・・・パワー制御部。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 ＲＥＡＤＹ句号 第５図 ＩＮ７ 図
Claims (1)
- 外部から与えられる設定Ｘ線曝射条件（設定管電圧条件
及び設定管電流条件）によりフィラメント電流Ｉ＿Ｆを
求める第１の手段と、この第１の手段によって求めたフ
ィラメント電流Ｉ＿Ｆによりフィラメント電圧Ｖ＿Ｆを
求める第２の手段と、上記第１の手段によって求めたフ
ィラメント電流Ｉ＿Ｆからこのフィラメント電流Ｉ＿Ｆ
の増加に対して減少する関数Ｋを求める第３の手段とを
持ち、ブレフラッシュ動作時においてはＶ＿Ｆ×Ｋとい
う量でＸ線管のフィラメント電流を制御することを特徴
とするＸ線管フィラメント加熱回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29130985A JPS62150700A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | Ｘ線管フイラメント加熱回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29130985A JPS62150700A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | Ｘ線管フイラメント加熱回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62150700A true JPS62150700A (ja) | 1987-07-04 |
| JPH0313719B2 JPH0313719B2 (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=17767229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29130985A Granted JPS62150700A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | Ｘ線管フイラメント加熱回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62150700A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004349254A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | 放射線源の発熱体に給電する方法及び対応する線源 |
| JP2019125460A (ja) * | 2018-01-15 | 2019-07-25 | キヤノンメディカルシステムズ株式会社 | Ｘ線管制御装置、ｘ線画像診断装置及びｘ線管制御方法 |
-
1985
- 1985-12-24 JP JP29130985A patent/JPS62150700A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004349254A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | 放射線源の発熱体に給電する方法及び対応する線源 |
| JP2019125460A (ja) * | 2018-01-15 | 2019-07-25 | キヤノンメディカルシステムズ株式会社 | Ｘ線管制御装置、ｘ線画像診断装置及びｘ線管制御方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0313719B2 (ja) | 1991-02-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |