JPS62150512A - 薄膜磁気ヘッド素子の製法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッド素子の製法

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JPS62150512A
JPS62150512A JP29535985A JP29535985A JPS62150512A JP S62150512 A JPS62150512 A JP S62150512A JP 29535985 A JP29535985 A JP 29535985A JP 29535985 A JP29535985 A JP 29535985A JP S62150512 A JPS62150512 A JP S62150512A
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magnetic
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Shigemi Imakoshi
今越 茂美
Hideo Suyama
英夫 陶山
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    • G11B5/3179Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
    • G11B5/3183Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ハードディスク用の磁気ヘッド素子の製法に
関する。
〔発明の概要〕
本発明は、磁気ヘッド素子の製法において、基板上に複
数のヘッド素子部分を、各ヘッド素子の巻線がヘッド素
子部分の一辺に延在する様に形成し、共通する上記一辺
に沿って基板を切断して複数のブロックを形成し、この
複数のブロックを上記一辺側の切断面で共通の一面を形
成するように配列固定すると共に、この一面上に巻線の
端面を露呈させ、次で端面に露呈した夫々の巻線端末に
接続用導体を上記一面上に形成して後、個々のヘッド素
子を分配することによって、例えばハードディスク用の
磁気ヘッド素子の量産化を可能にしたものである。
〔従来の技術〕
薄膜磁気ヘッド素子は、第9図に示す構造(以下、縦型
構造という)と、第10図及び第11図に示す構造(以
下平型構造という)の2種類に分類できる。第9図の磁
気ヘッド素子は、磁性基体(1)上に絶縁層(2)を介
して巻線としての導体層(3)が形成され、さらにその
上に絶縁層(2)を介して一部が磁性基体(11に磁気
的に結合した磁気ヨーク(4)が形成され、側面に臨む
磁性基体(11と磁気ヨーク(4)間で磁気ギャップg
が形成されて構成される。なお、(5)は保護層、(6
)は磁気記録媒体である。又、第10図及び第11図の
磁気ヘッド素子は、同様の磁性基体+1)上に絶縁層(
2)を介して巻線としての導体層(3)が形成され、さ
らにその上に絶縁層(2)を介して夫々一部が磁性基体
(11に磁気的に結合された一対の磁気ヨーク(7A)
及び(7B)が形成され、この一対の磁気ヨーク(7A
)及びく7B)によって導体層(3)に対して磁性基体
(1)と反対側の平面に磁気ギャップgが形成されて構
成される。
縦型構造の薄膜磁気ヘッド素子は既に実用化レベルに達
しているが、平型構造の薄膜磁気ヘッド素子は未だ実用
化されていない。しかし、平型構造の薄膜磁気ヘッド素
子はいくつ力・の点で縦型構造より優れている。即ち、
平型構造の磁気ヘッド素子は磁気効率が極めて高いこと
、又さまさまな複合ヘッドが可能となることである。
しかし、この平型構造の薄膜磁気ヘッド素子については
、製造上の問題と、保護層の信頼性に欠けることなどに
より、研究が遅れている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
平型構造の薄膜磁気ヘッド素子において、上述の製造上
の問題の1つに、リード線の引き出しの問題がある。ハ
ードディスク用の平型構造の薄膜磁気ヘッド素子では第
12図に示すようにスライダー(8)の浮上面(8a)
にヘッド素子(9)が形成されることになる。このよう
な位置からリード線を引き出すためには、何らかの手段
により、スライダー側面(8b)又は上面(8c))に
リード線を引き出す必要がある。
本発明は、上述の点に鑑み、接続用導体(リード線)を
浮上面より他の面に導出するようにして成る磁気へソド
素子を量産化できるようにした磁気ヘッド素子の製法を
提供するものである。
〔問題点を解決するだめの手段〕
本発明は、基板(11)上に複数のヘッド素子部分(1
3)を、各ヘッド素子(12)の巻線(14)がヘッド
素子部分(13)の一辺(15)側に延在する様に形成
する工程と、共通する上記一辺(15)に沿って基板(
11)を切断し、複数のヘッド素子部分(13)を有す
る複数のブロック(23)を形成する工程と、一辺(1
5)側の切断面(23a)により共通の一面(24)を
形成する様に複数のブロック(23)を配列固定すると
ともに巻線(14)の端面(14A)を−面(24)上
に露呈させる工程と、端面に露呈したそれぞれの巻線端
末に接続する接続用導体(26)を−面(24)上に形
成する工程と、個々の磁気ヘッド素子(27)を分離す
る工程を有することを特徴とする。
〔作用〕
上述の語法によれば、基板(11)上にヘッド素子(1
2)を形成して後、その巻線(14)の端面(14八)
が側面に露出するように基板(11)を切断し、その切
断面上に露呈した巻線端末に接続するように接続用導体
(26)を形成することにより、ヘッド素子(12)が
形成された基体(11’)の−0面(lla’)とは異
なる他の面(Llb’)に接続用導体(26)を有する
目的とした磁気ヘッド素子(27)が容易に製造される
しかも、製造に際しては基板(11)上に複数のヘッド
素子部分(13)を形成し、これを各ブロック(23)
毎に切断してその切断面(23a)が共通の一面(24
)を形成する様に、各ブロック(23)を再結合し、基
板の形に変えて接続用導体(26)を形成し、しかる後
、各磁気ヘッド素子(27)を分離するようになしてい
るため、目的とする磁気ヘッド素子(27)が同時に多
量に製造される。
〔実施例〕
以下、第1図乃至第8図を参照して本発明による磁気ヘ
ッド素子の製法の一実施例を説明する。
本例においては、先ず第1図に示すように所定の基板例
えばチタン酸カルシウムの如きセラミソり基板(11)
の−面、すなわち爾後スライダーの浮上面となる一面(
lla)上に、後述のプロセスによって複数の平型構造
の薄膜ヘッド素子(12)を所定の配列をもって形成す
る。この場合、切断線a及びbで区画される1個のスラ
イダーに対応してその浮上面に2個のヘッド素子(12
)を形成するものであり、この2個1組のヘッド素子部
分(13)が複数lII縦横に配列形成される。そして
、この複数のヘッド素子部分(13)は、各ヘッド素子
(12)の巻線となる導体層(14)がヘッド素子部分
(13)の一辺側(即ち切断線a)に延在するように、
従って、第2図に示すように後の切断工程における切り
しろ(15)内に延在するように、形成される。
各薄膜ヘッド素子(12)は次の様にして形成する(第
8図参照)。セラミック基J& (11)上の各ヘッド
素子を形成する領域に選択的に磁性層(16)を形成し
、この上にSi 02等による絶縁層(17)を形成し
て後、巻線となる導体層(14)を形成し、さらにこの
上に絶縁層(17)を形成する(第8図A)。次に一部
磁性層(16)に磁気的に結合する磁性薄膜(19)を
形成し、磁気ギャップgを形成して後(第8図B)、全
面に例えばSin、等による保護層(20)を形成する
(第8図C)。次で磁気ギヤツブgを形成する再磁気ヨ
ーク(19A)(19B)の磁気媒体対向面(21)が
臨むように平坦化して薄膜ヘッド素子(12)を形成す
る(第8図D)。
しかして、上記の様にしてセラミック基板(11)上に
各ヘッド素子(12)を形成した後、基板(11)に対
して、そのヘッド素子部分(13)の両ヘッド素子(1
2)及び(13)間に沿うようにtt (22)を形成
する(第1図参照)。
次に、第1図において各切断線aに沿って基板(11)
を切断して複数のヘッド素子部分(13)を有する複数
のブロック(23)を形成する。この切断によって各ブ
ロック(23)の一方の切断面(23a)にはヘッド素
子(12)の導体層(14)の端面(14A)が露呈す
る。次で、この複数のブロック(23)を各導体Ff 
(14)の端面(14A)が露出する切断面(23a)
によって共通の一面(24)が形成される様に、且つ、
ブロック(23)間で−・ラド素子(12)が整然と並
ぶ様にして、接着剤により配列固定する(第3図及び第
4図参照)。この時の接着剤としては、後工程において
有機溶剤して熔解し、加熱等により分離できるものを選
ぶ。
この後に、切断面(23a)で形成された一面(24)
を研磨する。研磨の目的は切断時のチッピングによって
荒れた端部を修正するためと、導体層(■4)の端面(
14A)をきれいにするためである。このように各ブロ
ック(23)を再接合し1、研磨したものは1つの基板
として扱うことができる。
次に第5図に示すように、この複数のブロック(23)
を固定して成る基板(25)の−面(24)上に各へラ
ド素子(12)の導体層(14)の端末に接続する接続
用導体(26)を形成する。この接続用導体(26)の
形成法は、蒸着又はスパッタリングした後、パターニン
グする方法、或は所定パターンのレジスト層を形成し、
蒸着又はスパッタリングして後、リフトオフする方法が
ある。この後、電着することもできる。
次に、第3図の切断線すに沿って切断しく第6図参照)
、さらに先に固定した接着剤を溶解して各チップに分離
し、洗浄する。そして最終的に第7図に示す磁気ヘッド
素子(27)を得る。この場合、セラミック基体(11
’)がスライダーとなり、この浮上面(lla’)に平
型構造のヘッド素子(12)が形成され、その巻線とな
る導体層(14)の端子即ち接続用導体(26)が側面
(llb’)に形成されることになる。
なお、基板(11)としては、接続用導体(14)の形
成の際に特別な絶縁手段を不要とする絶縁基板が望まし
い。しかし、絶縁手段を考慮すれば絶縁基板以外の他の
基板を用いることも可能である。
このように、本製法によれば、スライダー(11’)の
浮上面(lla’)にヘッド素子(12)を形成すると
共に、その導体層(14)の端子即ち接続用導体(26
)をスライダー(11’)の側面(llb’)に形成す
ることができる。しかも、かかる磁気ヘット素子(27
)は精度よく且つ一度に大量に製造される。
従って、本製法は平型構造の薄膜磁気ヘッドをハードデ
ィスク用の磁気ヘッドとして実用可能にするものである
〔発明の効果〕
上述せる本発明によれば、スライダーの如き基体の−の
面にヘッド素子を形成し、他の面にヘッド素子の巻線の
端子即ち接続用導体を形成して成る薄膜磁気ヘッド素子
を精度よく製造することができる。又、かかる薄膜磁気
ヘッド素子を量産化できる。従って、平型構造によるハ
ードディスク用磁気ヘッドの実用化が可能となるもので
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第7図は本発明による製法の一実施例を示す工
程図、第8図A−Dはヘッド素子の製法例を示す工程図
、第9図は縦型構造の薄膜磁気ヘッド素子の断面図、第
10図及び第11図は平型構造の薄膜磁気ヘッド素子の
断面図及び斜視図、第12図はハードディスク用の磁気
ヘッド素子の斜視図である。 (11)は基板、(12)はヘッド素子、(13)はヘ
ッド素子部分、(14)は巻線としての導体層、(23
)はブロック、(26)は接続用導体、(27)は磁気
ヘッド素子である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 a、基板上に複数のヘッド素子部分を、各ヘッド素子の
    巻線が上記ヘッド素子部分の一辺側に延在する様に形成
    する工程、 b、共通する上記一辺に沿って基板を切断し、複数のヘ
    ッド素子部分を有する複数のブロックを形成する工程、 c、上記一辺側の切断面により共通の一面を形成する様
    上記複数のブロックを配列固定するとともに上記巻線の
    端面を上記一面上に露呈させる工程、 d、上記端面に露呈したそれぞれの巻線端末に接続する
    接続用導体を上記一面上に形成する工程、e、個々のヘ
    ッド素子を分離する工程、を有する磁気ヘッド素子の製
    法、
JP29535985A 1985-12-25 1985-12-25 薄膜磁気ヘッド素子の製法 Expired - Fee Related JPH0758534B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2687497A1 (fr) * 1992-02-13 1993-08-20 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation d'une tete magnetique en couches minces.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2687497A1 (fr) * 1992-02-13 1993-08-20 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation d'une tete magnetique en couches minces.

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