JPS62146418A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS62146418A JPS62146418A JP28715685A JP28715685A JPS62146418A JP S62146418 A JPS62146418 A JP S62146418A JP 28715685 A JP28715685 A JP 28715685A JP 28715685 A JP28715685 A JP 28715685A JP S62146418 A JPS62146418 A JP S62146418A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- protective film
- magnetic head
- thin film
- gaseous
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置に用いられる薄膜磁気ヘッド
に関する。
に関する。
従来、この樵の薄膜磁気ヘッドは、第２図に示されるよ
うに磁気へラドスライダ２０の側面に薄膜製造技術を用
いて形成される。第３図は第２図の薄膜磁気ヘッド２２
の１ＩｊＴ面図を示したものである。
うに磁気へラドスライダ２０の側面に薄膜製造技術を用
いて形成される。第３図は第２図の薄膜磁気ヘッド２２
の１ＩｊＴ面図を示したものである。
このように薄膜磁気ヘッドは、スライダ基板１上に絶縁
膜２、下部磁性膜３、絶縁膜（ギャップ）４、絶縁膜５
、コイル６、絶縁膜７、上部磁性膜８、保護膜１０を順
次形成されることにより構成される。２１はスライダ面
、２３は端子を示す。
膜２、下部磁性膜３、絶縁膜（ギャップ）４、絶縁膜５
、コイル６、絶縁膜７、上部磁性膜８、保護膜１０を順
次形成されることにより構成される。２１はスライダ面
、２３は端子を示す。
従来より磁気ディスク装置においては、磁気ディスクの
静止時に磁気ディスク表面と磁気ヘッドスライダのスラ
イダ面とが接触し、磁気ディスクの回転時に空気の流れ
により生ずる圧力によって磁気ディスクと磁気ヘッドス
ライダがある一定の空隙を保つコンタクト・スタート・
ストップ（Ｃｏｎ−ｔＣＬｃｔ ５ｔＣＬｒｔ ５ｔｏ
ｐ；Ｃ，Ｓ、Ｓ、）方式が用いられている。
静止時に磁気ディスク表面と磁気ヘッドスライダのスラ
イダ面とが接触し、磁気ディスクの回転時に空気の流れ
により生ずる圧力によって磁気ディスクと磁気ヘッドス
ライダがある一定の空隙を保つコンタクト・スタート・
ストップ（Ｃｏｎ−ｔＣＬｃｔ ５ｔＣＬｒｔ ５ｔｏ
ｐ；Ｃ，Ｓ、Ｓ、）方式が用いられている。
したがって、磁気ヘッドスライダにおいては、Ｃ０Ｓ、
Ｓ、の繰り返しに対して欠けなどの生じない耐摩耗性に
優れた材料が望まれる。ところで、上述した従来の薄膜
磁気ヘッドスライダではスライダ材としてＡ１２０ｓ−
ＴｉＣを用いている。この材料は、機械加工の際の変形
、欠は等が小さく、またビッカース硬度で２０００とい
う非常に硬い材料である。
Ｓ、の繰り返しに対して欠けなどの生じない耐摩耗性に
優れた材料が望まれる。ところで、上述した従来の薄膜
磁気ヘッドスライダではスライダ材としてＡ１２０ｓ−
ＴｉＣを用いている。この材料は、機械加工の際の変形
、欠は等が小さく、またビッカース硬度で２０００とい
う非常に硬い材料である。
−力、保護膜として通常ＩＪ２０３ をスパッタリング
にて形成しているが、この膜は純度も低く、ビンカース
硬度で８００〜９００と軟い材料であり、Ｃ，Ｓ、Ｓ。
にて形成しているが、この膜は純度も低く、ビンカース
硬度で８００〜９００と軟い材料であり、Ｃ，Ｓ、Ｓ。
に対して損傷を受けやすく、欠は等も生じやすいという
欠点がある。そして、このような欠点は、ヘソドクラツ
ンユを誘発し、磁気ヘッド及び磁気ディスク双方に重大
な損傷を生ずるという危険性を増大するものである。
欠点がある。そして、このような欠点は、ヘソドクラツ
ンユを誘発し、磁気ヘッド及び磁気ディスク双方に重大
な損傷を生ずるという危険性を増大するものである。
これを解決する一つの方法として、保護膜をより硬い膜
とする方法がある。−例として保護膜のＡｌ２Ｏ３スパ
ッタリングをにガスに少量の０２ガスを添加した雰囲気
中で実施すれば、従来のにガス雰囲気中でのスパッタリ
ングで形成された保護膜に比べて、約１．２倍以上の硬
度をもつ保護膜が得られる。しかしながら、本方法では
従来の方法に比べて保強膜形成時間に３〜４倍必要とな
るので実際的ではない。
とする方法がある。−例として保護膜のＡｌ２Ｏ３スパ
ッタリングをにガスに少量の０２ガスを添加した雰囲気
中で実施すれば、従来のにガス雰囲気中でのスパッタリ
ングで形成された保護膜に比べて、約１．２倍以上の硬
度をもつ保護膜が得られる。しかしながら、本方法では
従来の方法に比べて保強膜形成時間に３〜４倍必要とな
るので実際的ではない。
本発明の目的は前記欠点を解決し、保護膜形成時間を比
較的犠牲とせずに、Ｃ，Ｓ、Ｓ、に対する耐久性の優れ
た保護膜を有する薄膜磁気ヘッドを提供することにある
。
較的犠牲とせずに、Ｃ，Ｓ、Ｓ、に対する耐久性の優れ
た保護膜を有する薄膜磁気ヘッドを提供することにある
。
Ｃ問題点を解決するための手段〕
本発明の薄膜磁気ヘッドは、基板上に下部磁性膜、ギャ
ップ層、上部磁性膜、コイル、保護膜等を順次積層して
得られる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記保護膜を、少な
くとも一層がビッカース硬度１０００以上の膜を有する
二層構造としたことを特徴とするものである。
ップ層、上部磁性膜、コイル、保護膜等を順次積層して
得られる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記保護膜を、少な
くとも一層がビッカース硬度１０００以上の膜を有する
二層構造としたことを特徴とするものである。
次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例による薄膜磁気ヘッドの断面
図である。本発明による薄膜磁気ヘッドはスライダ基板
１上に、絶縁膜２、下部磁性膜３、絶縁膜（ギャップ）
４、絶縁膜５、コイル６、絶縁膜７．上部磁性膜８、第
１保護膜１１、第２保護膜１２を順次形成することによ
り構成したものである。９はスライダ面である。第１保
護膜１１ばにガス雰囲気中のスパッタリングにて約１３
μｍの厚さに形成したＡｌ２Ｏ３膜からなり、第２保護
膜１２はＭガスに０２ガスを約１０％添加した雰囲気中
のスパッタリングにて約１０μｍの厚さに形成したＡｌ
ｚｏ３膜からなる。この作業は同一のスパッタリング装
置のチャンバ内で連続的に実施し、保護膜形成時間も従
来のにガスのみを使用する場合の１．５〜２倍、ｋガス
に０２ガスを添加して行う場合の約１／２であった。そ
の後、研摩及び切断等の機械加工を実施して磁気ヘント
スライダを形成する。この際、第２保護膜１２が欠陥等
の少ない密度の高い膜であるため、機械加工によって生
じる欠は等が少ないことが認められた。また、第１保護
膜１１と第２保護膜１２の境界に亀裂を生じたり、分離
したりするということは全くなかった。
図である。本発明による薄膜磁気ヘッドはスライダ基板
１上に、絶縁膜２、下部磁性膜３、絶縁膜（ギャップ）
４、絶縁膜５、コイル６、絶縁膜７．上部磁性膜８、第
１保護膜１１、第２保護膜１２を順次形成することによ
り構成したものである。９はスライダ面である。第１保
護膜１１ばにガス雰囲気中のスパッタリングにて約１３
μｍの厚さに形成したＡｌ２Ｏ３膜からなり、第２保護
膜１２はＭガスに０２ガスを約１０％添加した雰囲気中
のスパッタリングにて約１０μｍの厚さに形成したＡｌ
ｚｏ３膜からなる。この作業は同一のスパッタリング装
置のチャンバ内で連続的に実施し、保護膜形成時間も従
来のにガスのみを使用する場合の１．５〜２倍、ｋガス
に０２ガスを添加して行う場合の約１／２であった。そ
の後、研摩及び切断等の機械加工を実施して磁気ヘント
スライダを形成する。この際、第２保護膜１２が欠陥等
の少ない密度の高い膜であるため、機械加工によって生
じる欠は等が少ないことが認められた。また、第１保護
膜１１と第２保護膜１２の境界に亀裂を生じたり、分離
したりするということは全くなかった。
本発明の薄膜磁気ヘッドと従来の薄膜磁気ヘッドとを使
って、１０，０００回のＣ，Ｓ、Ｓ、を実施し、その後
保護膜の状況を観察してみた。本発明による薄膜磁気ヘ
ッドの保護膜表面には微小な傷が存在するものの、欠け
は従来のものに比べて激減しており、第２保護膜１２の
効果が十分に確認できた。また、第１保穫膜１１と第２
保護膜１２の境界に亀裂等の発生も全くみられなかった
。
って、１０，０００回のＣ，Ｓ、Ｓ、を実施し、その後
保護膜の状況を観察してみた。本発明による薄膜磁気ヘ
ッドの保護膜表面には微小な傷が存在するものの、欠け
は従来のものに比べて激減しており、第２保護膜１２の
効果が十分に確認できた。また、第１保穫膜１１と第２
保護膜１２の境界に亀裂等の発生も全くみられなかった
。
以上説明したように本発明は薄膜磁気ヘッドの保護膜を
、少なくとも一層がビッカース硬度１０００以上の膜を
有する二層構造とすることによυ、保護膜形成時間をそ
れほど犠牲とせずに、機械加工における保護膜の欠は等
の問題を解決でき、さらに良好なＣ，Ｓ、Ｓ、特性を有
する薄膜磁気ヘッドを提供することができる効果を有す
るものである。
、少なくとも一層がビッカース硬度１０００以上の膜を
有する二層構造とすることによυ、保護膜形成時間をそ
れほど犠牲とせずに、機械加工における保護膜の欠は等
の問題を解決でき、さらに良好なＣ，Ｓ、Ｓ、特性を有
する薄膜磁気ヘッドを提供することができる効果を有す
るものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の薄膜磁気ヘッドの断面図、第２図は磁
気へラドスライダの斜視図、第３図は従来の薄膜磁気ヘ
ッドの断面図である。 ９．２１・・・スライダ面、１０・・・保護膜、２０・
・・磁気ヘッドスライダ、２２・・・薄膜磁気ヘッド、
２３・・・端子特許出願人 日本電気株式会社 ・てパ・ ＼ 代理人 弁理士菅野 中□１、）、： ・ユづ−
気へラドスライダの斜視図、第３図は従来の薄膜磁気ヘ
ッドの断面図である。 ９．２１・・・スライダ面、１０・・・保護膜、２０・
・・磁気ヘッドスライダ、２２・・・薄膜磁気ヘッド、
２３・・・端子特許出願人 日本電気株式会社 ・てパ・ ＼ 代理人 弁理士菅野 中□１、）、： ・ユづ−
Claims (1)
- （１）基板上に下部磁性膜、ギャップ層、上部磁性膜、
コイル、保護膜等を順次積層して得られる薄膜磁気ヘッ
ドにおいて、前記保護膜を、少なくとも一層がビッカー
ス硬度１０００以上の膜を有する二層構造としたことを
特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28715685A JPS62146418A (ja) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28715685A JPS62146418A (ja) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62146418A true JPS62146418A (ja) | 1987-06-30 |
Family
ID=17713800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28715685A Pending JPS62146418A (ja) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62146418A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0597526A2 (en) * | 1992-11-09 | 1994-05-18 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a magnetic head, and magnetic head manufactured by means of said method |
| US5462637A (en) * | 1993-07-22 | 1995-10-31 | International Business Machines Corporation | Process for fabrication of thin film magnetic heads |
| US5466495A (en) * | 1992-11-09 | 1995-11-14 | U.S. Philips Corporation | Method of manufacturing a magnetic head |
-
1985
- 1985-12-20 JP JP28715685A patent/JPS62146418A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0597526A2 (en) * | 1992-11-09 | 1994-05-18 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a magnetic head, and magnetic head manufactured by means of said method |
| EP0597526A3 (en) * | 1992-11-09 | 1995-08-02 | Koninkl Philips Electronics Nv | Manufacturing method for a magnetic head and magnetic head produced using this method. |
| US5466495A (en) * | 1992-11-09 | 1995-11-14 | U.S. Philips Corporation | Method of manufacturing a magnetic head |
| US5462637A (en) * | 1993-07-22 | 1995-10-31 | International Business Machines Corporation | Process for fabrication of thin film magnetic heads |
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