JPS62144333A - 加熱装置 - Google Patents
加熱装置Info
- Publication number
- JPS62144333A JPS62144333A JP28533585A JP28533585A JPS62144333A JP S62144333 A JPS62144333 A JP S62144333A JP 28533585 A JP28533585 A JP 28533585A JP 28533585 A JP28533585 A JP 28533585A JP S62144333 A JPS62144333 A JP S62144333A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat
- wall surface
- housing section
- generating
- regular intervals
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、反応管に収容された半導体ウェーハなどの
被加熱物を加熱処理する加熱装置に係り、特に、発熱素
線の配置形態に関する。
被加熱物を加熱処理する加熱装置に係り、特に、発熱素
線の配置形態に関する。
従来、半導体処理において用いられる加熱装置は、半導
体ウェーハを収容する円筒状の反応管の周面を覆う形態
を持ち、その反応管の周面に対して均等な加熱を行うた
めの発熱体を配設したものである。
体ウェーハを収容する円筒状の反応管の周面を覆う形態
を持ち、その反応管の周面に対して均等な加熱を行うた
めの発熱体を配設したものである。
そして、半導体ウェーハの加熱処理は、半導体ウェーハ
を収容した反応管を加熱装置の端面開口部から挿入して
行い、加熱処理を終了した半導体ウェーハは反応管とと
もに加熱装置の端面開口部から引出すようにしている。
を収容した反応管を加熱装置の端面開口部から挿入して
行い、加熱処理を終了した半導体ウェーハは反応管とと
もに加熱装置の端面開口部から引出すようにしている。
ところで、加熱装置に対して反応管は長手方向に出入さ
せることは、加熱装置の端面側に反応管を出入させるた
めの反応管の長さ以上のスペースを必要とするとともに
、その出入時間が長く、とりわけ、冷却のために加熱装
置から反応管を引き出す際に、加熱装置の余熱が反応管
内の半導体ウェーハに作用し、冷却速度に限界を生じる
。
せることは、加熱装置の端面側に反応管を出入させるた
めの反応管の長さ以上のスペースを必要とするとともに
、その出入時間が長く、とりわけ、冷却のために加熱装
置から反応管を引き出す際に、加熱装置の余熱が反応管
内の半導体ウェーハに作用し、冷却速度に限界を生じる
。
半導体ウェーハの冷却について、半導体装置によっては
、その急速冷却の効果が直接にその特性に影古を与える
場合があり、急速冷却の要請が高まっている。
、その急速冷却の効果が直接にその特性に影古を与える
場合があり、急速冷却の要請が高まっている。
このような要請に応えて、半導体ウェーハの急速な加熱
および冷却を実現するため、炉体を直径方向に分割可能
に構成し、炉体に対して反応管をその直径方向に着脱す
るようにした加熱装置が提案されている。
および冷却を実現するため、炉体を直径方向に分割可能
に構成し、炉体に対して反応管をその直径方向に着脱す
るようにした加熱装置が提案されている。
そこで、この発明は、このような分割された炉体などに
おいて、発熱素線の配置形態を改良した加熱装置の提供
を目的とする。
おいて、発熱素線の配置形態を改良した加熱装置の提供
を目的とする。
この発明の加熱装置は、第1図に示すように、断熱材料
で形成された炉体2A、2Bに被加熱物を収容する収容
部12を形成し、この収容部の壁面に発熱素線14を千
鳥状に一定の間隔で配設したものである。
で形成された炉体2A、2Bに被加熱物を収容する収容
部12を形成し、この収容部の壁面に発熱素線14を千
鳥状に一定の間隔で配設したものである。
この発明の加熱装置では、被加熱物の収容部の壁面に対
して発熱素線を千鳥状に一定の間隔で配設したので、発
熱温度を均一化して、その安定化を図ることができる。
して発熱素線を千鳥状に一定の間隔で配設したので、発
熱温度を均一化して、その安定化を図ることができる。
以下、この発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図および第2図は、この発明の加熱装置の実施例を
示し、第1図は加熱装置の発熱素綿の配置、第2図は加
熱装置の全体構造を示す。
示し、第1図は加熱装置の発熱素綿の配置、第2図は加
熱装置の全体構造を示す。
この加熱装置は、第2図に示すように、炉本体を縦方向
に分割して2つの炉体2A、2Bとし、各炉体2A、2
Bは、支持台4の上面部に一定の間隔で取り付けた支柱
6に支持軸8を介して個別に回動可能に支持されている
とともに、開閉機構10を介して開閉および所望の開度
に保持されるようになっている。
に分割して2つの炉体2A、2Bとし、各炉体2A、2
Bは、支持台4の上面部に一定の間隔で取り付けた支柱
6に支持軸8を介して個別に回動可能に支持されている
とともに、開閉機構10を介して開閉および所望の開度
に保持されるようになっている。
そして、各炉体2A、2Bの内部には被加熱物としての
半導体ウェーハを入れた円筒状の反応管を収容する収容
部12が形成されている。
半導体ウェーハを入れた円筒状の反応管を収容する収容
部12が形成されている。
各炉体2A、2Bの収容部12は、セラミックなどの断
熱材によって形成され、この収容部12の内壁面には、
第1図に示すように、発熱体としての発熱素線14が収
容部12の湾曲した内壁面に沿いかつ端部を千鳥状に折
り曲げられて配設されている。この場合、発熱素線14
には、直径6.5n程度の比較的太い素線が用いられて
いる。
熱材によって形成され、この収容部12の内壁面には、
第1図に示すように、発熱体としての発熱素線14が収
容部12の湾曲した内壁面に沿いかつ端部を千鳥状に折
り曲げられて配設されている。この場合、発熱素線14
には、直径6.5n程度の比較的太い素線が用いられて
いる。
そして、発熱素線14は、断熱材料によって形成された
スペーサ16によって一定の間隔に配置されているとと
もに、炉体2A、2Bに取り付けられた固定片18によ
ってその折曲げ部分と中間部のそれぞれが炉体2A、2
Bに固定されている。
スペーサ16によって一定の間隔に配置されているとと
もに、炉体2A、2Bに取り付けられた固定片18によ
ってその折曲げ部分と中間部のそれぞれが炉体2A、2
Bに固定されている。
第3図は、発熱素線14の固定を示しており、炉体2A
、2Bの内壁面に対して設置された発熱素線14に対し
てその発熱素線14の周面の一部を覆う凹部20をたと
えば2箇所に持つ固定片18を当て、さらにこの固定片
18の外面に金属性の押え板22を当て、この押え板2
2および固定片18に形成した透孔24および炉体2A
。
、2Bの内壁面に対して設置された発熱素線14に対し
てその発熱素線14の周面の一部を覆う凹部20をたと
えば2箇所に持つ固定片18を当て、さらにこの固定片
18の外面に金属性の押え板22を当て、この押え板2
2および固定片18に形成した透孔24および炉体2A
。
2Bの透孔26に固定ボルト28を貫通させ、炉体2A
、2Bの補強板30の外面に突出させた固定ボルト28
にワソヤ32および断熱リング34を取り付けるととも
に、固定ボルト28のねじ部にナツト36を取り付けて
締め付けたものである。
、2Bの補強板30の外面に突出させた固定ボルト28
にワソヤ32および断熱リング34を取り付けるととも
に、固定ボルト28のねじ部にナツト36を取り付けて
締め付けたものである。
なお、発熱素線14の端子間には、駆動源としての直流
電源が接続され、その電流制御によって、特定の温度で
発熱させることができる。
電源が接続され、その電流制御によって、特定の温度で
発熱させることができる。
したがって、発熱素線14は炉体2A、2Bの被加熱物
を収容する収容部12の内壁面に沿って組み込まれ、一
定の間隔で配設されているので、半導体ウェーハを収容
した反応管などを均等に加熱して所定の処理を行うこと
ができる。
を収容する収容部12の内壁面に沿って組み込まれ、一
定の間隔で配設されているので、半導体ウェーハを収容
した反応管などを均等に加熱して所定の処理を行うこと
ができる。
また、発熱素線14に6.5韮程度の太い形状のものを
用いることができるので、固定手段によって確実に炉体
2A、2Bの内部に強固に固定でき、炉内温度による変
形を防止できるので、温度分布を均一に維持することが
できるとともに、安定した加熱状態を保持でき、加熱寿
命を長くすることができる。
用いることができるので、固定手段によって確実に炉体
2A、2Bの内部に強固に固定でき、炉内温度による変
形を防止できるので、温度分布を均一に維持することが
できるとともに、安定した加熱状態を保持でき、加熱寿
命を長くすることができる。
なお、実施例では、被加熱物として半導体ウェーハを例
に取って説明したが、この発明の加熱装置は、半導体ウ
ェーハ以外の被加熱物についても均等加熱を行うことが
できる。
に取って説明したが、この発明の加熱装置は、半導体ウ
ェーハ以外の被加熱物についても均等加熱を行うことが
できる。
以上説明したように、この発明によれば、炉体の被加熱
物を収容する収容部の壁面に対して発熱素線を千鳥状に
折り曲げて一定の間隔で配設したので、発熱温度を均一
化できるとともに、発熱温度の安定化を図ることができ
る。
物を収容する収容部の壁面に対して発熱素線を千鳥状に
折り曲げて一定の間隔で配設したので、発熱温度を均一
化できるとともに、発熱温度の安定化を図ることができ
る。
第1図はこの発明の加熱装置の実施例を示す斜視図、第
2図は第1図に示した加熱装置の全体構成を示す斜視図
、第3図は第1図に示した加熱装置内の発熱素線の固定
構造を示す断面図である。 2A、2B・・・炉体、12・・・収容部、14・・発
熱素線。 第3図
2図は第1図に示した加熱装置の全体構成を示す斜視図
、第3図は第1図に示した加熱装置内の発熱素線の固定
構造を示す断面図である。 2A、2B・・・炉体、12・・・収容部、14・・発
熱素線。 第3図
Claims (1)
- 断熱材料で形成された炉体に被加熱物を収容する収容部
を形成し、この収容部の内壁面に発熱素線を千鳥状に一
定の間隔で配設したことを特徴とする加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28533585A JPS62144333A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28533585A JPS62144333A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62144333A true JPS62144333A (ja) | 1987-06-27 |
JPH03771B2 JPH03771B2 (ja) | 1991-01-08 |
Family
ID=17690217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28533585A Granted JPS62144333A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62144333A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02137317A (ja) * | 1988-11-18 | 1990-05-25 | Nec Corp | 抵抗線加熱炉 |
JP2009250548A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Alpha Oikos:Kk | 高温用加熱炉 |
JP2010520637A (ja) * | 2007-03-05 | 2010-06-10 | サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ | 電気炉用インサートおよびヒーター要素 |
JP2011091386A (ja) * | 2009-09-24 | 2011-05-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 熱処理装置、熱処理方法及び半導体装置の作製方法 |
KR101142686B1 (ko) | 2008-01-31 | 2012-05-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 열처리로 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5535437U (ja) * | 1978-08-29 | 1980-03-07 | ||
JPS5955011A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-29 | Fujitsu Ltd | 加熱装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5535437B2 (ja) * | 1974-03-15 | 1980-09-13 |
-
1985
- 1985-12-18 JP JP28533585A patent/JPS62144333A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5535437U (ja) * | 1978-08-29 | 1980-03-07 | ||
JPS5955011A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-29 | Fujitsu Ltd | 加熱装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02137317A (ja) * | 1988-11-18 | 1990-05-25 | Nec Corp | 抵抗線加熱炉 |
JP2010520637A (ja) * | 2007-03-05 | 2010-06-10 | サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ | 電気炉用インサートおよびヒーター要素 |
US8565283B2 (en) | 2007-03-05 | 2013-10-22 | Sandvik Intellectual Property Ab | Insert and a heater element for electrical furnaces |
KR101142686B1 (ko) | 2008-01-31 | 2012-05-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 열처리로 |
JP2009250548A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Alpha Oikos:Kk | 高温用加熱炉 |
JP2011091386A (ja) * | 2009-09-24 | 2011-05-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 熱処理装置、熱処理方法及び半導体装置の作製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03771B2 (ja) | 1991-01-08 |
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