JPS6214317A - 薄膜磁気ヘツド及びその製作法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツド及びその製作法Info
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- JPS6214317A JPS6214317A JP15289385A JP15289385A JPS6214317A JP S6214317 A JPS6214317 A JP S6214317A JP 15289385 A JP15289385 A JP 15289385A JP 15289385 A JP15289385 A JP 15289385A JP S6214317 A JPS6214317 A JP S6214317A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
（産業上の利用分野）
本発明は、耐摩耗性を有する非磁性体製の支持基板に非
晶質磁性膜を付着形成させてなるコア部に所要の磁気空
隙が形成されるようになされている簿膜磁気ヘッドと、
薄膜磁気ヘッドの製作法に関する。 （従来技術） 高い記録密度で磁気記録再生を行なうために、狭いトラ
ック＋ｌ＋のトラックパターンを磁気記録媒体上に形成
さ仕ることができるようにした磁気ヘッドとして、強磁
性体材料の薄板または強磁性体材料の薄膜をコア部に用
いて構成した各種形式の磁気ヘッドが従来から提案され
ている。 （発明の解決しようとする問題点） そして、従来からコア部が強磁性体材料の薄膜によって
構成されている薄膜磁気ヘッドは、コア部の機械的強度
や耐摩耗性の向上のために、狭いトラック中に対応する
厚さを有する強磁性体材料の薄膜を、耐摩耗性を有する
非磁性体製の基板に付着形成させた構成形態のものとさ
れている。 ところで、前記のような構成形態の磁気ヘッドを製作す
る場合には、狭いトラック中に対応する厚さを有する強
磁性体材料の薄膜を付着形成させた耐摩耗性を有する非
磁性体製のブロックがら、個々の磁気ヘッドの構成部材
、すなわち、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板に強磁
性体材料の薄膜が付着された状態のものを切断加工によ
って切り出すことにより、−個のブロックから多数個の
磁気ヘッドの構成部材が得られるようにしているので、
耐摩耗性を有する非磁性体製のブ
晶質磁性膜を付着形成させてなるコア部に所要の磁気空
隙が形成されるようになされている簿膜磁気ヘッドと、
薄膜磁気ヘッドの製作法に関する。 （従来技術） 高い記録密度で磁気記録再生を行なうために、狭いトラ
ック＋ｌ＋のトラックパターンを磁気記録媒体上に形成
さ仕ることができるようにした磁気ヘッドとして、強磁
性体材料の薄板または強磁性体材料の薄膜をコア部に用
いて構成した各種形式の磁気ヘッドが従来から提案され
ている。 （発明の解決しようとする問題点） そして、従来からコア部が強磁性体材料の薄膜によって
構成されている薄膜磁気ヘッドは、コア部の機械的強度
や耐摩耗性の向上のために、狭いトラック中に対応する
厚さを有する強磁性体材料の薄膜を、耐摩耗性を有する
非磁性体製の基板に付着形成させた構成形態のものとさ
れている。 ところで、前記のような構成形態の磁気ヘッドを製作す
る場合には、狭いトラック中に対応する厚さを有する強
磁性体材料の薄膜を付着形成させた耐摩耗性を有する非
磁性体製のブロックがら、個々の磁気ヘッドの構成部材
、すなわち、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板に強磁
性体材料の薄膜が付着された状態のものを切断加工によ
って切り出すことにより、−個のブロックから多数個の
磁気ヘッドの構成部材が得られるようにしているので、
耐摩耗性を有する非磁性体製のブ
【」ツクと、強磁性体
材料の薄膜との付着力が充分に大きくないと、前記した
切断加工時に強磁性体材料の薄膜に剥離が生じる。 そのため、耐摩耗性を有する非磁性体製のブ［ｌツクと
１強磁性体材料の薄膜とが強固に固着された状態のもの
にするのには、従来例えば、（１）非磁性体製のブロッ
クを予め所要の高い温度に加熱しておいて、蒸着法によ
り非磁性体製のブ【ノックに強磁性体材料の薄膜を付着
させるようにしたり、（２）非磁性体製のブロックに直
接に強磁性体材料の薄膜を蒸着することはせず、最初に
非磁性体製のブロックに、非磁性体製のブロックの構成
材料に対して大きな付着力を示すような物質による薄膜
（非磁性体がガラスの場合には、例えばクロムの薄ｌ１
ｌ）を付着させた後に、強磁性体材料の＃膜を蒸着法に
よって付着形成させるようにしたりすることが行なわれ
ている。 しかし、従来例における前記の（１）の方法は耐摩耗性
を有する非磁性体製の支持基板に付着形成させるべき磁
性膜が非晶質磁性膜の場合には適用することができない
という点が問題となり、また。 前記の（２）の方法では製作時の工程数が多くなるとい
う欠点がある他に、磁気ヘッドが複合ヘッドとして構成
される場合に、磁性薄膜とフェライトのコアとの間の磁
気抵抗が高くなるという問題点があった。 （問題点を解決するための手段） 本発明は、耐摩耗性を有する非磁性体製の支持基板に付
着形成させた非晶質磁性膜からなるコア部に所要の磁気
空隙が形成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、前記し
た非磁性体製の支持基板として、それの非晶質磁性膜の
付着面が３００オングストローム乃至４００オングスト
ロームの表面粗さとなされているものを用いたことを特
徴とする薄膜磁気ヘッド、及び、耐摩耗性を有する非磁
性体製の支持基板に付着形成させた非晶質磁性膜からな
るコア部に所要の磁気空隙が形成されている薄膜磁気ヘ
ッドの製作法であって、耐摩耗性を有する非磁性体製の
支持基板として結晶化ガラス板を用い、強アルカリ洗浄
液１０％に９０％の純水を加えて作ったエツチング洗浄
液を１００℃に加熱したもので、前記した結晶化ガラス
板における非晶質磁性膜の付着面を１０分間乃至２０分
間の洗浄を行ない、次いで、前記した結晶化ガラス板に
おける非晶質磁性膜の付着面に、蒸着法またはスパッタ
リング法によってコア部となる所定の膜厚の非晶質磁性
簿膜を付着形成させるよう１；シてなる簿膜磁気ヘッド
の製作法を提供するものである。 （実施例） 以下、添付図面を参照して本発明の薄膜磁気ヘッドとそ
の製作法とについて、具体的な内容を詳細に説明する。 第１図は、本発明の薄膜磁気ヘッドを複合磁気ヘッドと
して構成した場合の一実施例の斜視図であって、この第
１図において、ｌ、４，６．９で示されている各部は耐
摩耗性を有する非磁性体製の基板の部分であり、また、
２，５，７．１０で示されている置部はフェライトのコ
アの部分、３゜８の部分は非晶質の磁性膜の部分、１１
はコイルの巻回用の窓孔、Ｓは磁気空隙であって、耐摩
耗性を有する非磁性体製の基板の部分］、４，６．９ど
しては、例えはシリコン、アルミニウム、リチウムを主
成分どする結晶化ガラスが用いられる。 非晶質の磁性膜３は耐摩耗性を有する非磁性体製の基板
ｌの面及び前記の基板１に固着されているフェライトの
コア２の面に付着形成されており、また、非晶質の磁性
膜８は耐摩耗性を有する非磁性体製の基板６の肯及び前
記の基板６に固着され−Ｃいるフェライトのコア７の面
に付着形成されていて、磁気空隙Ｓは前記した非晶質の
磁性［３と非晶質の磁性膜８との間に形成されている。 前記した非晶質の磁性膜３，８は、それを例えば、組成
が重量比でコバルト９０％、シリコン５％、タンタル５
％からなる磁歪の生じない非晶質磁性膜とすることがで
きる。 非晶質の磁性膜３が付着形成されている非磁性体製の基
板１、及び非晶質の磁性膜８が付着形成されている非磁
性体製の基板６における非晶質の磁性１１３．８の付着
形成面は、その表面粗さが３００オングストローム乃至
４００オンゲストロー）−となされている。 前記した耐摩耗性を有する非磁性体製の基板】に付着形
成されている非晶質の磁性膜３０面及び前記した耐摩耗
性を有する非磁性体製の基板１に固着されているフェラ
イトコア２に付着形成されている非晶質の磁性膜３の面
には、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板４の而と前記
した耐摩耗性を有する非磁性体製の基板４に固着されて
いるフェライトコア５の面とが固着されており、また、
前記した耐摩耗性を有する非磁性体製の基板６に付着形
成されている非晶質の磁性膜８の面及び前記した耐摩耗
性を有する非磁性体製の基板６に固着されているフェラ
イトコア７に付着形成されている非晶質の磁性膜８の面
には、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板９の面と前記
した耐摩耗性表有する非磁性体製の基板９に固着されて
いるフェライトコア１０の面とが固着されている。 耐摩耗性を有する非磁性体製の基板ｌ及びフェライトコ
ア２と、それの面に付着形成されている非晶質の磁性１
１１３と、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板４及びフ
ェライトコア５とによって一体的に構成されている部分
と、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板６及びフェライ
トコア７と、それの面に付着形成されている非晶質の磁
性膜８と、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板９及びフ
ェライトコア１０とによって一体的に構成されている部
分とは、非晶質の磁性膜３の端部と非晶質の磁性膜８の
端部との間に磁気空隙が形成されるようにして一体的に
結合固着されることによって薄膜磁気ヘッドが構成され
るのである。第１図示の薄膜磁気ヘッドにおける磁気テ
ープとの摺接面は、研摩加工によって所定の曲面になさ
れているのである。 前記の構成を備えている本発明の薄膜磁気ヘッドにおい
ては、それのコア部を構成している非晶質の磁性膜３と
非晶質の磁性膜８とが、それの表面粗さが３００オング
ストローム〜４００オンゲスドロ−ムとなされているよ
うな耐摩耗性を有する非磁性体製の基板１，６の付着面
−ｈに付着形成されているものであるが、前記の構成の
薄膜磁気ヘッドは、それを製作する際に非晶質の磁性膜
が付着された状態のブロック（非磁性体製のブロックと
フェライトのブロックとが一体的に固着された状態のブ
ロック）を切断して薄膜磁気ヘッドの構成部品を作る工
程を経ても、非晶質の磁性膜と耐摩耗性を有する非磁性
体製の基板との付着力が大きいために、切断加工によっ
ても非晶質の磁性膜が耐摩靴裏を有する非磁性体製の基
板から剥離するようなことがなく、また、非晶質の磁性
＄３．８として、それを例えば、組成が重量比でコバル
ト９０％、シリコン５％、タンタル５％からなる磁歪の
生じない非晶質磁性膜とした場合には、抗磁力Ｈを０．
３以下とすることができ、本発明の１１ＩＩＩ磁気ヘツ
ドは、磁性膜によるコアの磁気特性も良好な状態なもの
として作ることができる。 次に、本発明の薄膜磁気ヘッドの製作法について説明す
る０本発明の薄膜磁気ヘッドは前述もしたように、耐摩
耗性を有する非磁性体製の支持基板に付着形成させた非
晶質磁性膜からなるコア部に所要の磁気空隙が形成され
ている薄膜磁気ヘッドにおいて、前記した非磁性体製の
支持基板としで、それの非晶質磁性膜の付着面が３００
オングストローム乃至４００オングストロームの表面粗
さとなされているものを用いることを特徴とするもので
あるが、前記のように非磁性体製の支持基板を、それの
非晶質磁性膜の付着面が３００オングストローム乃至４
００オングストロームの表面粗さとするのには、非磁性
体製の支持基板における非晶質磁性膜の付着面に、化学
的作用（エツチング）、物理的作用（反応性エツチング
、プラズマエツチング）、機械的作用（ラッピング、ボ
リシング）を施こすことによって実施することができる
。そして、非磁性体製の支持基板として、表面粗さが１
２０オングストロームの結晶化ガラス板（シリコンとア
ルミニウムとリチつムとを主成分とする結晶化ガラス板
）を用い、それに化学的作用を施こして、その結晶化ガ
ラス板における非晶質磁（１膜の付着面を。 化学的作用によって３００オンゲス１−ローム乃＋４ｏ
。 オングストロームの表面粗さのものにする場合には、結
晶化ガラス板を強アルカリ洗浄液１０％１１：００％の
純水を加えて作ったエツチング洗浄液を＋ｏｎ℃に加熱
したもので、前記した結晶化ガラス板における非晶質磁
性膜の付着面を１０分間乃至２０分間の洗浄を行なうこ
とによって得ることができる。 第２図は強アルカリ洗浄液１０％に００％の純水を加え
て作ったエツチング洗浄液を６５℃または１００℃に加
熱したもので前記した表面の粗さが１２０オングストロ
ームの結晶化ガラス板を、後述のような条件で化学的に
エツチング処理した後に、その面に組成が重電比でコバ
ルト９０％、シリコン５％、タンタル５％からなる非晶
質磁性膜を蒸着法によって付着させて得た５種類の資料
に１いての抗磁力を示すものである（抗磁力は、各資料
に−）いて得たヒステリシス曲線に基づいてａｌｌ定し
た）。 資料ｌ・・・温度１００℃で時間２０分間資料２・・・
温度１００℃で時間１０分間資料３・・・温度１００℃
で時間５分間資料４・・・温度１００℃で時間２分間資
料５・・・温度６５℃で時間５分間 資料１〜５のすべての資料について、抗磁力は０．３エ
ルステツド以下となっていて、結晶化ガラス板に付着さ
せた非晶質磁性膜は、それらの何れのものも良好な磁気
特性を示しているが、資料３〜５のものは付着力が小さ
く切断加工時に剥離が発生することが判かったので採用
することができなかったが、資料ｌと資料２のものは、
切断加工時にも剥離が生じることがなく、充分な付着力
を有していることが詔められた。 それで、資料１と資料２のものについて、それらの表面
粗さを光学的に測定した結果、資料１のものの表面粗さ
は４００オングストロームであり、また、資料２のもの
の表面粗さは３００オングストロームであった。なお、
前記した資料１の場合よりも長い時間にわたってエツチ
ング処理を行なうと、表面粗さが大になって抗磁力の増
大が着るしく生じるためにそのような条件でエツチング
処理を行なって得たものは実用にならない。 （効果） 本発明は、耐摩耗性を有する非磁性体製の支持基板に付
着形成させた非晶質磁性膜からなるコア部に所要の磁気
空隙が形成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、前記し
た非磁性体製の支持基板として、それの非晶質磁性膜の
付着面が３００オングストローム乃至４００オングスト
ロームの表面粗さとなされているものを用いたことを特
徴とする薄膜磁気ヘッド、及び、前記した構成の薄膜磁
気ヘッドの製作法として、耐摩耗性を有する非磁性体製
の支持基板として結晶化ガラス板を用い、強アルカリ洗
浄液１０％に９０％の純水を加えて作ったエツチング洗
浄液を１００℃に加熱したもので、前記した結晶化ガラ
ス板における非晶質磁性膜の付１面を１０分間乃至２０
分間の洗浄を行ない、次いで、前記した結晶化ガラス板
における非晶質磁性膜の付着面に、蒸着法またはスパッ
タリング法によってコア部となる所定の膜厚の非晶質磁
性薄膜を付着形成させるようにしてなる薄膜磁気ヘッド
の製作法であるから５本発明では耐摩耗性を有する非磁
性体製の基板と強磁性体材料の薄膜との付着力が充分に
大であり、薄膜磁気ヘッドの製作時に狭いトラック中に
対応する厚さを有する強磁性体材料の薄膜を付着形成さ
せた耐摩耗性を有する非磁性体製のブロックから、個々
の磁気ヘッドの構成部材、すなわち、耐摩耗性を有する
非磁性体製の基板に強磁性体材料の薄膜が付着された状
態のものを切断加工によって切り出す際にも、耐摩耗性
を有する非磁性体製のブロックから強磁性体材料の薄膜
の剥離が生じることがなく、また、薄膜磁気ヘッドの使
用時にも強磁性体材料の薄膜の剥離が生じることがなく
、また、良好な磁気特性を有する薄膜磁気ヘッドを容易
に提供することができる他、本発明によれば既述した従
来の耐摩耗性を有する非磁性体製のブロックと、強磁性
体材料の薄膜とが強固に固着された状態のものにするた
めの解決法で生じていた諸欠点も良好に解決できるので
ある。
材料の薄膜との付着力が充分に大きくないと、前記した
切断加工時に強磁性体材料の薄膜に剥離が生じる。 そのため、耐摩耗性を有する非磁性体製のブ［ｌツクと
１強磁性体材料の薄膜とが強固に固着された状態のもの
にするのには、従来例えば、（１）非磁性体製のブロッ
クを予め所要の高い温度に加熱しておいて、蒸着法によ
り非磁性体製のブ【ノックに強磁性体材料の薄膜を付着
させるようにしたり、（２）非磁性体製のブロックに直
接に強磁性体材料の薄膜を蒸着することはせず、最初に
非磁性体製のブロックに、非磁性体製のブロックの構成
材料に対して大きな付着力を示すような物質による薄膜
（非磁性体がガラスの場合には、例えばクロムの薄ｌ１
ｌ）を付着させた後に、強磁性体材料の＃膜を蒸着法に
よって付着形成させるようにしたりすることが行なわれ
ている。 しかし、従来例における前記の（１）の方法は耐摩耗性
を有する非磁性体製の支持基板に付着形成させるべき磁
性膜が非晶質磁性膜の場合には適用することができない
という点が問題となり、また。 前記の（２）の方法では製作時の工程数が多くなるとい
う欠点がある他に、磁気ヘッドが複合ヘッドとして構成
される場合に、磁性薄膜とフェライトのコアとの間の磁
気抵抗が高くなるという問題点があった。 （問題点を解決するための手段） 本発明は、耐摩耗性を有する非磁性体製の支持基板に付
着形成させた非晶質磁性膜からなるコア部に所要の磁気
空隙が形成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、前記し
た非磁性体製の支持基板として、それの非晶質磁性膜の
付着面が３００オングストローム乃至４００オングスト
ロームの表面粗さとなされているものを用いたことを特
徴とする薄膜磁気ヘッド、及び、耐摩耗性を有する非磁
性体製の支持基板に付着形成させた非晶質磁性膜からな
るコア部に所要の磁気空隙が形成されている薄膜磁気ヘ
ッドの製作法であって、耐摩耗性を有する非磁性体製の
支持基板として結晶化ガラス板を用い、強アルカリ洗浄
液１０％に９０％の純水を加えて作ったエツチング洗浄
液を１００℃に加熱したもので、前記した結晶化ガラス
板における非晶質磁性膜の付着面を１０分間乃至２０分
間の洗浄を行ない、次いで、前記した結晶化ガラス板に
おける非晶質磁性膜の付着面に、蒸着法またはスパッタ
リング法によってコア部となる所定の膜厚の非晶質磁性
簿膜を付着形成させるよう１；シてなる簿膜磁気ヘッド
の製作法を提供するものである。 （実施例） 以下、添付図面を参照して本発明の薄膜磁気ヘッドとそ
の製作法とについて、具体的な内容を詳細に説明する。 第１図は、本発明の薄膜磁気ヘッドを複合磁気ヘッドと
して構成した場合の一実施例の斜視図であって、この第
１図において、ｌ、４，６．９で示されている各部は耐
摩耗性を有する非磁性体製の基板の部分であり、また、
２，５，７．１０で示されている置部はフェライトのコ
アの部分、３゜８の部分は非晶質の磁性膜の部分、１１
はコイルの巻回用の窓孔、Ｓは磁気空隙であって、耐摩
耗性を有する非磁性体製の基板の部分］、４，６．９ど
しては、例えはシリコン、アルミニウム、リチウムを主
成分どする結晶化ガラスが用いられる。 非晶質の磁性膜３は耐摩耗性を有する非磁性体製の基板
ｌの面及び前記の基板１に固着されているフェライトの
コア２の面に付着形成されており、また、非晶質の磁性
膜８は耐摩耗性を有する非磁性体製の基板６の肯及び前
記の基板６に固着され−Ｃいるフェライトのコア７の面
に付着形成されていて、磁気空隙Ｓは前記した非晶質の
磁性［３と非晶質の磁性膜８との間に形成されている。 前記した非晶質の磁性膜３，８は、それを例えば、組成
が重量比でコバルト９０％、シリコン５％、タンタル５
％からなる磁歪の生じない非晶質磁性膜とすることがで
きる。 非晶質の磁性膜３が付着形成されている非磁性体製の基
板１、及び非晶質の磁性膜８が付着形成されている非磁
性体製の基板６における非晶質の磁性１１３．８の付着
形成面は、その表面粗さが３００オングストローム乃至
４００オンゲストロー）−となされている。 前記した耐摩耗性を有する非磁性体製の基板】に付着形
成されている非晶質の磁性膜３０面及び前記した耐摩耗
性を有する非磁性体製の基板１に固着されているフェラ
イトコア２に付着形成されている非晶質の磁性膜３の面
には、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板４の而と前記
した耐摩耗性を有する非磁性体製の基板４に固着されて
いるフェライトコア５の面とが固着されており、また、
前記した耐摩耗性を有する非磁性体製の基板６に付着形
成されている非晶質の磁性膜８の面及び前記した耐摩耗
性を有する非磁性体製の基板６に固着されているフェラ
イトコア７に付着形成されている非晶質の磁性膜８の面
には、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板９の面と前記
した耐摩耗性表有する非磁性体製の基板９に固着されて
いるフェライトコア１０の面とが固着されている。 耐摩耗性を有する非磁性体製の基板ｌ及びフェライトコ
ア２と、それの面に付着形成されている非晶質の磁性１
１１３と、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板４及びフ
ェライトコア５とによって一体的に構成されている部分
と、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板６及びフェライ
トコア７と、それの面に付着形成されている非晶質の磁
性膜８と、耐摩耗性を有する非磁性体製の基板９及びフ
ェライトコア１０とによって一体的に構成されている部
分とは、非晶質の磁性膜３の端部と非晶質の磁性膜８の
端部との間に磁気空隙が形成されるようにして一体的に
結合固着されることによって薄膜磁気ヘッドが構成され
るのである。第１図示の薄膜磁気ヘッドにおける磁気テ
ープとの摺接面は、研摩加工によって所定の曲面になさ
れているのである。 前記の構成を備えている本発明の薄膜磁気ヘッドにおい
ては、それのコア部を構成している非晶質の磁性膜３と
非晶質の磁性膜８とが、それの表面粗さが３００オング
ストローム〜４００オンゲスドロ−ムとなされているよ
うな耐摩耗性を有する非磁性体製の基板１，６の付着面
−ｈに付着形成されているものであるが、前記の構成の
薄膜磁気ヘッドは、それを製作する際に非晶質の磁性膜
が付着された状態のブロック（非磁性体製のブロックと
フェライトのブロックとが一体的に固着された状態のブ
ロック）を切断して薄膜磁気ヘッドの構成部品を作る工
程を経ても、非晶質の磁性膜と耐摩耗性を有する非磁性
体製の基板との付着力が大きいために、切断加工によっ
ても非晶質の磁性膜が耐摩靴裏を有する非磁性体製の基
板から剥離するようなことがなく、また、非晶質の磁性
＄３．８として、それを例えば、組成が重量比でコバル
ト９０％、シリコン５％、タンタル５％からなる磁歪の
生じない非晶質磁性膜とした場合には、抗磁力Ｈを０．
３以下とすることができ、本発明の１１ＩＩＩ磁気ヘツ
ドは、磁性膜によるコアの磁気特性も良好な状態なもの
として作ることができる。 次に、本発明の薄膜磁気ヘッドの製作法について説明す
る０本発明の薄膜磁気ヘッドは前述もしたように、耐摩
耗性を有する非磁性体製の支持基板に付着形成させた非
晶質磁性膜からなるコア部に所要の磁気空隙が形成され
ている薄膜磁気ヘッドにおいて、前記した非磁性体製の
支持基板としで、それの非晶質磁性膜の付着面が３００
オングストローム乃至４００オングストロームの表面粗
さとなされているものを用いることを特徴とするもので
あるが、前記のように非磁性体製の支持基板を、それの
非晶質磁性膜の付着面が３００オングストローム乃至４
００オングストロームの表面粗さとするのには、非磁性
体製の支持基板における非晶質磁性膜の付着面に、化学
的作用（エツチング）、物理的作用（反応性エツチング
、プラズマエツチング）、機械的作用（ラッピング、ボ
リシング）を施こすことによって実施することができる
。そして、非磁性体製の支持基板として、表面粗さが１
２０オングストロームの結晶化ガラス板（シリコンとア
ルミニウムとリチつムとを主成分とする結晶化ガラス板
）を用い、それに化学的作用を施こして、その結晶化ガ
ラス板における非晶質磁（１膜の付着面を。 化学的作用によって３００オンゲス１−ローム乃＋４ｏ
。 オングストロームの表面粗さのものにする場合には、結
晶化ガラス板を強アルカリ洗浄液１０％１１：００％の
純水を加えて作ったエツチング洗浄液を＋ｏｎ℃に加熱
したもので、前記した結晶化ガラス板における非晶質磁
性膜の付着面を１０分間乃至２０分間の洗浄を行なうこ
とによって得ることができる。 第２図は強アルカリ洗浄液１０％に００％の純水を加え
て作ったエツチング洗浄液を６５℃または１００℃に加
熱したもので前記した表面の粗さが１２０オングストロ
ームの結晶化ガラス板を、後述のような条件で化学的に
エツチング処理した後に、その面に組成が重電比でコバ
ルト９０％、シリコン５％、タンタル５％からなる非晶
質磁性膜を蒸着法によって付着させて得た５種類の資料
に１いての抗磁力を示すものである（抗磁力は、各資料
に−）いて得たヒステリシス曲線に基づいてａｌｌ定し
た）。 資料ｌ・・・温度１００℃で時間２０分間資料２・・・
温度１００℃で時間１０分間資料３・・・温度１００℃
で時間５分間資料４・・・温度１００℃で時間２分間資
料５・・・温度６５℃で時間５分間 資料１〜５のすべての資料について、抗磁力は０．３エ
ルステツド以下となっていて、結晶化ガラス板に付着さ
せた非晶質磁性膜は、それらの何れのものも良好な磁気
特性を示しているが、資料３〜５のものは付着力が小さ
く切断加工時に剥離が発生することが判かったので採用
することができなかったが、資料ｌと資料２のものは、
切断加工時にも剥離が生じることがなく、充分な付着力
を有していることが詔められた。 それで、資料１と資料２のものについて、それらの表面
粗さを光学的に測定した結果、資料１のものの表面粗さ
は４００オングストロームであり、また、資料２のもの
の表面粗さは３００オングストロームであった。なお、
前記した資料１の場合よりも長い時間にわたってエツチ
ング処理を行なうと、表面粗さが大になって抗磁力の増
大が着るしく生じるためにそのような条件でエツチング
処理を行なって得たものは実用にならない。 （効果） 本発明は、耐摩耗性を有する非磁性体製の支持基板に付
着形成させた非晶質磁性膜からなるコア部に所要の磁気
空隙が形成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、前記し
た非磁性体製の支持基板として、それの非晶質磁性膜の
付着面が３００オングストローム乃至４００オングスト
ロームの表面粗さとなされているものを用いたことを特
徴とする薄膜磁気ヘッド、及び、前記した構成の薄膜磁
気ヘッドの製作法として、耐摩耗性を有する非磁性体製
の支持基板として結晶化ガラス板を用い、強アルカリ洗
浄液１０％に９０％の純水を加えて作ったエツチング洗
浄液を１００℃に加熱したもので、前記した結晶化ガラ
ス板における非晶質磁性膜の付１面を１０分間乃至２０
分間の洗浄を行ない、次いで、前記した結晶化ガラス板
における非晶質磁性膜の付着面に、蒸着法またはスパッ
タリング法によってコア部となる所定の膜厚の非晶質磁
性薄膜を付着形成させるようにしてなる薄膜磁気ヘッド
の製作法であるから５本発明では耐摩耗性を有する非磁
性体製の基板と強磁性体材料の薄膜との付着力が充分に
大であり、薄膜磁気ヘッドの製作時に狭いトラック中に
対応する厚さを有する強磁性体材料の薄膜を付着形成さ
せた耐摩耗性を有する非磁性体製のブロックから、個々
の磁気ヘッドの構成部材、すなわち、耐摩耗性を有する
非磁性体製の基板に強磁性体材料の薄膜が付着された状
態のものを切断加工によって切り出す際にも、耐摩耗性
を有する非磁性体製のブロックから強磁性体材料の薄膜
の剥離が生じることがなく、また、薄膜磁気ヘッドの使
用時にも強磁性体材料の薄膜の剥離が生じることがなく
、また、良好な磁気特性を有する薄膜磁気ヘッドを容易
に提供することができる他、本発明によれば既述した従
来の耐摩耗性を有する非磁性体製のブロックと、強磁性
体材料の薄膜とが強固に固着された状態のものにするた
めの解決法で生じていた諸欠点も良好に解決できるので
ある。
第１図は本発明の薄膜磁気ヘッドの一実例の斜視図、第
２図は各資料の抗磁力を示す図である。
２図は各資料の抗磁力を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、耐摩耗性を有する非磁性体製の支持基板に付着形成
させた非晶質磁性膜からなるコア部に所要の磁気空隙が
形成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、前記した非磁
性体製の支持基板として、それの非晶質磁性膜の付着面
が３００オングストローム乃至４００オングストローム
の表面粗さとなされているものを用いたことを特徴とす
る薄膜磁気ヘッド ２、非磁性体製の支持基板として、結晶化ガラスを用い
た特許請求の範囲第１項に記載の薄膜磁気ヘッド ３、非晶質磁性膜として、組成が重量比でコバルトが９
０％、シリコンが５％、タンタルが５％のものを用いた
特許請求の範囲第１項に記載の薄膜磁気ヘッド ４、耐摩耗性を有する非磁性体製の支持基板に付着形成
させた非晶質磁性膜からなるコア部に所要の磁気空隙が
形成されている薄膜磁気ヘッドの製作法であって、耐摩
耗性を有する非磁性体製の支持基板として結晶化ガラス
板を用い、強アルカリ洗浄液１０％に９０％の純水を加
えて作ったエッチング洗浄液を１００℃に加熱したもの
で、前記した結晶化ガラス板における非晶質磁性膜の付
着面を１０分間乃至２０分間の洗浄を行ない、次いで、
前記した結晶化ガラス板における非晶質磁性膜の付着面
に、蒸着法またはスパッタリング法によってコア部とな
る所定の膜厚の非晶質磁性薄膜を付着形成させるように
してなる薄膜磁気ヘッドの製作法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15289385A JPS6214317A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | 薄膜磁気ヘツド及びその製作法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15289385A JPS6214317A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | 薄膜磁気ヘツド及びその製作法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6214317A true JPS6214317A (ja) | 1987-01-22 |
Family
ID=15550429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15289385A Pending JPS6214317A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | 薄膜磁気ヘツド及びその製作法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6214317A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01113087A (ja) * | 1987-10-28 | 1989-05-01 | Happy Kogyo Kk | ボタンホール縫ミシン |
-
1985
- 1985-07-11 JP JP15289385A patent/JPS6214317A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01113087A (ja) * | 1987-10-28 | 1989-05-01 | Happy Kogyo Kk | ボタンホール縫ミシン |
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