JPS62132106A - 磁気シ−トの膜厚測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フロッピィディスク生産ラインに組み込まれ
、高分子ソート状原反に塗布される磁性物質の膜厚を螢
光Ｘ線透過法により、連続的に、かつ迅速、非破壊的に
θり定し、その得られた値のフィード・バックにより膜
厚制御を行う装置に関するものである。

〔発明の概要〕

本発明はシート状原反に連’ｈｌ＝布するフロッピィデ
ィスク塗工程においてドライヤー通過後の片面塗膜厚み
を連続的に計測し管理厚みとなるように塗布ノズルを制
御する信号を出力し、一方ロールに巻き付けた後、引き
続き他方の面の塗膜を測定し塗布ノズルを制御する制御
信号を出力することを特徴とする磁気シートの膜厚測定
装置。

〔従来の技術〕

従来、磁気シートの膜厚測定には螢光Ｘ線分析法が用い
られているが、磁性膜及び原反の高分子シートが非常に
薄い為、表面情報と裏面情１７Ｋが影響を及ぼし合い両
面塗布膜の測定を行うことができず、片面磁性膜を剥離
した後の片面塗布ＩＥＪしか測定できなかった。

更に、両サイドに測定ヘッドを配置し、夫々の面での６
ｎ性膜からの螢光Ｘ線強度を計測し、得られた強度に基
づいて連立方程式を解くことにより補正を行う方法も用
いられているが、裏面磁性膜からの影響を完全に補正で
きるものでもない。

又、この方法では両面磁性膜乾燥後用であり、磁性膜塗
布量制御には適していない。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の目的は、前述の問題点を解決し、磁性膜厚を測
定し、フィード・バック制御により塗布量を制御する為
の装置を提供することにある。

本発明においては、第１図及び第２図に示すようにフロ
ンビイディスク塗工機の中に組み込むことを考慮し、磁
性物質を塗布ノズルｌによる塗布及びドライヤー２によ
る乾燥直後の表面塗布過程で螢光Ｘ線透過型Ｘ線検出器
４を配置し、−次Ｘ線発生器３からの一次Ｘ線による透
過Ｘ線強度をＡ　Ｍ　Ｐ　？、ｌ１０８にて計測し、既
知検量線に基づいてＣＰＵ９にて演算し表面塗布膜６の
膜厚を決定し、ＣＰＵ９及びｌ１０８にてこれと設定値
との比較により塗布ノズル出力を判断し制御信号を出力
する。この際、測定位置と表面磁性膜での透過Ｘ線強度
、ＩａをＣＰＵ９でメモリしておく。

次に表面工程終了後、裏面に塗布する過程に前記と同様
に、磁性°吻質の塗布及び乾燥直後に、表面側から照射
する螢光Ｘ線透過型Ｘ線検出器４によりｉ３過Ｘ線強度
Ｉを計測する。この透過Ｘ線強度Ｉは裏面塗膜厚の情報
のみを有するのではな（、表面塗膜厚の情報をも含んで
いる。

そこで、ＣＰＵ９前記メモリした位置情報及び表面磁性
膜でのｉ３過Ｘ線強度・ｌａによって透過Ｘ線強度・■
を補正し既知検量線に基づいて裏面磁性膜の厚みを演算
する。次に、前記と同様、ＣＰＵ９、ｌ１０８にて塗布
ノズル１ａの塗布量を制御する塗布ノズル制御信号を出
力する。

〔発明の効果〕

本発明の磁気シート膜厚測定装置は、膜厚測定により塗
布■制御を可能とする。又、片面塗布工程測定と両面塗
布工程測定を組み合わせ、位置情報による補正によって
夫々面のＸ線強度の影否を受けることもなく迅速、非破
壊的に、且つ連続的に生産工程内で分析できる効果を有
する。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の実施例のブロック図である。 １・・・塗膜ノズル ２・・・ドライヤー ３・・・Ｘ線発生器 ４・・・Ｘ線検出器 ５・・・Ｗ　ｅ　を状態塗膜 ６・・・Ｄｒｙ状態塗膜 ７・・・ＡＭＰ ８・・・ｌ１０ ９・・・ＣＰＵ １０・・・原反 １１・・・巻き取りロール 以上 出願人　セイコー電子工業株式会社 冬肥朗のフ・口、７グロ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. シート状原反に連続塗布するフロッピィディスク塗工程
   においてドライヤー通過後の片面塗膜厚みを連続的に計
   測し管理厚みとなるように塗布ノズルを制御する信号を
   出力し、一方ロールに巻き付けた後、引き続き他方の面
   の塗膜を測定し塗布ノズルを制御する制御信号を出力す
   ることを特徴とする磁気シートの膜厚測定装置。