JPS6212781A - １−オキサ−３、８−ジアザ−４−オキソ−スピロ−〔４、５〕−デカン−化合物の製造方法 - Google Patents
１−オキサ−３、８−ジアザ−４−オキソ−スピロ−〔４、５〕−デカン−化合物の製造方法Info
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- JPS6212781A JPS6212781A JP61159888A JP15988886A JPS6212781A JP S6212781 A JPS6212781 A JP S6212781A JP 61159888 A JP61159888 A JP 61159888A JP 15988886 A JP15988886 A JP 15988886A JP S6212781 A JPS6212781 A JP S6212781A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D498/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D498/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D498/10—Spiro-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D519/00—Heterocyclic compounds containing more than one system of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring system not provided for in groups C07D453/00 or C07D455/00
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は１重合体用の光安定剤としであるいはプラスチ
ック材料用の添加剤を製造するための中間生成物として
使用されうる１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツ
ースビロー（４，５） −デカン化合物の製造方法に関
する。
ック材料用の添加剤を製造するための中間生成物として
使用されうる１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツ
ースビロー（４，５） −デカン化合物の製造方法に関
する。
で表わされる化合物は公知である（ドイツ特許出願公開
第１４９，４５３号公報参照）。しかしながら、それら
の製造方法は、複雑である。
第１４９，４５３号公報参照）。しかしながら、それら
の製造方法は、複雑である。
というのは１反応中に反応媒質が数回取換えられるが、
そのことは追加的な抽出および蒸留を必要とするからで
ある。
そのことは追加的な抽出および蒸留を必要とするからで
ある。
本発明者らは、この度、上記の製造反応は。
溶媒として室温において液体である芳香族炭化水素を使
用しそして相間移動触媒を添加することによって、より
急速にそしてよシ完全に進行することを見出した。
用しそして相間移動触媒を添加することによって、より
急速にそしてよシ完全に進行することを見出した。
従って１本発明の対象は１式Ｉ
〔上式中、
ｎは１ないし４の整数であ勺。
Ｒ１は水素、Ｃ，−０，−アルキル、ベンジル、アリル
ｂ ’２−０８６−アルカノイル、Ｃ３−Ｇ、。−アル
ケノイル％Ｃチー０１１−アロイル％ Ｃ８’１４−
アＲ” ハ水Ｒ１Ｃ，−０，、−７／Ｉ／ −？ ／ｌ
’、０５０ｔｔ −シクロアルキルミフェニル−または
ナフ？３４（これらの基は塩素またはＣ，−Ｃ，−アル
キルによって置換されていてもよい）、ｔたは場合によ
ってはＣニーＣ４−アルキルによって置換されたＣ？
ｃｔｔ−７エニルアルキレン基を意味し。
ｂ ’２−０８６−アルカノイル、Ｃ３−Ｇ、。−アル
ケノイル％Ｃチー０１１−アロイル％ Ｃ８’１４−
アＲ” ハ水Ｒ１Ｃ，−０，、−７／Ｉ／ −？ ／ｌ
’、０５０ｔｔ −シクロアルキルミフェニル−または
ナフ？３４（これらの基は塩素またはＣ，−Ｃ，−アル
キルによって置換されていてもよい）、ｔたは場合によ
ってはＣニーＣ４−アルキルによって置換されたＣ？
ｃｔｔ−７エニルアルキレン基を意味し。
Ｒ′は水素、 Ｏ，−Ｃ，−７ｋキ＃ 、 Ｃ３−Ｃ，
、−シフｏ ７ ／Ｉ／キ＃ ； −０００Ｈ、カルボ
−Ｃ，−０，−７／Ｉ／コキシを比はカルバモイルで置
換され７ｔ Ｏｔ−〇、−アルケニル；フェニルー、ナ
フチル−またはピリジル基（これらの基はＣ，−Ｃ４〜
アルコキシまたはＣ，−ａ、−アルキルによって置換さ
れていてもよい）；またはＣｌ−０４−アＡ／ キｋ
ニよって置換されていてもよいｃ、 ＩＣ
１ｔ−フェニルアルキル基を意味するか、あるいは Ｒ１およびＨ４はそれらと結合している炭素原子と一緒
で、１ないし４個のＯ，−０４−アルキル力よよっ−Ｃ
３，，ヶゎ工い１．よい、２゜ア９ ：キル基、あ
る込は式Ｕ （上式中 Ｒ１およびＨ２は、前記の意味を有する）で
表わされる残基金形成し。
、−シフｏ ７ ／Ｉ／キ＃ ； −０００Ｈ、カルボ
−Ｃ，−０，−７／Ｉ／コキシを比はカルバモイルで置
換され７ｔ Ｏｔ−〇、−アルケニル；フェニルー、ナ
フチル−またはピリジル基（これらの基はＣ，−Ｃ４〜
アルコキシまたはＣ，−ａ、−アルキルによって置換さ
れていてもよい）；またはＣｌ−０４−アＡ／ キｋ
ニよって置換されていてもよいｃ、 ＩＣ
１ｔ−フェニルアルキル基を意味するか、あるいは Ｒ１およびＨ４はそれらと結合している炭素原子と一緒
で、１ないし４個のＯ，−０４−アルキル力よよっ−Ｃ
３，，ヶゎ工い１．よい、２゜ア９ ：キル基、あ
る込は式Ｕ （上式中 Ｒ１およびＨ２は、前記の意味を有する）で
表わされる残基金形成し。
Ｒ６は水素、メチル、フェニルまたはカルボ−０１−〇
、１−アルコキシを意味し。
、１−アルコキシを意味し。
Ｒ＠は水素またはメチルを意味し、
Ｒマは、ｎ＝１である場合には。
水素、Ｃ１−Ｃ□−アルキルｔＣ２−Ｃ２＊−ア′ケ３
ルｈ Ｃ１’１１１− フェニルアルキル＊ Ｃ３−Ｃ
１＊−シクロアルキル、フェニル、ナフチルｓ ”ｌ−
０１８−アルキルフェニル、式 （上式中 Ｒ１およびＲ２は前記の意味を有する）で表
わされる残基、Ｃ，−〇、。−、アルキル（これて／ま
たは弐■ で表わされる残基により、ｔたはＣｌ−０１１−アルキ
ルカルボキシルによりｕ換されていて４ ｊ ＜、 コ
コテコレラ（０式中、 Ｒ”、Ｒ２，Ｒｓ、Ｒ’。
ルｈ Ｃ１’１１１− フェニルアルキル＊ Ｃ３−Ｃ
１＊−シクロアルキル、フェニル、ナフチルｓ ”ｌ−
０１８−アルキルフェニル、式 （上式中 Ｒ１およびＲ２は前記の意味を有する）で表
わされる残基、Ｃ，−〇、。−、アルキル（これて／ま
たは弐■ で表わされる残基により、ｔたはＣｌ−０１１−アルキ
ルカルボキシルによりｕ換されていて４ ｊ ＜、 コ
コテコレラ（０式中、 Ｒ”、Ｒ２，Ｒｓ、Ｒ’。
Ｒ５およびＲ６は前記の意味を有しモしてＲ８は水素ま
たはＣ，−Ｃ，。−アルキルである）を意味し。
たはＣ，−Ｃ，。−アルキルである）を意味し。
Ｒ７は、 Ｈｗ ２である場合には、
直鎖状または分枝鎖状Ｃ，−Ｃ，。−アルキレン。
’Ｑ ’Ｑ＠−アルケニレン、フェニルジアルキレン
を意味し、その際これらの基は−ｏ −１Ｒ？は、ｎ＝
３または４である場合には。
を意味し、その際これらの基は−ｏ −１Ｒ？は、ｎ＝
３または４である場合には。
下記式ｙ、ｖ、ｗまたは■
■
門
直
で表わされる残基を意味する〕
で表わされる１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキノ
ースビロー（４，５）デカン化合物を製造すべく１式■ （上式中 Ｒ１、ｐ（２，ＢＳおよびＲ４は前記の意味
を有する）で表わされる化合物を弐■ （上式中、 ｎ、Ｒ５，Ｒ’およびＲ７は前記の意味を
有する）で表わされる化合物と、不活性溶媒中で３０な
いし１５０℃の温度において塩基性触媒中で反応せしめ
る方法において、室温で液体の芳香族炭化水素中の、化
合物■に関して０．０５ないし２０モル％の相間移動触
媒の存在下に反応を行なうことを特徴とする前記１−オ
キサ−□３．８−ジアザ−４−オキツースビロー（４＃
５）−デカン化合物の製造方法である。
ースビロー（４，５）デカン化合物を製造すべく１式■ （上式中 Ｒ１、ｐ（２，ＢＳおよびＲ４は前記の意味
を有する）で表わされる化合物を弐■ （上式中、 ｎ、Ｒ５，Ｒ’およびＲ７は前記の意味を
有する）で表わされる化合物と、不活性溶媒中で３０な
いし１５０℃の温度において塩基性触媒中で反応せしめ
る方法において、室温で液体の芳香族炭化水素中の、化
合物■に関して０．０５ないし２０モル％の相間移動触
媒の存在下に反応を行なうことを特徴とする前記１−オ
キサ−□３．８−ジアザ−４−オキツースビロー（４＃
５）−デカン化合物の製造方法である。
Ｒ１は好ましくは水素ｂ ’１−０４−アルキル、Ｏ＊
−０１ｍ−フルカッイル、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、アセチル、プロピオニル。
−０１ｍ−フルカッイル、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、アセチル、プロピオニル。
ブチリル、ラウロイル、ステアロイル％特に好ましくけ
水素または上記の酸残基のうちの一つであるａ特ＫＲＩ
は水素である。
水素または上記の酸残基のうちの一つであるａ特ＫＲＩ
は水素である。
Ｒ１は好ましくは水素またはａ、−ａ、−アルキル。
例えばメチル、エチル、プロピル、ブチルである。特に
Ｈａは水素である。
Ｈａは水素である。
Ｈａおよび把は互りに独立してＣｔ−Ｃｔｓ〜アルキル
、Ｃ３−ａ１！−シクロアルキルまたはフェニル、例エ
バエチル、ブチル、オクチル、ラウリル。
、Ｃ３−ａ１！−シクロアルキルまたはフェニル、例エ
バエチル、ブチル、オクチル、ラウリル。
ステアリル、シクロヘキシル、シクロデシル。
特に好ましくはＣ，−Ｃ，−アルキルである。４ＩにＲ
１およびＲ４は、Ｃ１−０４−アルキル、例えばメチル
である。
１およびＲ４は、Ｃ１−０４−アルキル、例えばメチル
である。
Ｒ１および８番は、それらと結合している炭素Ｒ５は好
ましくは水素、メチルまたはフェニル、特に好ましくは
水素である。
ましくは水素、メチルまたはフェニル、特に好ましくは
水素である。
Ｒ６は好ましくは水素またはメチルである。
特にＲ＠は水素である。
Ｒ７は好ましくはＣ，−Ｃ□−アルキル、直鎖状ま几は
分枝鎖状のＣ，−Ｃ３゜−アルキレン、例えばメチル、
ブチル、オクチル、ラウリル、ステア′ リル、エチ
リデン、ブチルデン、ヘキシリデン、特に好ましくはＣ
，−Ｃ１５−アルキルである。特にＲ？は、Ｃ□−Ｃｔ
４−アルキル、例えばラウリルである。
分枝鎖状のＣ，−Ｃ３゜−アルキレン、例えばメチル、
ブチル、オクチル、ラウリル、ステア′ リル、エチ
リデン、ブチルデン、ヘキシリデン、特に好ましくはＣ
，−Ｃ１５−アルキルである。特にＲ？は、Ｃ□−Ｃｔ
４−アルキル、例えばラウリルである。
式■の適当な化合物は、例えば、
２−ブチル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキ
？−３．８−ジアザー４−オキツースビロー（４，５）
−デカン ２−イソ−ブチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４
，５）−デカン ２−ベンチルーフ、７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４，５
）−デカン ２−イソ−ベンチルーフ、７，９．９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（
４，５） −’デカン ２−ヘキシル−７，７，９，９−ナト２メチルー１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー （４，
５）−デカン ２−へブチル−７，７，９，９−テトラメチル−１゛
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー
（４，５）−デカン ２−イソ−ヘプチル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー（
４，５）−デカン ２−ノニル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー［”４．５
］−デカン ２−イソ−ノニル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４
，５）−デカン ２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー（４，
５）−デカン ２−フェニル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロ−（４，５
）−デカン ２−（４−クロル−フェニル） −７，７，９，９−一
テトラメチルー１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキ
ツースビロー（４，５）−デカン２−エチル−２，７，
７，９，９−ペンタメチル−１、−オキサ−３，８−ジ
アザ−４−オキツースピロー （４，５）−デカン ２−プロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー（４
，５’ｌ−デカン ２−イソ−プロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチ
ル−１−オキサ−３，８〜ジアザ−４−オキツースビロ
ー（４，５）−デカン ２−ブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキ７− スヒｒｓ−（
４，５）−デカン ２−イソ−ブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル
−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキノースビロー
（４，５）−デカン ２−ペンチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー（４
，５）−デヵン ２−へキシル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４
，５）−デカン ２−ノニル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー〔４，
５〕−デカン ２．２，７，７，９．９−へキサメチル−１−オキサ−
３８−ジアザ−４−オキツースビロー（４，５） −デ
カン ２．２，７，７，８，９．９−へブタメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４、５）
−デカン ２．２−ジエチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー１”
４．５）−デカン ２．２−ジプロピル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（
ａ、５）−デカン ２．２−ジプチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４
，５）−デカン ２−エチル−２−ベンチルーフ、７，９．９−テトラメ
チル−１−オキサ−５，８−ジアザ−４−オキツースビ
ロー（４，５）−デカン ２．２−ジベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（
４、５）−デカン ２．２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−３゜１３
−ジアザ−１４−オキソ−ジスピロー〔５゜１．４．２
）−テトラデカン ２．２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−３゜１４
−ジアザ−１５−オキソ−ジスピロー（５，１゜５．２
〕−ペンタデカン ２．２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−３゜２０
−ジアザ−２１−オキソ−ジスピロー〔５゜１．１１．
２）−ヘンエイコサン ２．２，７，７，９，９−へキサメチル−１−オキサ−
３，８−ジアザ−４−オキソ−８−アセチル−スピロ−
（４，５）−デカン ２．２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−３，１４
−ジアザ−１５−オキソ−３−アセチル−シースピロー
〔５，１，５，２］−ペンタデカン２．２，４．４−テ
トラメチル−７−オキサ−３，２゜−ジアザ−２１−オ
キソ−３−アセチル−シースビロー（５，１，１１，２
）−ヘンエイコサン式■の適邑な化合物としては１例え
ば下記のものがある： アクリシ酸メチル アクリヅ酸エチル ｌレ アクリル酸−ｎ−ブチル Ｉレ アクリＶ酸−インープチル （Ｖ アクリＹ酸−第三−ブチル アクリル酸−２−エチルヘキシル アクリル酸オクチル アクリル酸ラウリル アクリル酸ミリスチル アクリル酸−２−ジエチルｊノエチル メタアクリル酸メチル メタアクリル酸エチル メタアクリル酸−Ｄ−ブチル メタアクリル酸−イソ−ブチル メタアクリル酸−第三−ブチル メタアクリル酸ラウリル ″′”ｈｅ−ｙｐ”へ′″ ：メタアクリル酸
アリル メタアクリル酸−２−エトキシエチル メタアクリル酸−２−ジメチルアミノエチル
ｔ′”）：／２″？＃
。
？−３．８−ジアザー４−オキツースビロー（４，５）
−デカン ２−イソ−ブチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４
，５）−デカン ２−ベンチルーフ、７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４，５
）−デカン ２−イソ−ベンチルーフ、７，９．９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（
４，５） −’デカン ２−ヘキシル−７，７，９，９−ナト２メチルー１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー （４，
５）−デカン ２−へブチル−７，７，９，９−テトラメチル−１゛
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー
（４，５）−デカン ２−イソ−ヘプチル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー（
４，５）−デカン ２−ノニル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー［”４．５
］−デカン ２−イソ−ノニル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４
，５）−デカン ２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー（４，
５）−デカン ２−フェニル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロ−（４，５
）−デカン ２−（４−クロル−フェニル） −７，７，９，９−一
テトラメチルー１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキ
ツースビロー（４，５）−デカン２−エチル−２，７，
７，９，９−ペンタメチル−１、−オキサ−３，８−ジ
アザ−４−オキツースピロー （４，５）−デカン ２−プロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー（４
，５’ｌ−デカン ２−イソ−プロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチ
ル−１−オキサ−３，８〜ジアザ−４−オキツースビロ
ー（４，５）−デカン ２−ブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキ７− スヒｒｓ−（
４，５）−デカン ２−イソ−ブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル
−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキノースビロー
（４，５）−デカン ２−ペンチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー（４
，５）−デヵン ２−へキシル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４
，５）−デカン ２−ノニル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー〔４，
５〕−デカン ２．２，７，７，９．９−へキサメチル−１−オキサ−
３８−ジアザ−４−オキツースビロー（４，５） −デ
カン ２．２，７，７，８，９．９−へブタメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４、５）
−デカン ２．２−ジエチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー１”
４．５）−デカン ２．２−ジプロピル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（
ａ、５）−デカン ２．２−ジプチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（４
，５）−デカン ２−エチル−２−ベンチルーフ、７，９．９−テトラメ
チル−１−オキサ−５，８−ジアザ−４−オキツースビ
ロー（４，５）−デカン ２．２−ジベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビロー（
４、５）−デカン ２．２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−３゜１３
−ジアザ−１４−オキソ−ジスピロー〔５゜１．４．２
）−テトラデカン ２．２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−３゜１４
−ジアザ−１５−オキソ−ジスピロー（５，１゜５．２
〕−ペンタデカン ２．２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−３゜２０
−ジアザ−２１−オキソ−ジスピロー〔５゜１．１１．
２）−ヘンエイコサン ２．２，７，７，９，９−へキサメチル−１−オキサ−
３，８−ジアザ−４−オキソ−８−アセチル−スピロ−
（４，５）−デカン ２．２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−３，１４
−ジアザ−１５−オキソ−３−アセチル−シースピロー
〔５，１，５，２］−ペンタデカン２．２，４．４−テ
トラメチル−７−オキサ−３，２゜−ジアザ−２１−オ
キソ−３−アセチル−シースビロー（５，１，１１，２
）−ヘンエイコサン式■の適邑な化合物としては１例え
ば下記のものがある： アクリシ酸メチル アクリヅ酸エチル ｌレ アクリル酸−ｎ−ブチル Ｉレ アクリＶ酸−インープチル （Ｖ アクリＹ酸−第三−ブチル アクリル酸−２−エチルヘキシル アクリル酸オクチル アクリル酸ラウリル アクリル酸ミリスチル アクリル酸−２−ジエチルｊノエチル メタアクリル酸メチル メタアクリル酸エチル メタアクリル酸−Ｄ−ブチル メタアクリル酸−イソ−ブチル メタアクリル酸−第三−ブチル メタアクリル酸ラウリル ″′”ｈｅ−ｙｐ”へ′″ ：メタアクリル酸
アリル メタアクリル酸−２−エトキシエチル メタアクリル酸−２−ジメチルアミノエチル
ｔ′”）：／２″？＃
。
クロトン酸エチル
１．４−ブタンジオールジアクリレート１１．６−ヘキ
サンジオールジアクリレート ｔ２−エチ
ル−２−ヒドロキシメチル−１，３−ｉ）・ プロパンジオール−トリアクリレート
ｉｉ、・ ジエチレングリコールジアクリレート ペンタエリトリットトリアクリレート ペンタエリトリットテトラアクリレートエチレングリコ
ールジメタクリレート １．４−ブタンジオールジメタクリレート１．６−−や
、、ｙ、オーヤ、７２□２−８ ；ジエチレン
グリコールジメタクリレートトリエチレングリコールジ
メタクリレートトリプロピレングリコールジアクリレー
トトリメチロールプロパントリメタクリレートアクリル
酸−２，２，６，６−ヂトラメチルビベリドー４−イル クロトンｒＲ−２，２，６，６−テトラメチルビベリド
ー４−イル メタク’ｉ”６−２ｔ２１６．６−テトラメチルピベド
ー４−イル 本発明による方法のためには、溶媒として。
サンジオールジアクリレート ｔ２−エチ
ル−２−ヒドロキシメチル−１，３−ｉ）・ プロパンジオール−トリアクリレート
ｉｉ、・ ジエチレングリコールジアクリレート ペンタエリトリットトリアクリレート ペンタエリトリットテトラアクリレートエチレングリコ
ールジメタクリレート １．４−ブタンジオールジメタクリレート１．６−−や
、、ｙ、オーヤ、７２□２−８ ；ジエチレン
グリコールジメタクリレートトリエチレングリコールジ
メタクリレートトリプロピレングリコールジアクリレー
トトリメチロールプロパントリメタクリレートアクリル
酸−２，２，６，６−ヂトラメチルビベリドー４−イル クロトンｒＲ−２，２，６，６−テトラメチルビベリド
ー４−イル メタク’ｉ”６−２ｔ２１６．６−テトラメチルピベド
ー４−イル 本発明による方法のためには、溶媒として。
室温で液体の芳香族炭化水素、好ましくはトルエンまた
はキシレンが使用される。
はキシレンが使用される。
相聞移動触媒としては、好ましくは、ポリエチレングリ
コールジアルキルエーテに、置換ホスホニウム塩、例え
ばテトラアルキルホスホニウムブロマイドまたは置換ア
ンモニウム塩、例えばテトラアルキルアンモニウムハロ
ゲニトマタハトリアルキルベンジルアンモニウムハロゲ
ニドが添加される。特にトリエチルベンジルアンモニウ
ムクロライドま九はテトラアルキルホスホニウムブロマ
イドが添加される。その量は、式■の化合物に関して０
．０５ないし２０モル％。
コールジアルキルエーテに、置換ホスホニウム塩、例え
ばテトラアルキルホスホニウムブロマイドまたは置換ア
ンモニウム塩、例えばテトラアルキルアンモニウムハロ
ゲニトマタハトリアルキルベンジルアンモニウムハロゲ
ニドが添加される。特にトリエチルベンジルアンモニウ
ムクロライドま九はテトラアルキルホスホニウムブロマ
イドが添加される。その量は、式■の化合物に関して０
．０５ないし２０モル％。
好ましくは０．１ないし１０モル％１％に１ないし１０
モル％である。
モル％である。
化合物■は、化合物遁の１モルに対して１／ｎないし１
０／ｎモル、好ましくは１／ｎないし３／ｎ。
０／ｎモル、好ましくは１／ｎないし３／ｎ。
特に１／ｎｉいし１，５／ｎモルの債で使用される。
ｎは前記の意味を有する。
反応温度は、３０ないし１５０℃、好ましくは５０ない
し１２０℃、特に７０ないし１２０℃である。
し１２０℃、特に７０ないし１２０℃である。
反応は、塩基性触媒の存在下に行なわれる。
そのようなものとしてアルカリ金属、好ましくはナトリ
ウムが、化合物■に関して１ないし３０モル％、好まし
くは２ないし１０モル％の量で使用される。
ウムが、化合物■に関して１ないし３０モル％、好まし
くは２ないし１０モル％の量で使用される。
本発明による方法は、従来技術に比較してかなりの利点
を示す。まず唯一の、技術的に取扱いの容易な溶媒また
は溶媒混合物が使用されるのみである。驚くべきことに
は、相聞移動触媒によって、反応が実質的によシ急速に
、そしてなかんずくニジ完全に進行し、従って化合物■
けもはや何倍も過剰に使用する必要はなく僅かな過剰で
十分であるという効果が実現する。それにもかかわらず
、よシ高い収量が得られ、しかも副生成物の量は減少す
る。
を示す。まず唯一の、技術的に取扱いの容易な溶媒また
は溶媒混合物が使用されるのみである。驚くべきことに
は、相聞移動触媒によって、反応が実質的によシ急速に
、そしてなかんずくニジ完全に進行し、従って化合物■
けもはや何倍も過剰に使用する必要はなく僅かな過剰で
十分であるという効果が実現する。それにもかかわらず
、よシ高い収量が得られ、しかも副生成物の量は減少す
る。
本発明に従って製造された式（Ｉ）で表わされる化合物
は、とシわけ光安定剤として１例えばポリオレフィン、
特にポリエチレンおよびポリプロピレン、エチレン／フ
ロピレン共重合体、ポリプチレ／、ならびにポリスチレ
ン、塩素化ポリエチレン、ならびにポリ塩化ビニル、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリフェニレンオキサイド、ポリアミド、ポリウ
レタン、ポリプロピレンオキサイド、ポリアセタール、
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リアクリルニトリルおよび対応する共重合体およびＡＢ
８−三元重合体のための光安定剤として使用される。好
ましくは１本発明に従って製造された化合物は。
は、とシわけ光安定剤として１例えばポリオレフィン、
特にポリエチレンおよびポリプロピレン、エチレン／フ
ロピレン共重合体、ポリプチレ／、ならびにポリスチレ
ン、塩素化ポリエチレン、ならびにポリ塩化ビニル、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリフェニレンオキサイド、ポリアミド、ポリウ
レタン、ポリプロピレンオキサイド、ポリアセタール、
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リアクリルニトリルおよび対応する共重合体およびＡＢ
８−三元重合体のための光安定剤として使用される。好
ましくは１本発明に従って製造された化合物は。
ポリプロピレン、低分子量および高分子量のポリエチレ
ン、エチレン−プロピレン−共重合体。
ン、エチレン−プロピレン−共重合体。
ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリアミド、 ・
ポリウレタン、ポリアクリルニトリル、ＡＢ８ 、
’アクリルエステルとスチレンとアクリルニトリ
ルの三元重合体、スチレンとアクリルニトリル−との、
またはスチレンとブタジェンとの共重合体の安定化に、
殊にポリプロピレン、ポリエチ ルン、エチレン／
プロピレン共重合体またはＡＢ８０安定化に使用される
。
ポリウレタン、ポリアクリルニトリル、ＡＢ８ 、
’アクリルエステルとスチレンとアクリルニトリ
ルの三元重合体、スチレンとアクリルニトリル−との、
またはスチレンとブタジェンとの共重合体の安定化に、
殊にポリプロピレン、ポリエチ ルン、エチレン／
プロピレン共重合体またはＡＢ８０安定化に使用される
。
本発明に従って、製造された化合物は、天然物 ；
質、例えばゴム、ならびにまた潤滑油の安定化 □
のために使用されうる。更に、それらは、塗料の安定化
のためにも好適である。
質、例えばゴム、ならびにまた潤滑油の安定化 □
のために使用されうる。更に、それらは、塗料の安定化
のためにも好適である。
塗料としては、工業用塗装に使用されるすべ ゛て
の型のものが可能であシ、好ましくは、トイ １ツ
特許出願公開第４１４９．４５３号公報に列挙され、い
、よりな゛、焼付は塗料、、使用されうる。 ′・
ｌ＋ 保護されるべき材料への本発明に従って製造・ン され良化合物の導入は、それ自体公知の方法に １
従って行なわれ、その際単量体、またはプレポリマーま
たは前縮合物にこれらの安定剤を添加することもできる
。
の型のものが可能であシ、好ましくは、トイ １ツ
特許出願公開第４１４９．４５３号公報に列挙され、い
、よりな゛、焼付は塗料、、使用されうる。 ′・
ｌ＋ 保護されるべき材料への本発明に従って製造・ン され良化合物の導入は、それ自体公知の方法に １
従って行なわれ、その際単量体、またはプレポリマーま
たは前縮合物にこれらの安定剤を添加することもできる
。
式（１１で表わされる化合物のほかに、他の安定剤をプ
ラスチック材料に添加することもできる。
ラスチック材料に添加することもできる。
そのような他の化合物としては、例えば、立体障害性フ
ェノール類を基礎とした酸化防止剤。
ェノール類を基礎とした酸化防止剤。
またはイオウま九はリンを含有する補助安定剤または適
邑な立体障害性フェノール類とイオウおよび／ま九はリ
ンを含有する化合物との混合物がある。そのような化合
物は１例えば以下のものである：ベンゾフラン−２−オ
ンおよび／またはインドリン−２−オン化合物、立体障
害性フェノール類、例えばβ−（４−ヒドロキシ−３，
５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−プロピオン酸ステアリ
ル、テトラキス−〔メチレン−３（３／、Ｓ／−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル〕グロピオネート〕
−メタン、１，５，５−トリス−（２−メチル−４−ヒ
ドロキシ−Ｓ−を−ブチルフェニル）−メタン、 １
，３，５−トリス−（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ
−２，６−シメチルベ／ジル） −１，３，５−）リア
ジン−２゜４．６− （ＩＨ，５Ｈ，５Ｈ） −）リオ
ン、ビス−（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６
−シメチルペンジル）−ジチオールテレフタレート、ト
リス−（Ｓ、Ｓ −ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、β−（４−ヒドロキシ−５，５
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フロピオン酸の１．３．
４− ）リス−（２−ヒドロキシエチル）−５−）リア
ジン−２，４，６−（ＩＨ，３１１１゜５Ｈ） ）リオ
ンとのトリエステル、ビス−〔３，３−ビス−（４′−
ヒトルキシー５−ｔ−プチルフエニル）−フタン酸〕−
グリコールエステル。
邑な立体障害性フェノール類とイオウおよび／ま九はリ
ンを含有する化合物との混合物がある。そのような化合
物は１例えば以下のものである：ベンゾフラン−２−オ
ンおよび／またはインドリン−２−オン化合物、立体障
害性フェノール類、例えばβ−（４−ヒドロキシ−３，
５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−プロピオン酸ステアリ
ル、テトラキス−〔メチレン−３（３／、Ｓ／−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル〕グロピオネート〕
−メタン、１，５，５−トリス−（２−メチル−４−ヒ
ドロキシ−Ｓ−を−ブチルフェニル）−メタン、 １
，３，５−トリス−（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ
−２，６−シメチルベ／ジル） −１，３，５−）リア
ジン−２゜４．６− （ＩＨ，５Ｈ，５Ｈ） −）リオ
ン、ビス−（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６
−シメチルペンジル）−ジチオールテレフタレート、ト
リス−（Ｓ、Ｓ −ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、β−（４−ヒドロキシ−５，５
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フロピオン酸の１．３．
４− ）リス−（２−ヒドロキシエチル）−５−）リア
ジン−２，４，６−（ＩＨ，３１１１゜５Ｈ） ）リオ
ンとのトリエステル、ビス−〔３，３−ビス−（４′−
ヒトルキシー５−ｔ−プチルフエニル）−フタン酸〕−
グリコールエステル。
２．３．５−）リスチル−２，４，６−トリス−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−ベン
ゼン、 ２．２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６
−ｔ−ブチルフェニル）−テレフタレ−）、４．４−メ
チレン−ビス−（２，６−ジー七−メチルフェノール）
、４．４’−ブチリデン−ビス−（ｔ−ブチル−ｍ−ク
レゾール）、４．４−チオ−ビス−（２−ｔ−ブチル−
５−メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−ｔ−ブチル−フェノール）である。
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−ベン
ゼン、 ２．２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６
−ｔ−ブチルフェニル）−テレフタレ−）、４．４−メ
チレン−ビス−（２，６−ジー七−メチルフェノール）
、４．４’−ブチリデン−ビス−（ｔ−ブチル−ｍ−ク
レゾール）、４．４−チオ−ビス−（２−ｔ−ブチル−
５−メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−ｔ−ブチル−フェノール）である。
酸化防止的に作用する共安定剤１例えば、イオウ含有化
合物１例えばジステアリルチオジグロビオネート、ジラ
ウリルチオジブ四ビオネート。
合物１例えばジステアリルチオジグロビオネート、ジラ
ウリルチオジブ四ビオネート。
テトラキス−（メチレン−３−ヘキシル−チオプルビオ
ネート）−メタン、テトラキス−（メチレン−３−ドデ
シル−チオプロピオネート）−メタンおよびジオクタデ
シルジサルファイドま几はリン含有化合物１例えばトリ
ノニルフェニルホスファイ） ； ４，９−ジステアリ
ル−３，５゜８．１０−テトラオキサジホスファスピロ
ウンデカン、トリス−（２，４−ｔ−ブチルフェニル）
−ホスファイトマ友はテトラキス−（２，４−ジ−ｔ−
７’チルフエニル）−４，４’−７’チル之工二ル）−
４，４’−シフェニレンージホスホナイトもまた添加さ
れうる。
ネート）−メタン、テトラキス−（メチレン−３−ドデ
シル−チオプロピオネート）−メタンおよびジオクタデ
シルジサルファイドま几はリン含有化合物１例えばトリ
ノニルフェニルホスファイ） ； ４，９−ジステアリ
ル−３，５゜８．１０−テトラオキサジホスファスピロ
ウンデカン、トリス−（２，４−ｔ−ブチルフェニル）
−ホスファイトマ友はテトラキス−（２，４−ジ−ｔ−
７’チルフエニル）−４，４’−７’チル之工二ル）−
４，４’−シフェニレンージホスホナイトもまた添加さ
れうる。
式■で表わされる化合物および前記のそれらの混合物は
、その他の添加剤の存在下に使用することもできる。こ
れらは、それ自体公知であり、そして例えばアミノアク
リル化合物の群、ＯＶ吸収剤および光安定剤、例えば２
−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンズトリアゾール、
２−ヒドロキシベンゾフェノン、１，３−ビス（２′−
ヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、サリチル酸塩、桂皮
酸エステル、場合によっては置換された安息香酸のエス
テル、立体障害性アミン、シュウ酸ジアミドに属する。
、その他の添加剤の存在下に使用することもできる。こ
れらは、それ自体公知であり、そして例えばアミノアク
リル化合物の群、ＯＶ吸収剤および光安定剤、例えば２
−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンズトリアゾール、
２−ヒドロキシベンゾフェノン、１，３−ビス（２′−
ヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、サリチル酸塩、桂皮
酸エステル、場合によっては置換された安息香酸のエス
テル、立体障害性アミン、シュウ酸ジアミドに属する。
本発明によ）製造された式Ｉで表わされる化合物の使用
量は、プラスチック材料の場合。
量は、プラスチック材料の場合。
０．０１〜５重量％であシ、安定剤濃縮物の場合２Ｇな
いし８０重量％であり、そして塗料の場合には０．０２
〜５重量％である。
いし８０重量％であり、そして塗料の場合には０．０２
〜５重量％である。
比較例ム
（ドイツ特許出願公開第１４９，４５５号の例１゜ただ
し精製は行なわず） ２．２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−５，２０
−シアサジスピロ（５，１，１１，２）−ヘンエイコサ
ン−２１−オン９１．１ｇ（０，２５モル）およびナト
リウム０．３９ （０，０１モル）をジメチルスルホキ
シド９１．１９中で１２０℃に２時間加熱した０次いで
アクリル酸メチル８９．５ｇ（１モル）を１０分間で滴
加し、そして１１０℃において５時間撹拌した。反応混
合物を氷／水上に注ぎそしてエーテルで抽出した。有機
相を硫酸！グネシウム上で乾燥し、Ｆ別しそして溶媒を
留去した。残渣として１０３℃の融点を有するベージュ
色の固体物質が残留し友。
し精製は行なわず） ２．２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−５，２０
−シアサジスピロ（５，１，１１，２）−ヘンエイコサ
ン−２１−オン９１．１ｇ（０，２５モル）およびナト
リウム０．３９ （０，０１モル）をジメチルスルホキ
シド９１．１９中で１２０℃に２時間加熱した０次いで
アクリル酸メチル８９．５ｇ（１モル）を１０分間で滴
加し、そして１１０℃において５時間撹拌した。反応混
合物を氷／水上に注ぎそしてエーテルで抽出した。有機
相を硫酸！グネシウム上で乾燥し、Ｆ別しそして溶媒を
留去した。残渣として１０３℃の融点を有するベージュ
色の固体物質が残留し友。
比較例Ｂ
比較例Ａと同様にして操作したが、ただしアクリル酸メ
チルを２５．８９ （０，３モル）のみ用いた。この実
験においては、８９℃の融点を有する明るい色の固体物
質６５．５ Ｊが得られた。
チルを２５．８９ （０，３モル）のみ用いた。この実
験においては、８９℃の融点を有する明るい色の固体物
質６５．５ Ｊが得られた。
比較例Ｃ
コサン−２１−オフ９１．１９ （０，２５モル）およ
びナトリウム０．５ｇをトルエン１００ｇ中で８０℃に
加熱した。アクリル酸メチル２１．６ｇ（０，２５モル
）を５０分間で滴訓し九。撹拌を８０℃において６時間
続けた。次に、各回１００Ｊ宛の水を用いて振シ出しを
３回行ない、そして有機相からトルエンを留去した。生
成物から２．２，４．４−テトラメチ）ｖ−７−オキサ
−３，２０−ジアジるスピロ（ｓ、１．１ｉ、へ２〕−
ヘンエイコサン−２１−オン４ｇを更に溶解および再結
晶によって単離した。９７℃の融点を有する明るい色の
固体８９．ｊ９が残留した。
びナトリウム０．５ｇをトルエン１００ｇ中で８０℃に
加熱した。アクリル酸メチル２１．６ｇ（０，２５モル
）を５０分間で滴訓し九。撹拌を８０℃において６時間
続けた。次に、各回１００Ｊ宛の水を用いて振シ出しを
３回行ない、そして有機相からトルエンを留去した。生
成物から２．２，４．４−テトラメチ）ｖ−７−オキサ
−３，２０−ジアジるスピロ（ｓ、１．１ｉ、へ２〕−
ヘンエイコサン−２１−オン４ｇを更に溶解および再結
晶によって単離した。９７℃の融点を有する明るい色の
固体８９．ｊ９が残留した。
例 １
操作は、比較例Ｃに従って行なったが更にトリエチルペ
ンジルアンモニラムククラ４ＹＳ１１を追加的に添加し
た。この場合には２，２，４，４−テトラメチル−７−
オキサ−３，２０−ジアザジスピロ（５，１，１１，％
２〕−ヘンエイコサンー２１−オンの残渣は、単離でき
なかった。最綺生成物として１０４℃の融点を有する白
色の固体１０４ｇが得られた。
ンジルアンモニラムククラ４ＹＳ１１を追加的に添加し
た。この場合には２，２，４，４−テトラメチル−７−
オキサ−３，２０−ジアザジスピロ（５，１，１１，％
２〕−ヘンエイコサンー２１−オンの残渣は、単離でき
なかった。最綺生成物として１０４℃の融点を有する白
色の固体１０４ｇが得られた。
例 ２
操作は、比較例Ｏと同様であったが、九だし次の量が変
えられたニアクリル酸メチル２５．８（Ｏ，Ｓモル）お
よびトリエチルベンジルアンモニウムクロライド３ｇ。
えられたニアクリル酸メチル２５．８（Ｏ，Ｓモル）お
よびトリエチルベンジルアンモニウムクロライド３ｇ。
この場合には２，２，４．４−テトラメチル−７〜オキ
サ−５，２０−ジアザジスピロ（５，１，１１，２）−
ヘンエイコサン−２１−オンの残渣は、単離できなかり
た。最終生成物として、１１４℃の融点を有する白色の
固体１０９ｇが得られた。
サ−５，２０−ジアザジスピロ（５，１，１１，２）−
ヘンエイコサン−２１−オンの残渣は、単離できなかり
た。最終生成物として、１１４℃の融点を有する白色の
固体１０９ｇが得られた。
例 ３〜５
操作は１例２と同様であるが、下記の相間移動触媒が使
用された： だしラウリルアクリレート（０□−エステル約５３−５
５％とＣ□−エステル約４２−４５％の工業用混合物’
） ７６，５．９ （０，３モル）ならびに下記の量の
トリエチルベンジルアンモニウムクロライドが使用され
た： 残留含量〔重量％〕 比較例Ｄ ０ １５１ ３
．８６ １ １５８
２．７７ ５ １６０
０．７８ ５ １
４４ ２．５なわれ念が、ただし相間移
動触媒としてアンモニウム塩の代りにホ１？ホニウム塩
が使用された。
用された： だしラウリルアクリレート（０□−エステル約５３−５
５％とＣ□−エステル約４２−４５％の工業用混合物’
） ７６，５．９ （０，３モル）ならびに下記の量の
トリエチルベンジルアンモニウムクロライドが使用され
た： 残留含量〔重量％〕 比較例Ｄ ０ １５１ ３
．８６ １ １５８
２．７７ ５ １６０
０．７８ ５ １
４４ ２．５なわれ念が、ただし相間移
動触媒としてアンモニウム塩の代りにホ１？ホニウム塩
が使用された。
９ トリプチルヘキ
ド ３．０ｇ
１０ テトラプチルホ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式 I ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔上式中、 ｎは１ないし４の整数であり、 Ｒ＾１は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、ベンジル、
アリル、Ｃ＿２−Ｃ＿３＿０−アルカノイル、Ｃ＿３−
Ｃ＿２＿０−アルケノイル、Ｃ＿７−Ｃ＿１＿１−アロ
イル、Ｃ＿８−Ｃ＿１＿４−アリールアルカノイルまた
はＣ＿８−Ｃ＿２＿０−アルキルアリールを意味し、 Ｒ＾２は水素またはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルを意味し
、Ｒ＾３は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿１＿８−アルキル、Ｃ＿
５−Ｃ＿１＿２−シクロアルキル；フェニル−またはナ
フチル 基（これらの基は塩素またはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキル
によつて置換されていてもよい）、ま たは場合によつてはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルによつて
置換されたＣ＿７−Ｃ＿１＿２−フェニルアルキレン基
を意味し、 Ｒ＾４は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、Ｃ＿５−Ｃ
＿１＿２−シクロアルキル；−ＣＯＯＨ、カルボ−Ｃ＿
１−Ｃ＿４−アルコキシまたはカルバモイルで置換され たＣ＿１−Ｃ＿３−アルケニル、フェニル−、ナフチル
−またはピリジル基（これらの基は Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルコキシまたはＣ＿１−Ｃ＿４−ア
ルキルによつて置換されていてもよい）；また はＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルによつて置換されていても
よいＣ＿７−Ｃ＿１＿２−フェニルアルキル基を意味す
るか、あるいは Ｒ＾３およびＲ＾４はそれらと結合している炭素原子と
一緒で、１ないし４個のＣ＿１−Ｃ＿４−アルキル基に
よつて置換されていてもよいシク ロアルキル基、あるいは式II ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （上式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は、前記の意味を有する
）で表わされる残基を形成し、 Ｒ＾５は水素、メチル、フェニルまたはカルボ−Ｃ＿１
−Ｃ＿２＿１−アルコキシを意味し、Ｒ＾６は水素また
はメチルを意味し、 Ｒ＾７は、ｎ＝１である場合には、 水素、Ｃ＿１−Ｃ＿２＿１−アルキル、Ｃ＿２−Ｃ＿２
＿２−アルケニル、Ｃ＿７−Ｃ＿１＿３−フェニルアル
キル、Ｃ＿５−Ｃ＿１＿２−シクロアルキル、フェニル
、ナフチル、Ｃ＿７−Ｃ＿１＿３−アルキルフェニル、
式▲数式、化学式、表等があります▼ （上式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記の意味を有する）
で表わされる残基、Ｃ＿２−Ｃ＿２＿０−アルキル（こ
れは−Ｏ−または▲数式、化学式、表等があります▼に
よつて中断され、そして／または式III ▲数式、化学式、表等があります▼（III） で表わされる残基により、またはＣ＿１−Ｃ＿２＿１−
アルキルカルボキシルにより置換されて いてもよく、ここでこれらの式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２Ｒ＾
３、Ｒ＾４、Ｒ＾５およびＲ＾６は前記の意味を有しそ
してＲ＾８は水素またはＣ＿１−Ｃ＿１＿０−アルキル
である） を意味し、 Ｒ＾７は、ｎ＝２である場合には、 直鎖状または分枝鎖状Ｃ＿１−Ｃ＿３＿０−アルキレン
、Ｃ＿２−Ｃ＿３＿０−アルケニレン、フェニルジアル
キレンを意味し、その際これらの基は−Ｏ−または▲数
式、化学式、表等があります▼（ここにＲ＾８は上記の
意味を有する）により中断されていてもよく、 Ｒ＾７は、ｎ＝３または４である場合には、下記式IV、
Ｖ、VIまたはVII ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII）、 で表わされる残基を意味する〕 で表わされる１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ
−スピロ−〔４，５〕−デカン化合物を製造すべく、 式VIII ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII）、 （上式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は前記
の意味を有する）で表わされる化合物を式IX ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） （上式中、ｎ、Ｒ＾５、Ｒ＾６およびＲ＾７は前記の意
味を有する）で表わされる化合物と、不活性 溶媒中で３０ないし１５０℃の温度におい て塩基性触媒中で反応せしめる方法におい て、室温で液体の芳香族炭化水素中の、化 合物VIIIに関して０．０５ないし２０モル％の相間移動
触媒の存在下に反応を行なうこと を特徴とする前記１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オ
キソ−スピロ−〔４，５〕−デカン化合物の製造方法。 ２、反応媒質として使用される芳香族炭化水素がトルエ
ンまたはキシレンである特許請求の範囲第１項記載の方
法。 ３、相間移動触媒として置換ホスホニウム塩またはアン
モニウム塩またはポリエチレングリコールジアルキルエ
ーテルを使用する特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４、相間移動触媒としてテトラアルキル−またはトリア
ルキルベンジルアンモニウムクロライドを使用する特許
請求の範囲第３項記載の方法。 ５、相間移動触媒としてテトラアルキルホスホニウムプ
ロマイドを使用する特許請求の範囲第３項記載の方法。
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