JPS62124386A - 配管継手 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は反応ガスの供給配管を相互に接続するための配
管継手に関し、特に異物の堆積及び反応ガス中への異物
の混入を防１にした配管継手に関するものである。

〔背景技術〕

一般に、半導体装置の製造に際しては、種々の反応ガス
を利用することが多く、例えば第４図に示す酸化シリコ
ン膜の成長装置では反応炉２１に対してモノシランガス
ｔＡ２２、酸素ガスｔＡ２３及び窒素ガス源２４を設け
、これらを分岐配管２５゜２６．２７及び主配管２８に
よって反応炉２１に接続させている。そして、各分岐配
管２５．２６゜２７及び主配管２８は夫々配管継手２９
．３０によって接続し、各反応ガスが主配管２８を通し
て反応炉２１内に供給できるように（ｈ成している。

ところで、これまでのこの種の配管継手は、第５図に前
記配管４ｔＪ千２９を示すように、筒状の管材３１．３
２を′ｒ字型に接続した構成或いは！ｌ「手本体内に１
゛字型の通路を開設した構成となっている。このため、
この配管継手内に反応ガスを通流させると、ガス流が直
角に曲げられるａｄ？ｒの角部において通流ガスに乱流
が生じ、同図に示すようにガス中に混入し−でいたゴミ
等の異物りが角部に１１１、積され易（なる。そして、
この堆積した）゛（物Ｘは、ガス流圧力等の力によって
角部からｊ／、＋１かれてガス中に混入し、反応か２１
内Ｇこまで供給されて反応に悪影響を与え、半導体装置
の製造歩留を低ドさせる原因となっている。

〔発明の］」的〕

本発明の「１的は、配管継手におけるガス流の乱流を防
＋ｌ−して継手内における異物の堆積を防止し、これＧ
こより反応ガス中への異物の混入及び反応炉へ、の）“
−物の侵入を防１トすることのできる配管継手を提Ｕｋ
することにある。

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかＣ１二なる
であろう。

〔発明の（既′Ｗ〕

本願において開示される発明のうり代表的なものの概要
を節中、に説明すれば、下記のとおりである。

即も、配管柑手内に形成する通路の角部の形状を流線形
状Ｇこ構成し、この角部において通流方向が変化される
ガスの乱流を防１１−シて角部への異物の堆積を防止し
、これに、Ｉ、リガス中−の異’４：りの混入を防止す
るようにしたものである。

〔実施例〕

第１図は本発明の−・実施例を示しており、例えば第４
図に示したように、反応炉２１に（ｊ（給するための反
応ガスの供給配管の一部に配管継手ｌを介挿配置したも
のとする。

ごの配管継手ｌは外形を直方体に構成した継手本体２の
内部に、直線通路３と、これに合流する枝通路４とを開
設した構成としている。ここでは前記直線通路３の一方
のボー１−３ａを−のガス源（例えば、モノシランガス
源）に連通ずる配管５に接続し、他方ポート３ｂを反応
炉に連通する配管６に接続している。また、枝通路４の
ボー）　＝１３は他のガス源（例えば、酸素ガス源）に
＋１通ずる配管７に接続している。

そして、前記枝通路４はボート４ａから直線通路３の合
流部に亘る部分を曲線状、Ｉｌｌら流線形状に形成し、
合流部においては直線通路４と接線方向に交わるように
構成している。この場合、流線形状は、ボー）４ａから
合流部に向かってガスがｉ１！ｉ流する方向の流線形状
に構成することは言うまでもない。

この構成によれば、ボート４ａから継手１内に／Ａ人さ
れたガスは、枝通路４から直線通路３に合流し、ボート
３ａからｌＡＥ人されたガスとともにボー＋−３ｂから
反応炉に向けて供給される。このとき、技１１１Ｊ路４
が流線形状をしており、しかも直線通路３とは接線方向
に合流しているので、枝通路４はもとより合流部におい
てもガス流の整流性はよく、両ガス流内に乱流が生じる
ことはない。したがって、ガスの乱流が原因とされる合
流部にお番ｊる異物の堆積が生じることはなく、この異
物が反応炉内Ｇこ侵入されることもない。これにより、
反応炉における処理を良好なものとし、半導体装置の製
造歩留の向−ｌ’ｒ−を達成できる。

第２図は本発明の他の実施例を示す。

この実施例は、配管継手１１をイ（・状に構成し７たも
のであり、また互いに合流する通路１２．１３を人々流
線形状に構成したものである。即ち、通路Ｘ２はボー１
−１２　ａからボート１４ａＬこ向かって流線形状とし
、また通路１３はボー）１３ａからボート１４ａに向か
って流線形状としている。

そして、ｐｌ＋ｊ通路１２．１３は合流部において互い
に接線方向に合流するように構成している。

本実施例においては、ボー１−１２３．１３Ｘ］から夫
々供給されるガスは夫々通路１２．１３を通流し、かつ
互いに合流してボート１４ａから図外の反応炉に向かっ
て供給される。このとき、合流部では各通路１２．１３
が流線形状をしているとともに互いに接線方向に交わっ
ているので、ガス流は整流性よく合流し、乱流が発生ず
ることはない。これにより、合流部における異物のｔｉ
ｔ積が防止でき、反応炉への異物の侵入を防止できるこ
とば前例と同しであるつ 史に、第３図は他の実施例であり、この実施例ではｉｉ
’１−一の配管を曲げる場合の継手として構成している
。この構成は１木の管状の継手１５を流線形状に曲げ、
一方のボーｈ　ｌ　５３をガス源に、他方のボート１５
ｂを反応炉に接続している。

この構成では継手１５内で通ｌＡ方向が曲げられるカス
は流線方向に沿って流動されるため、角部に４３いて乱
流が生じることはなく、角部に異物が堆積されることも
ない。これにより、供給ガス中に異物が侵入されるごと
を防止できる。

〔効果〕

（１）配管Ｎ陣手に形成した通路の曲げ部分を流線形状
としているので、通路内を通流するガスの流動方向が曲
げられる場合にも乱流が生じることはなく　、ｌｌｎ路
の角部に異物が堆積することを防止して清浄なガスの通
流を可能とする。

（２）複数の通路の合流部において、少なくとも一方の
通路を流線形状とし、かつ各通路は接線方向に合１％ｊ
させているので、合流部においてガス流に乱？ＡＣが牛
しることばなく、異物の堆積を防止するとともに、反応
炉への異物の侵入を防止できる。

以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例６、＝限定さ
れるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変
更可能であることはいうまでもない。

例えば、３以４二の通路を合流配置して配管継手を構成
してもよい。

〔利用分野〕

以−りの説明では主として本発明者によってなされた発
明をその背景となった利用分野である半導体装置の製造
に使用する反応ガス用の配管継手に適用した場合につい
て説明したが、それに限定されるものではなく、２以−
■二のガス或いは液体等の流体を合流させる構造の配管
にも同様に適用できる。

図面の簡１１【な説明 第１図は本発明の一実施例の断面図、 第２図は他の実施例の断面図、 第３図は更に他の実施例の断面図、 第４図は配管継手の使用例を示す構成図、第５図はこれ
までの配管継手の断面図である。

■・・・配管継手、２・・・継手本体、３・・・直線通
路、３ａ、３ｂ・・・ボート、４・・・枝通路、４ａ・
・・ボート、５．６．７・・・配管、１１・・・配管継
手、１２．１３−ｌｌｎ路、１２ａ、　　１３ａ、　　
１４ａ−・・ボート、１５・・・配管継手、２１・・・
反応炉、２２．２３．２４・・・ガス源、２５．２６．
２７・・・分枝配管、２８・・・王配管、２９．３０・
・・配管継手。

第　　１　　図 第　　２　　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、反応ガス等の流体を通流する配管を相互に接続する
   ための配管継手であって、この配管継手内に形成する曲
   設した通路の角部の形状を流線形状に構成したことを特
   徴とする配管継手。 ２、直線通路に対して合流する枝通路を流線形状とし、
   前記直線通路に対して枝通路を接線方向に合流させてな
   る特許請求の範囲第１項記載の配管継手。 ３、複数の通路を夫々流線形状とし、各通路を接線方向
   に合流させてなる特許請求の範囲第２項記載の配管継手
   。