JPS62119746A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
- Publication number
- JPS62119746A JPS62119746A JP60257592A JP25759285A JPS62119746A JP S62119746 A JPS62119746 A JP S62119746A JP 60257592 A JP60257592 A JP 60257592A JP 25759285 A JP25759285 A JP 25759285A JP S62119746 A JPS62119746 A JP S62119746A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical recording
- layer
- reflectance
- metal
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
テルル系光記録膜の反射率を高めかつピット形状を良好
にする。
にする。
本発明は光記録媒体、特に穴明はタイプのテルル（Ｔｅ
）系光記録媒体に係る。
）系光記録媒体に係る。
穴明はタイプの光記録媒体は、ガラスあるいはアクリル
樹脂のような透明基板上に金属膜を形成して構成される
。この光記録媒体にレーザビームを照射して金属膜のト
ラック上に直径約１μｍの穴を明けると、そこだけ光反
射率あるいは光透過率が変化するので、光記録が行なわ
れる。
樹脂のような透明基板上に金属膜を形成して構成される
。この光記録媒体にレーザビームを照射して金属膜のト
ラック上に直径約１μｍの穴を明けると、そこだけ光反
射率あるいは光透過率が変化するので、光記録が行なわ
れる。
ところで、穴明はタイプの光記録材料としてＴｅが優れ
た特性を有していることは知られている。しかし、Ｔｅ
は安定性が充分ではなく、酸化し易いという欠点を有し
ている。そこで、ＴｅにＳｅやＡｓなどを添加して安定
化した光記録材料が用いられている。
た特性を有していることは知られている。しかし、Ｔｅ
は安定性が充分ではなく、酸化し易いという欠点を有し
ている。そこで、ＴｅにＳｅやＡｓなどを添加して安定
化した光記録材料が用いられている。
ＴｅにＳｅ、Ａｓ等の安定な金属を添加すればＴｅは安
定化されるが、光反射率が低下し、またピット形状も汚
なくなるなどの欠点がある。光反射率は膜厚を大きくす
れば高くなるが、膜厚を大きくすると、ピット形状がさ
らに悪化しエラーの原因となり、また感度も落ちてしま
うという欠点がある。
定化されるが、光反射率が低下し、またピット形状も汚
なくなるなどの欠点がある。光反射率は膜厚を大きくす
れば高くなるが、膜厚を大きくすると、ピット形状がさ
らに悪化しエラーの原因となり、また感度も落ちてしま
うという欠点がある。
Ｃ問題点を解決するための手段および作用〕本発明者ら
は、上記問題点を解決するべく鋭意努力した結果、Ｔｅ
を主成分とする光記録層の下層もしくは上層またはその
両方に、その光記録層より光反射率が高くかつ融点が５
００℃〜８００℃の金属膜を設けることによって、光記
録媒体の光反射率を高めかつピット形状も良好にするこ
とが可能であることを見い出し、本発明を完成した。
は、上記問題点を解決するべく鋭意努力した結果、Ｔｅ
を主成分とする光記録層の下層もしくは上層またはその
両方に、その光記録層より光反射率が高くかつ融点が５
００℃〜８００℃の金属膜を設けることによって、光記
録媒体の光反射率を高めかつピット形状も良好にするこ
とが可能であることを見い出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、基板上にテルルを主成分とする光
記録層を有する光記録媒体において、光記録層の上層も
しくは下層またはその両方に該光記録層より光反射率が
高（かつ融点が５００℃〜８００℃の金属層を設けたこ
とを特徴とする光記録媒体にある。
記録層を有する光記録媒体において、光記録層の上層も
しくは下層またはその両方に該光記録層より光反射率が
高（かつ融点が５００℃〜８００℃の金属層を設けたこ
とを特徴とする光記録媒体にある。
記録膜の膜厚は、厚すぎると穴が明きにくく、またピッ
ト形状も汚なくなるためあまり厚くはできない。また、
信号検出のためにある程度の反射率を必要とするのであ
まり薄くすると不利である。
ト形状も汚なくなるためあまり厚くはできない。また、
信号検出のためにある程度の反射率を必要とするのであ
まり薄くすると不利である。
そこで最適な膜厚というものが必要になる。ところが、
Ｔｅはそのままでは酸化し易く耐久性に優れないので、
Ｓｅ 、Ａｓ等を添加して安定化を図る必要があるが、
Ｔｅにこれらを添加すると反射率が低下するので膜厚を
大きくする必要を生じ、結局、反射率とピット形状の両
方が良好な膜厚は存在しない。そこで、反射率の高い金
属層をＴｅを主成分とする光記録層の上層または（およ
び）下層に設けて反射率を補正すると、光記録膜の厚さ
を小さくして上記の最適の膜厚にすることが可能になる
と考えられる。このような反射率補正用に適当な金属は
融点が５００℃〜８００℃の範囲内にある。融点が高す
ぎると穴明けが困難になり、また融点が低いと適当な反
射率を有する金属が存在しない。このような考えに基づ
き、実際に反射率補正用の金属層を設けたところ、反射
率が向上する効果が認められるだけでなく、ピット形状
をきれいにする効果も見い出された。
Ｔｅはそのままでは酸化し易く耐久性に優れないので、
Ｓｅ 、Ａｓ等を添加して安定化を図る必要があるが、
Ｔｅにこれらを添加すると反射率が低下するので膜厚を
大きくする必要を生じ、結局、反射率とピット形状の両
方が良好な膜厚は存在しない。そこで、反射率の高い金
属層をＴｅを主成分とする光記録層の上層または（およ
び）下層に設けて反射率を補正すると、光記録膜の厚さ
を小さくして上記の最適の膜厚にすることが可能になる
と考えられる。このような反射率補正用に適当な金属は
融点が５００℃〜８００℃の範囲内にある。融点が高す
ぎると穴明けが困難になり、また融点が低いと適当な反
射率を有する金属が存在しない。このような考えに基づ
き、実際に反射率補正用の金属層を設けたところ、反射
率が向上する効果が認められるだけでなく、ピット形状
をきれいにする効果も見い出された。
反射率補正用金属としてはアンチモン（Ｓｂ）、アンチ
モンとインジウム、ひ素等の合金、アルミニウム（八り
などを用いることができる。
モンとインジウム、ひ素等の合金、アルミニウム（八り
などを用いることができる。
第１図を参照すると、プラスチック、ガラス、あるいは
ガラスに樹脂層を付着したものなどの透明基板ｌ上にＳ
ｉＯ□膜２を形成後、アンチモン（Ｓｂ）層３を厚さ５
Ｈｍに蒸着して形成し、それからＴｅ、Ｓｅ、合金をい
ろいろな厚さに蒸着して光記録層４として光ディスクを
作成した。比較のために、ｓｂ層を設けないでＴｅ、Ｓ
ｅ、層だけを形成した光ディスクを作成した。
ガラスに樹脂層を付着したものなどの透明基板ｌ上にＳ
ｉＯ□膜２を形成後、アンチモン（Ｓｂ）層３を厚さ５
Ｈｍに蒸着して形成し、それからＴｅ、Ｓｅ、合金をい
ろいろな厚さに蒸着して光記録層４として光ディスクを
作成した。比較のために、ｓｂ層を設けないでＴｅ、Ｓ
ｅ、層だけを形成した光ディスクを作成した。
これらの光ディスクについて光反射率を測定した。その
結果を第２図にまとめて示す。同図に見られるように、
Ｔｅ、Ｓｅ＋Ｎだけの光ディスクでは３０〜４０％の光
反射率を得るためには４０ｎｍ以上の厚さのＴｅｗＳｅ
＋層が必要である。ところが、ｓｂ層を設けることによ
って光反射率は上昇し、厚さ２０〜３０ｎｍのＴｅ９ｓ
ｅ、層で３０〜４０％の反射率を得ることができる。
結果を第２図にまとめて示す。同図に見られるように、
Ｔｅ、Ｓｅ＋Ｎだけの光ディスクでは３０〜４０％の光
反射率を得るためには４０ｎｍ以上の厚さのＴｅｗＳｅ
＋層が必要である。ところが、ｓｂ層を設けることによ
って光反射率は上昇し、厚さ２０〜３０ｎｍのＴｅ９ｓ
ｅ、層で３０〜４０％の反射率を得ることができる。
下記表はこれらの光ディスクのエラーレートを測定した
結果である。このエラーレートの測定では、半導体レー
ザを用い、出力１０ｍＷ、波長７８０〜８３０ ｎ ｍ
のレーザ光を直径約１μｍのビームに絞って光ディスク
の基板側から光記録膜に照射して穴明けを行なった。
結果である。このエラーレートの測定では、半導体レー
ザを用い、出力１０ｍＷ、波長７８０〜８３０ ｎ ｍ
のレーザ光を直径約１μｍのビームに絞って光ディスク
の基板側から光記録膜に照射して穴明けを行なった。
表
この表から、ｓｂ層を設けることによってエラーレート
がイに減する（ピット形状がきれいになる）ことが認め
られる。
がイに減する（ピット形状がきれいになる）ことが認め
られる。
こうして、ＳｂＮを設けることによって、光反射率が向
上するので光記録膜の膜厚を薄くできるのみならず、ｓ
ｂ層を設けることそれ自体により付加的にエラーレート
が低減し、従来技術の問題点が解決される。
上するので光記録膜の膜厚を薄くできるのみならず、ｓ
ｂ層を設けることそれ自体により付加的にエラーレート
が低減し、従来技術の問題点が解決される。
ｓｂ層をＴｅＳｅ層の上に設けた場合にも同様の傾向が
認められた。
認められた。
本発明によれば、穴明はタイプのＴｅ系の光記録媒体に
おいて、反射率を自由に制御し、かつピント形状をきれ
いにすることが可能である。
おいて、反射率を自由に制御し、かつピント形状をきれ
いにすることが可能である。
第１図は本発明の実施例の光ディスクの構成を表わす断
面図、第２図は実施例および比較例の光ディスクの反射
率とＴｅＳｅ層の膜厚との関係を表わすグラフ図である
。 Ｉ・・・基板、 ２・・・５ｉＯｚ膜、３−３
ｂ層、 ４−ＴｅｑＳｅ＋層。
面図、第２図は実施例および比較例の光ディスクの反射
率とＴｅＳｅ層の膜厚との関係を表わすグラフ図である
。 Ｉ・・・基板、 ２・・・５ｉＯｚ膜、３−３
ｂ層、 ４−ＴｅｑＳｅ＋層。
Claims (1)
- １、基板上にテルルを主成分とする光記録層を有する光
記録媒体において、光記録層の上層もしくは下層または
その両方に該光記録層より光反射率が高くかつ融点が５
００℃〜８００℃の金属層を設けたことを特徴とする光
記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60257592A JPS62119746A (ja) | 1985-11-19 | 1985-11-19 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60257592A JPS62119746A (ja) | 1985-11-19 | 1985-11-19 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62119746A true JPS62119746A (ja) | 1987-06-01 |
Family
ID=17308408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60257592A Pending JPS62119746A (ja) | 1985-11-19 | 1985-11-19 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62119746A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62154341A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-09 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光記録媒体 |
-
1985
- 1985-11-19 JP JP60257592A patent/JPS62119746A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62154341A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-09 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光記録媒体 |
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