JPS62119024A - 易滑性ポリアミドフイルム及びその製法 - Google Patents

易滑性ポリアミドフイルム及びその製法

Info

Publication number
JPS62119024A
JPS62119024A JP25864985A JP25864985A JPS62119024A JP S62119024 A JPS62119024 A JP S62119024A JP 25864985 A JP25864985 A JP 25864985A JP 25864985 A JP25864985 A JP 25864985A JP S62119024 A JPS62119024 A JP S62119024A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
dope
sulfuric acid
less
ppta
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP25864985A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0379175B2 (ja
Inventor
Takashi Fujiwara
隆 藤原
Shigemitsu Muraoka
重光 村岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP25864985A priority Critical patent/JPS62119024A/ja
Publication of JPS62119024A publication Critical patent/JPS62119024A/ja
Publication of JPH0379175B2 publication Critical patent/JPH0379175B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0373Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers

Landscapes

  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ポリ(p−)ユニしノテレフタルアミド)(
以下、PPTAと称する)からなるフィルムおよびその
製法に関し、さらに詳しくはフィルムの長尺方向(以下
、MD方向と略す)および幅方向(TD方向)共に優れ
た機械特性を示し、かつ侵れた表面性と易滑性を兼備す
るPPTAフィルム及びその製法に関するものである。
(従来の技術) PPTAは、特に優れた結晶性や高い融点を存し、また
剛直な分子構造の故に、耐熱性で高い機械的強度を有し
ており、近年、特、に注目されている高分子素材である
。またその光学異方性を示す濃厚溶液から紡糸された繊
維は高い強度およびモジュラスを示すことが報告され、
既に工業的に実施されるに到っているが、フィルムへの
応用例の提案は少なく、実用化例も未だ知られていない
PPTAの有する問題点としては、その有用な高分子量
のポリマーは有機溶媒Vc難溶であり、濃硫酸等の無機
の強酸が溶媒として用いられねばならないということが
挙げられ、これを回避するために、例えば特公昭56−
45421号公報では、直線配位芳香族ポリアミドの芳
香核にハロゲン基を導入した単位と、PPTA以外の芳
香族に置換基をもたない芳香族ポリアミドを共重合する
ことにより有機溶媒に可溶とし、それからフィルムを得
ようとする試みがなされている。しかし、これはモノマ
ーが高価な念め、コストが高くなる上に、折角の直線配
位性芳香族ポリアミドの耐熱性や結晶性を損なう欠点が
ある。
一方、特公昭59−14567号公報には光学異方性を
有する芳香族ポリアミド溶液をスリットから短い空気層
を介して凝固浴中に押出す方法が開示されているが、こ
の方法は、MD力方向機械的強度のみ強く、それと直交
するTD力方向機械的強度は極端に弱く、裂けやすいも
のしか得られなかつ次。
このように単に芳香族ポリアミドの光学異方性ドープを
押出し、そのまま凝固させただけでは、吐出方向に過度
に配向するために、フィブリル化しやす(TD力方向弱
いものとなってしまうため、これを改良しようとするフ
ィルム製造方法が種々検討され念。
例えば特公昭57−35088号公報には、光学異方性
を有する芳香族ポリアミド溶液を、リングダイから押出
し、インフレーション法を用いてドープの状態で2軸方
向に同時流延させ念後、湿式凝固させることにより等方
性のフィルムが得られるとしている。しかし、この方法
では均一な厚みの透明フィルムを得るのは難しく、機械
的強度殊に引裂強度が低いという欠点があるっ t次特公昭59−5407号公報、特開昭54−132
674号公報では、直線配位性芳香族ポリアミドの光学
異方性または光学等方性のドープを、ダイ中で押出し方
向と直角の方向に機械的に剪断力を与えることにより、
押出し時に押出し方向とその直角方向の2軸方向に配向
させる提案をしているが、ダイの構造が複雑で、工業的
実施上の難点がある。
さらにJ、Appl 、Polym、Scl 、vol
 、2.7、N[L8、P。
2965〜2985 (1982)には、PPTAの光
学異方性ドープをリングダイより油塗布した円錐状のマ
ンドレル上に押出すことにより、2軸配向し次フィルム
を得ることが提案されているが、このフィルムは、機械
的強度が等方的であるものの低く、ドラフトtかけた場
合、MD力方向機械的強度は高いが、TD力方向それは
著しく低いという欠点がある。
特公昭57−17886号公報には、直線配位性芳香族
ポリアミドの光学異方性ドープを凝固直前に、光学等方
性となるまで加熱した後、凝固させることによって、透
明で機械的物性が等方的であるフィルム金得ることが記
載されている。この方法は、従来の光学異方性ドープの
活用により高性能を得んとする大力の概念に逆らった独
創的なものであり、これにより光学異方性ドープの極端
な1軸配「」性の緩和と同時に、光学異方性ドープの液
晶ドメイン構造がドープを押出した後も残り、そのまt
−凝固して不透明なフィルムとなってしまうことを回避
することに成功している。しかし、フィルムの製造時の
取扱い性、使用時の取扱い性を良好にする上で必要な易
滑性のフィルムについては何も開示していない。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は、既に工業的生産が開始されているPP
TA’を用いて、高性能のフィルムであって、かつ易滑
性のフィルム及びその製法を提供するものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、上記目的に沿ったPPTAフィルムを得
るべく鋭意研究を重ねた結果、次の知見を得た。
即ち、特公昭57−17886号公報に開示された技術
(PPTAの光学異方性ドープをまずつくり、これを光
学等力比して凝固するという方法により、透明性のある
機械的性能にすぐれたPPTAフィルムが得られること
)において、PPTAの硫酸ドープに溶解せず、かつ硫
酸と反応しない無機の微粒子をドープに添加しこのドー
プからフイルムを製造すると易滑性のフィルムになるこ
とを発見し、更に研究を重ねて本発明として完成させ念
ものである。
即ち、本発明の第1は、対数粘度が3.5以上のボ1,
1(P−フェニレンテレフタルアミド)よりなるフィル
ムであって、全ての方向の引張伸度が8チ以上であり、
かつ硫酸に難溶性で硫酸と非反応性の2μm以下の無機
粒子を含んでなる易滑性ポリアミドフィルムであり、本
発明の第2は、対数粘度カ3.5以上のポリ(p−)ユ
ニレノテレフタルアミド)と95重量%以上の硫酸及び
硫酸に難溶性で硫酸と非反応性の2μm以下の無機粒子
とから実質的になる光学異方性ドープを、光学異方性を
保ったまま支持面上に流延し、吸湿又は/及び加熱によ
り該ドープを光学等方性に転化し九のち、10℃以下に
保持した30重量%以上の硫酸水(コ液中で凝固させ、
次いで洗浄をし、更にフィルムの収縮を制限しつつ乾燥
することを特徴とするポリアミドフィルムの製法である
本発明に用いられるPPTAは実質的に、マーであり、
従来公知のパラフェニレンジアミンとテレフタロイルク
ロライドから、低温溶液重合法により製造するのが好都
合である。
本発明のポリマーの重合度は、あまり低いと機機的性質
の良好なフィルムが得られなくなるため、3.5以上、
好ましくは4.5以上の対数粘度η1nh(硫酸100
−にポリマー0.5tを溶解して30℃で測定した値)
を与える重合度のものが選ばれる0 本発明のフィルムは以下に述べる2つの要件を満たして
初めて目的を達せられるものである。
まず第1に、本発明のフィルムは、全ての方向の引張伸
度が8チ以上である必要がある。8チよシ小さい伸度を
もつフィルムは裂けやすく実用的でないからである。引
張伸度は好ましくはxo%以上である。これに対して、
特公昭55−14170号公報に記載された方法でつく
ったPPTAフィルムはMD方向の伸度が高く4〜6チ
である上に、TD方向の伸度は1%未満できわめて裂け
やすい。
本発明のフィルムのもつ高伸度は、光学異方性のドープ
を支持面上に流延したのち光学等方性化するというプロ
セスと関連している。
本発明のフィルムは、第2に、硫酸に難溶性で硫酸と非
反応性の2μm以下の大きさの無機粒子を含有している
。粒子の大きさは好ましくは1μm以下、更に好ましく
は0.5μm以下である。無機粒子を含有することによ
って、フィルムに易滑性を付与することができるが、粒
子の大きさが2μmを超えると平滑性が損われて、例え
ば磁気テープとして使用するのに都合が悪くなる。本発
明に用いられる無機粒子としては、具体的には、硫酸カ
ルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、黒鉛、
酸化タンタル、二酸化ケイ素などを挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。硫酸と非反応性
であり、かつ硫酸に難溶性であるという要請は、専ら、
PPTAが溶融せず、かつ事実上硫酸ドープからしか成
形できないことにもとづく。なお、難溶性なる言葉は不
溶性をも含む広い概念と理解されるべきである。本発明
のフィルムに含まれる無機粒子の量は、PPTAK対し
て0.01〜5重量%の範囲が好ましく、更に好ましく
は0.1〜1重量%の範囲である。含有量は、フィルム
の性能(易滑性、機械的性能など)及びフィルム製造上
の操作性(ドープ粘度、吐出性など)の双方から決定さ
れるべきである。
本発明のフィルムは、好ましくは、以下の性質も有して
いる。
例えば、本発明のフィルムは、その少くとも一方向のヤ
ング率が1000 K9/+mj以上である。この条件
は、フィルムの変形抵抗性と密接に関連している。そし
て、例えば、磁気テープとして用いたときのジッター特
性と関連していて、更に好ましくは、少くとも一方向の
ヤング率が1300 K、)/”以上であり、最も好ま
しくはls o o Ky/yA以上である。本発明の
フィルムには、2つの、G様があり、1つは、タテ・ヨ
コのヤング率が1000 KL1/ri:j以上でほぼ
等しいバランスタイプであり、他の1つは、タテ・ヨコ
のどちらかがそのヤング率が太きく1oooKy/−以
上であるテンシライズドタイプである。
本発明のフィルムとしては、約12μm以下の薄いフィ
ルムが好ましい。特に好ましくは10μm以下である。
例えば、ビデオテープとして使ったとき同じ長さ当りの
かさ高さが厚みに比例して大きくなるため、小型・軽量
でかつ録画時間を長く、というニーズに合致するからで
ある。
また、本発明のフィルムは、好ましくは、実質的にボイ
ドを含まない。
更に、本発明のフィルムは、通常、その密度が1.37
0−1.420 r/c1dの範囲にある0この密度の
値は四塩化炭素−トルエンを使用した密度勾配管法によ
り30℃で測定されたものである。この密度の範囲は、
公知のPPTA繊維のそれが1.43に−から1.46
η−の範囲にあるのに較べてかなり小さい値である。該
密度が1.370 y/−未満になると機械的物性が低
下し、1.42oy/cd’に越えると面配向性、従っ
て機械的性質の等方針性の損なわれたフィルムとなる。
何れにしても、このように密度が小さいことから、軽く
て高強度のフィルムがKよる結晶配向角で定義される面
配向性を持っているのが好ましい。すなわちフィルム表
面に直角に入射したX線による20初23°のピークに
関する結晶配向角が30°以上であり、フィルム表面に
並行に入射し7’cX線による2θζ180のピークに
関する結晶配向角が60°以下であるのが好ましいっX
線の入射は、フィルム表面に直角に入射する場合(以下
、TV方向と称する)と表面に並行に入射する場合(以
下、Sv力方向称する)とに分けられる。
本発明のフィルムはTV方向からのX線により2θ¥2
3°に大きな回折ピークを持つが、この20(23°に
おける結晶配向角が30’以上であるのが好ましく、更
に50°以上であるのがより好ましい。さらにSv力方
向らの入射により20号18°の大きな回折ピークが赤
道線上に現れるが、この20すIHにおける結晶配向角
が60°以下であるのが好ましい。これらの両方の結晶
配向角が満たされたとき本発明のフィルムがいわゆる面
配向の構造を持つということがいえ、フィルムの引取方
向及びそれと直角な方向の双方ともに高い機械的性質を
有し、また大きい引裂き強度を有する上で非常に好まし
い。
結晶配向角の測定方法としては公知の方法が採用でき、
例えば次のような方法によって行われる〇所定の20の
角度に計数管を置き、フィルムを180°回転すること
により、回折強度曲線ヲ得る。
なお、TVにおいては、最高強度を中心とし、前後90
°の間を回転させる。この曲線の最高強度の、最低強度
点間に引いたベースラインに対する半分の強度を示す点
に対応する、回折写真における円弧長を度で表した値(
すなわち、最高強度のベースラインに対する50%の点
に対する角度)全測定し、それを試料の結晶配向角とす
る。測定に際し、フィルムは必要により何枚か重ねて回
折強度を測ることができる。
次に、この工うなPPTAフィルムを得る方法について
説明する。
本発明の方法において、まずPPTAの光学異方性ドー
プを調製する必要がある。
本発明のPPTAフィルムの成型に用いるドープを調製
するのに適し次溶媒は、95重重量板上の濃度の硫酸で
ある。95%未満の硫酸では溶解が困難であつ次り、溶
解後のドープが異常に高粘度になる。
本発明のドープには、クロル硫酸、フルオロ硫酸、五酸
化リン、トリハロゲン化酢酸などが少し混入されていて
もよい。硫酸は100重!−%以上のものも可能である
が、ポリマーの安定性や溶解性などの点から98〜Zo
o重量%濃度が好ましく用いられる。
本発明に用いられるドープ中のポリマー濃度は、常温(
約20℃〜30℃)またはそれ以上の温度で光学異方性
を示す濃度以上のものが好ましく用いられ、具体的には
約10重量%以上、好ましくは約12重量%以上で用い
られる。これ以下のポリマー濃度、すなわち常温または
それ以上の温度で光学異方性を示さないポリマー濃度で
は、成型されたPPTAフィルムが好ましい機械的性質
を持たなくなることが多い。ドープのポリマー濃度の上
限は特に限定されるものではないが、通常は20重量%
以下、特に高いηinhのPPTAに対しては18重量
%以下が好ましく用いられ更に好ましくは16重量%以
下である。
本発明のドープには、前記した硫酸に難溶性で硫酸と非
反応性の2μm以下の無機粒子を添加しておく必要があ
る。無機粒子は、PPTAを添加する前の硫酸に添加す
る、PPTAと同時に添加する、光学異方性ドープを形
成させたのちに添加する、一部のPPTAを添加溶解し
たのち無機粒子を添加し、次層で残余のPPTAを添加
するなどの任意の方法で行うことができる。無機粒子が
凝集したりすることを防ぎ分散性を良くするために、例
えばホモジナイザーやスタティックミキサーを使用する
ことも好ましい態様の1つである。
また、光学異方性ドープをつくったのちに無機粒子を添
加する方法の場合、添加に先立って可能な限り不溶性の
ゴミ、異物等を濾過等によって取除いておくこと、溶解
中に発生又は巻きこまれる空気等の気体を取除いておく
ことが、好ましい。脱気は、−且ドーブを調製したあと
に行うこともできるし、調製のための原料の仕込段階か
ら一貫して真空(減圧)下に行うことによっても達成し
うる。ドープの調製は連続又は回分て行うことができる
本発明において、無機粒子のドープ中への添加量は、好
ましくは約0.001〜3重量%(全ドープ量に対して
)である。
本発明のドープにはその他の普通の添加剤、例えば、増
量剤、除光沢剤、紫外線安定化剤、熱安定化剤、抗酸化
剤、顔料、溶解助剤などを混入してもよい。
ドープが光学異方性か光学等方性であるかは、公知の方
法、例えば特公昭50−13474号公報記載の方法で
調べることができるが、その臨界点は、溶媒の種類、温
度、ポリマー濃度、ポリマーの重合度、非溶媒の含有量
等に依存するので、これらの関係を予め調べることによ
って、光学異方性ドープを作り、光学等方性ドープとな
る条件に変えることで、光学異方性から光学等方性に変
えることができる。
このようにして調製され念ドープは、光学異方性を保っ
たまま、ダイ例えばスリットダイから、支持面上に流延
される。また、実験室的には、ガラス板上にドクターナ
イフで流延できる。本発明において、流延及びそれに続
く光学等方性への転化、凝固、洗浄、延伸、乾燥などの
工程を連続的に行っても、これらの全部又は一部を断続
的に、つまり回分式に行ってもよい。好ましくは、流延
工程を連続的に、しかも、ドープを流延する支持面の移
動速度をダイからのドープの吐出線速度の2倍以上で行
う方法である。
本発明に用いられる支持面は、ベルトやドラムの形状で
、或いは板状物として用いられる。その材質は、耐酸性
がちり表面仕上が可能なものであれば特に限定されず、
例えばガラス、ハステロイ、タンタル、金、白金、窒化
チタン等のメッキを施した金属などが好ましく用いられ
、特に好ましくは、これらの材料がいわゆる鏡面仕上げ
されているものである。
本発明のフィルムを得る方法は、ドープを支持面上に流
延した後、凝固に先立ってドープを光学異方性から光学
等方性に転化するものである。
光学異方性から光学等方性にするには、具体的には支持
面上に流延した光学異方性ドープを凝固に先立ち、吸湿
させてドープを形成する溶剤の濃度を下げ、溶剤の溶解
能力およびポリマー濃度の変化により光学等方性域に転
移させるか、または加熱することによりドープを昇温し
、ドープの相を光学等方性に転移させる或いは、吸湿と
加熱とを同時又は逐次的に併用することにより達成でき
る。特に、吸湿を利用する方法は、加熱を併用する方法
も含めて、光学異方性の光学等力比が効率よく、かつP
PTAの分解をひきおこすことなく出来るので有用であ
る。
ドープを吸湿させるには、通常の温度・湿度の空気でも
よいが、好ましくは、加湿又は加温加湿された空気を用
いる。加湿空気は飽和蒸気圧をこえて霧状の水分を含ん
でいてもよく、いわゆる水蒸気であってもよい。ただし
、約45℃以下の過飽和水蒸気は、大きい粒状の凝縮水
を含むことが、多いので好ましくない。吸湿は通常、室
温〜約180℃、好ましくは50−150℃の加湿空気
によって行われる。
加熱による方法の場合、加熱の手段は特に限定されず、
上記の如き加湿された空気を流延ドープに当てる方法、
赤外線ランプを照射する方法、誘電加熱による方法など
である。
支持面上で光学等力比された流延ドープは、次に凝固を
うける。本発明において、ドープの凝固液として使用で
きるのは、30重量%以上の硫酸水溶液である。30チ
未満の硫酸水溶液は、水を含めて、ドープの凝固速度が
大きすぎるためか、表面精就のすぐれたフィルムを得る
のが難しくなる。凝固浴は好ましくは40〜70重量%
の硫酸水溶液である。
本発明において、凝固液の温度は10℃以下にする必要
がある。これは、この温度が低い程、凝固速度を小さく
できることと、フィルムに包含されるボイドが少くなる
という傾向とが見出され、従ってフィルムの表面精度が
向上するからである。
凝固浴温度は好ましくは5℃以下であり、更に好ましく
は0℃〜40℃である。
凝固されたフィルムはそのままでは酸が含まれているた
め、加熱による機械的物性の低下の少ないフィルムを製
造するには酸分の洗浄、除去をできるだけ行う必要があ
る。酸分の除去は、具体的には約s o o ppm 
以下まで行うことが望ましい。
洗浄液としては水が通常用いられるが、必要に応じて温
水で行ったり、アルカリ水溶液で中和洗浄した後、水な
どで洗浄してもよい。洗浄は、例えば洗浄液中でフィル
ムを走行させたり、洗浄液を噴霧する等の方法により行
われる。
洗浄されたフィルムを、次に乾燥をうける前にもし望む
ならば湿潤状態で延伸してもよい。延伸は、1方向又は
2方向K 1.05倍以上にの延伸倍率で行う。このと
き、フィルム内に含有されている水分が汗の如く出てく
ることがしばしば見受けられる。1方向の延伸の場合、
MD力方向あってもそれと直角の方向であってもどちら
でもよく、好ましくは約1.1〜1.7倍の延伸を行う
。2方向の延伸は、同時2転延伸であっても、逐次的て
一軸づつ延伸してもよい。2方向延伸の場合、好ましく
は約1.07〜1.5倍の延伸倍率で行われる。延伸に
よって延伸方向にPPTA分子鎖を配向させることがで
きるため、機械的性質が向上する。
乾燥は、緊張下、定長下または僅かに延伸しつつ、フィ
ルムの収縮を制限して行う必要がある。
もし、洗浄液(例えば水)の除去とともて収縮する傾向
を有するフィルムを、何らの収縮の制限を行うことなく
、乾燥した場合には、ミクロに不均一な構造形成(結晶
化など)がおこるためか得られるフィルムの光線透過率
が小さくなってしまう。
また、フィルムの平面性が損われたり、カールしてしま
うこともある。収縮を制限しつつ乾燥するには、例えば
テンター乾燥機や金、に枠に挾んでの乾燥などを利用す
ることができる。乾燥に係る他の条件は特に制限される
ものではなく、加熱気体(空気、窒素、アルゴンなど)
や常温気体による方法、電気ヒータや赤外線ランプなど
の輌射熱の利用法、誘電加熱法などの手段から自由に運
ぶことができ、乾燥温度も、特に制限されるものではな
いが、常温以上であればよい。ただし、機械的強度を犬
にするためには、高温の方が好ましく、ioo℃以上、
さらに好ましくは200℃以上が用いられる。乾燥の最
高温度は、特に限定されるものではないが、乾燥エネル
ギーやポリマーの分解性を考慮すれば、500℃以下が
好ましい。
(実施例) 以下に実施例および参考例(PPTAの製造例)を示す
が、これらの参考例および実施例は本発明を説明するも
のであって、本発明を限定するものではない。なお、実
施例中特に規定しない場合は重量部または重量%を示す
。対数粘度ηinhは98%硫酸100−にポリマーo
、sμを溶解し、30℃で常法で測定した。ドープの粘
度は、B型粘度計を用いl rpmの回転速度で測定し
たものである。フィルムの厚さは、直径2ruxの測定
面金持つ念ダイヤルゲージで測定した。強伸度およびヤ
ング率は、定速伸長型強伸度測定機により、フィルム試
料f 100yun X 10mの長方形に切り取り、
最初のつかみ長さ30w5s引張り速度30u/分で荷
重−伸長曲線を5回描き、これより算出したものである
参考例(PPTAの製造) 低温溶液重合法により、次のどと<PPTAを得た。特
公昭53−43986号公報に示された重合装置中でN
−メチルピロリドン1000部に無水塩化リチウム70
部を溶解し、次いでパラフェニレンジアミン48.6部
を溶解した08℃に冷却した後、テレフタル酸ジクロラ
イド91.4部を粉末状で一度に加えた。数分後に重合
反応物はチーズ状に固化したので、特公昭53−439
86号公報記載の方法に従って重合装置より重合反応物
を排出し、直ちに2軸の密閉型ニーダ−に移し、同ニー
ダ−中で重合反応物を微粉砕した。次に微粉砕物をヘキ
シ;Iシミキサ−中に移し、はぼ等量の水を加えさらに
粉砕した後、濾過し数回温水中で洗浄して、iio℃の
熱風中で乾燥した。ηinhが5.8の淡黄色のPPT
Aポリマー95部を得意。なお、異なつ九ηinhのポ
リマーは、N−メチルピロリドンとモノマー(ハラフェ
ニレンジアミンおよびテレフタル酸ジクロライド)の比
、または/およびモノマー間の比等を変えることによっ
て容易に得ることができる。
実施例1 約0.5〜1μmの粒度の硫酸カルシウムを99.6−
の硫酸に添加して激しく攪拌した。このとき硫酸カルシ
ウムの硫酸に対する割合は0.5重量%とした。次いで
この分散液に、η1nh=5.8のPPTAをポリマー
濃度12重量%になるように溶解し、60℃で光学異方
性をもつドープを得た。このドープは、約30℃で9,
600ポイズであった。このドープを55〜65℃で約
4時間真空下に脱気した。
このドープを約65℃に保ったまま、表面仕上を入念に
施したガラス板上にキャストし、次いでドクターナイフ
でフィルム状に流延した。流延した光学異方性ドープを
ガラス板ごと、120℃のホットプレート上において加
熱するとともニ、32℃80%湿度の空気から吸湿させ
て、硫酸カルシウムの分散した光学等方性ドープに転化
した。
次いで、ドープを流延したガラス板と、−15℃の35
%硫酸水溶液中に浸漬して凝固させた。
約10分間浸漬したのち、形成されたフィルムを硫酸水
溶液からとり出し、約25℃の水中に2昼夜静置して(
ただし、計7回水をとりかえた0)、洗浄した。
得られた湿潤フィルムをそのままの状態で一方向に1.
2倍延伸し、次いでステンレス製の枠にはさんで、定長
で乾燥した。乾燥は約32℃の大気中に工昼夜放置する
ことで行った。
乾燥後のフィルムは、厚さ8.3μm1延伸方向の引張
強度27Kf/lul、  引張伸度15%、ヤング率
1340〜/−1延伸方向と直角の方向の引張強度16
 Kq/rri、引張伸度32チ、ヤング率850’K
f/’mjであり、延伸力向と300.45°、60°
の方向に引張試1倹をしたところ伸度は20〜30%の
間に全て入っていた。また、フィルム調製時、ガラス板
と接していなかった側の面の中心線平均粗さくRa)は
0.07で、ガラス板と接してい次側の面のRaは0.
20で、ガラス板と接していた面どうしをすり合せると
非常にすべすべしていた。(RaはJISに従って測定
し念。)また、フィルムの密度はL404f/ad、 
T V方向に関する2θ〜23’における結晶配向角は
55°、Sv力方向関する20′F18°におけるそれ
は36°であった。
更にフィルムを顕微鏡で観察したところ、111rrL
以下の硫酸カルシウムが均一に分散していたO実施例2
〜5 ηinhが565のPPTAポリ−q −f 99.7
 %の硫酸にポリマー濃度11゜5チで溶解し、60℃
で光学異方性のあるドープを得た。このドープの粘度を
常温で測定したところ、10600ボイズだった。
このドープを約70℃に加温して、約0.3μm以下に
微粉砕したシリカゲルをドープに対して約0.1重量%
添加し、ニーダで充分に混練した。このドープを約70
℃に保った捷ま、真空下に脱気した。この場合も上記と
同じく光学異方性を有し、粘度は4400ポイズであっ
た。タンクから静止型混合機を通しギアポンプをへてダ
イに到る1、5mの曲管を約70℃に保ち、0.151
1JX 300B+1のスリットを有するダイから、鏡
面に磨いたタンタル製のベルトにキャストし、相対温度
約85%の約90℃の空気を吹きつけて、流延ドープを
光学等方化し、ベルトとともζ、−20℃の30重量%
硫酸水溶液の中に導いて凝固させた。次いで凝固フィル
ムをベルトからひきはがし、約40Cの温水中を走行さ
せて洗浄した。洗浄の終了したフィルムをそのままで、
或いは乾燥させずにテンターで延伸し、次いで別のテン
ターを用いて定長下に240℃で熱風乾燥した。その結
果を第1表に示す。いずれのフィルムにも、シリカゲル
(SiOz)が0.3μm以下の微粒子として約0.4
〜0.5重量%分散して含まれていた。ま之、ベルトに
接していた面のまさつ係数が特に小さく、滑りゃすがっ
たQ 以下余白 (発明の効果) 本発明のフィルムは、実施例に示したように市販のフィ
ルムには見られない高い強度と高いヤング率で表される
良好な機械的性質を有し、しかも表面精度が非常に良好
な面と易滑性の面とを併せもっている。またこれらの性
質のみならず、優れた電気絶縁性、耐熱性、耐油性、耐
圧性、強酸以外の耐薬品性、構造の緻密性を有する。と
の之め、本発明のフィルムは、高速回転する電気機器の
絶縁材料や磁気テープ、フレキシブルプリント配線基板
、熱転写プリンター、電線被覆材、濾過膜等に好適に使
用することができ、さらにもうひとつの特徴である透明
性に優れていることから、包装材料、表板材料、写真フ
ィルム等にも有用なものである。
特に、本発明のフィルムは、高いヤング率と強い耐引裂
性、高い表面精度と易滑性を全て備えて−るので、とデ
オテープ、コンピュータテープ、オーディオテープ、フ
ロッピディスク、各種カード(電話、乗車券、定期乗車
券など)などの磁気テープとして有用で、殊に画像の鮮
明性や安定性にもすぐれた高品質のビデオテープとして
有用である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)対数粘度が3.5以上のポリ(p−フェニレンテ
    レフタルアミド)よりなるフィルムであつて、全ての方
    向の引張伸度が8%以上であり、かつ硫酸に難溶性で硫
    酸と非反応性の2μm以下の無機粒子を含んでなる易滑
    性ポリアミドフィルム
  2. (2)対数粘度が3.5以上のポリ(p−フェニレンテ
    レフタルアミド)と95重量%以上の硫酸及び硫酸に難
    溶性で硫酸と非反応性2μm以下の無機粒子とから実質
    的になる光学異方性ドープを、光学異方性を保つたまま
    支持面上に流延し、吸湿又は/及び加熱により該ドープ
    を光学等方性に転化したのち、10℃以下に保持した3
    0重量%以上の硫酸水溶液中で凝固させ、次いで洗浄を
    し、更にフィルムの収縮を制限しつつ乾燥することを特
    徴とするポリアミドフィルムの製法
JP25864985A 1985-11-20 1985-11-20 易滑性ポリアミドフイルム及びその製法 Granted JPS62119024A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25864985A JPS62119024A (ja) 1985-11-20 1985-11-20 易滑性ポリアミドフイルム及びその製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25864985A JPS62119024A (ja) 1985-11-20 1985-11-20 易滑性ポリアミドフイルム及びその製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62119024A true JPS62119024A (ja) 1987-05-30
JPH0379175B2 JPH0379175B2 (ja) 1991-12-18

Family

ID=17323194

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25864985A Granted JPS62119024A (ja) 1985-11-20 1985-11-20 易滑性ポリアミドフイルム及びその製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62119024A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02133434A (ja) * 1988-11-14 1990-05-22 Asahi Chem Ind Co Ltd 高易滑性ポリアミドフィルムおよびその製法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5835540A (ja) * 1981-08-28 1983-03-02 Ricoh Co Ltd 湿式現像に用いる静電記録紙
JPS60127523A (ja) * 1983-12-14 1985-07-08 Toray Ind Inc 高密度記録媒体用ベ−スフイルム

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5835540A (ja) * 1981-08-28 1983-03-02 Ricoh Co Ltd 湿式現像に用いる静電記録紙
JPS60127523A (ja) * 1983-12-14 1985-07-08 Toray Ind Inc 高密度記録媒体用ベ−スフイルム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02133434A (ja) * 1988-11-14 1990-05-22 Asahi Chem Ind Co Ltd 高易滑性ポリアミドフィルムおよびその製法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0379175B2 (ja) 1991-12-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0198326B1 (en) Poly-p-phenylene-terephthalamide film and process for producing the same
US4857255A (en) Poly-p-phenylene-terephthalamide film and process for producing the same
JPH0353336B2 (ja)
JPH054961B2 (ja)
JPH0352775B2 (ja)
JP2664965B2 (ja) 高易滑性ポリアミドフィルムおよびその製法
JPS62119024A (ja) 易滑性ポリアミドフイルム及びその製法
JP2552333B2 (ja) フイルムの製造方法
JP2912877B2 (ja) 芳香族ポリアミドフィルムおよびその製造方法
JPS63182352A (ja) フイルムの製造法
JPH03417B2 (ja)
JPS62116637A (ja) フイルム及びその製造法
JP2628900B2 (ja) 易滑性ポリアミドフイルム
JPH0376809B2 (ja)
JPH0260684B2 (ja)
JPS63254136A (ja) 芳香族ポリアミドフイルムおよびその製造方法
JPS6247179A (ja) 圧電性フイルムおよびその製造方法
JPH0257816B2 (ja)
JP2867288B2 (ja) 芳香族ポリアミドフイルム
JPS6399241A (ja) ポリパラフエニレンテレフタルアミドフイルムの製造方法
JPS62174118A (ja) ポリパラフエニレンテレフタラミドフイルムおよびその製法
JP2628898B2 (ja) アラミドフイルムの製造法
JPS62117725A (ja) ポリアミドフイルム及びその製造法
JPH046736B2 (ja)
JPS62216709A (ja) フイルムの製法

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term