JPS62118505A - 積層チツプインダクタの製造方法 - Google Patents

積層チツプインダクタの製造方法

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JPS62118505A
JPS62118505A JP25906585A JP25906585A JPS62118505A JP S62118505 A JPS62118505 A JP S62118505A JP 25906585 A JP25906585 A JP 25906585A JP 25906585 A JP25906585 A JP 25906585A JP S62118505 A JPS62118505 A JP S62118505A
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JP
Japan
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conductive material
hole
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laminated
baked
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JP25906585A
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Riichi Naganuma
長沼 理市
Norio Sato
佐藤 憲雄
Hiromitsu Ogawa
小川 廣光
Eiji Mishiro
三代 英治
Masayo Ito
伊東 雅代
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 積層チップインダクタの製造方法であって、非導電材上
に多数の同形コイル導体パターンを形成して、それぞれ
90°回転して積重ね、切断、焼成して側面に形成した
スルーホールを接続して積層チップインダクタの量産を
可能にした。
(産業上の利用分野〕 本発明は、混成集積回路等に用いる積層チップインダク
タの製造方法に係り、とくに量産を可能にした積層チン
ブインダクタの製造方法に関する。
近年、電子機器は電子部品の小形化に伴なって、ユニッ
ト化された回路基板上に搭載するチップ形部品たとえば
、セラミック基板等に形成したチップ形インダクタが出
、現しているが、このチップ形インダクタはセラミック
基板上にスパイラルとなっているので、スペースファク
タが悪く高密度実装に適さないので、スペースファクタ
が良好で高密度実装に迩する積層チップインダクタの製
造方法の開発が強く要望されている。
〔従来の技術〕
従来のチンブインダクタは、リング状の磁性材に導体か
らなるコイルを巻回するか、または誘電体たとえばセラ
ミック等からなる基板上に導体パターンをスパイラルに
形成した構造である。
(発明が解決しようとする問題点〕 」二記従来のインダクタにあっては、いずれも平面的構
成のためスペースファクタが悪く、高密度実装を阻害し
量産が困難で高価になる等の問題点があった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、上記の問題点を解決してスペースファクタが
良好で高密度実装に適する積層チップインダクタの製造
方法を提供するものである。
すなわち、4個を基準単位Aとし、縦、横同数の基準単
位Aの複数個+172基準単位への寸法の非導電材上に
、該基準f1′L位八を4等分する十字状の切断線の4
分線の中央にスルーホールの下孔を穿設し、前記基準単
位への1)1)1の中心に環状の一部を除き、その両端
に連なるパターンが前記下孔に達する導体パターンを形
成した前記非導電材それぞれ90゛回転して複数枚積み
重ね、さらに上面にダミー非導電祠を■【ね、切断線に
沿って切断し焼成したるのら、全面に導体を塗布抜切断
面を前記スルーボールの)孔のI/2以下に研磨し焼成
したことによって解決される。
〔作用〕
上記積層デツプインダクタの製造方法は、同一磁性材か
らなる板上に4個を基準単位とした複数個+172基準
単位を縦、横同数(完成時の数は奇数)とし、しかも基
準単位に同心で同形の導体パターンを形成し、それぞれ
を90゛回転して積重ねてこれを切断し焼成して製造す
るので量産化に適する。
〔実施例〕
第1図は、本発明の一実施例を説明する導体パターンを
形成した斜視図である。
図において、磁性材等からなる非導電材1上に、4個で
基準単位Aを形成する。そして縦、横同数(図面では各
3.5枚)の基準単位Aの複数個+172基準単位への
大きさの非導電材1上に、基準単位Aを4等分する十字
状の切断線9の4分線の中央にスルーホール2の下孔(
21)を穿設する。そして基準単位Aの1個の中心に環
状の一部を除き、その両端に連なるパターンが前記下孔
(21)に達する導体パターン5を形成したものである
第2図は、本発明の一実施例を説明する図で、同図(a
)は分解斜視図、(ト))は組立斜視図で、(C)は回
路表示図で、第1図と同等の部分については同一符号を
付している。
図において、第1図で説明した磁性材等からなる非導電
材1をそれぞれ90”回転して積み重ね、第1枚目の磁
性材1の導体パターン5の一方の半円のスルーホール2
が、第2枚目の90°異なった半円のスルーポール2と
合致し、そして第2枚目の他の半円のスルーホール2は
第3枚目の90°異なった半円のスルーホール2と合致
する。このようにして所用枚数の非導電材1を積重ねた
のち、さらに上面にダミー非導電材6を積重ね切断線9
に沿って個々に切断し焼成したるのち、全面に導体を塗
布抜切断面を前記スルーホール2の下孔(21)の17
2以下に研磨し焼成すれば第2図fblの如き積層チッ
プインダクタとなる。そしてこの積層チップインダクタ
を回路表示で示したものが第2図cc+である。
なお、本実施例では非導電材に基準単位Aを縦。
横3.5個について説明したが、完成時の数は奇数とな
れば良< 1.5,2.5.3.5.C5・・・100
.5個等であっても良い。また、導体パターンは円状に
ついて説明したが、円状に限らず三角、四角等の多角形
であっても構わない。さらに導体パターンを形成する非
導電材を磁性材について説明したが、磁性材に限らず絶
縁材であっても構わない。
〔発明の効果〕
以上の説明から明らかよように、本発明によれば積層チ
ンプインダクタの量産が可能となり、コストダウンが期
待できるとともに、搭載部品の高密度実装に極めて有効
である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を説明する導体パターンを
形成した斜視図、 第2図は、本発明の一実施例を説明する図で、同図(a
lは分解斜視図、(b)は組立斜視図で、(C)は回路
表示図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  4個を基準単位Aとし、縦、横同数の基準単位Aの複
    数個+1/2基準単位Aの寸法の非導電材(1)上に、
    該基準単位Aを4等分する十字状の切断線(9)の4分
    線の中央にスルーホール(2)の下孔(21)を穿設し
    、前記基準単位Aの1個の中心に環状の一部を除き、そ
    の両端に連なるパターンが前記下孔(21)に達する導
    体パターン(5)を形成した前記非導電材(1)をそれ
    ぞれ90°回転して複数枚を積み重ね、さらに上面にダ
    ミー非導電材(6)を積重ね、切断線(9)に沿って切
    断し焼成したるのち、全面に導体を塗布後切断面を前記
    スルーホール(2)の下孔(21)の1/2以下に研磨
    し焼成したことを特徴とする積層チップインダクタの製
    造方法。
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