JPS62112206A - 磁気ヘツド接合用ガラス組成物 - Google Patents

磁気ヘツド接合用ガラス組成物

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JPS62112206A
JPS62112206A JP25215885A JP25215885A JPS62112206A JP S62112206 A JPS62112206 A JP S62112206A JP 25215885 A JP25215885 A JP 25215885A JP 25215885 A JP25215885 A JP 25215885A JP S62112206 A JPS62112206 A JP S62112206A
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JP
Japan
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mol
glass
magnetic head
zno
glass composition
Prior art date
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Pending
Application number
JP25215885A
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English (en)
Inventor
Ryuzo Higashihara
隆三 東原
Hiroyuki Chiba
博之 千葉
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気ヘッドの製造において強磁性酸化物であ
るフェライトとフェライトあるいはフェライトと非磁性
酸化物であるセラミックスの接合を行う際に用いる磁気
ヘッド接合用ガラス組成物に関するものである。
従来の技術 近年、高密度磁気記録技術の向上に伴い性能のより優れ
た磁気ヘッドが要求されるようになってきている。その
ためには、磁気ヘッドの磁気空隙部において非磁性充填
材料としてガラスが用いられ、更に摺動面を構成するフ
ェライト及びセラミックス等の接合においてもガラス充
填が可能であり精度の高い接合が要求されている。これ
らフェライトあるいはセラミックス等と接合材であるガ
ラスとの熱膨張、濡れ性及びマツチング性を考慮してカ
ラスが選択されてきた。
ところで、従来の磁気ヘッド作製における接合方法は最
初に高融点ガラスを用いてギャップを形成融着せしめた
コアを更に低融点ガラスを用いてセラミックスと融着接
合するといったものであった。その際、ギャップの変形
等が起こらないように低温度で融着させている。
また、融着温度が700℃以上のガラスを用いて融着さ
せた場合には高温域で溶融ガラスがフェライト粒界へ拡
散したりフェライト表面のサーマルエツチングが激しく
なるという欠点がある。また、Mn−Znフェライト材
を用いた場合には記録特性を悪くするα二Fe2r3が
析出する等の問題が発生する。
そこで、これらの問題を生じさせないために融着温度が
低(できる低融点ガラスが広く用いられている。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、現在市販されている低融点ガラスは高酸
化鉛含有アルミナ珪酸塩ガラス(pb。
−3i02−Al2O2Glass)であり、これらは
耐湿及び耐アルカリ性が著しく悪く、湿度の高い環境下
に放置した場合、磁気ヘッドのガラス部が腐食(風化)
し始め、接着強度を低下させたり腐食により発生した突
起物により記録媒体を損傷させたりしてヘッドの電磁変
換特性に悪影響を及ぼすという問題点があった。
そこで、本発明はフェライト等を接合するに際して濡れ
性及びマツチング性が良好で、しがもガラス自身の耐久
性が優れた低融点の磁気ヘッド接合用ガラス組成物を提
供することを目的とする。
問題点を解決するための手段 上記した従来の問題点を解決するため、本発明は 第1組成物 Bi2O3、SiO2、B2O3の3成分を主成分とし
、且つそれぞれを B i 203 : 13〜30 (m01%)S i
 02 : 30〜50 (m01%)B203:1〜
20(1000%) の範囲内で、しかも Si0S102(%)+B203(m01%)〉45(
m01%) Si02(ma1%)/B2O3(m01%)〉2なる
関係式を満足するよう含有し、また残部にLi 20.
Na2O,に20.ZnOのうち少なくとも1種をそれ
ぞれ L i 20 : 1〜20 (m01%)Na 20
 : 1〜18 (m01%)K2O: 1〜10 (
11101%〉ZnO: 1〜7 (m01%) の範囲内で含有する磁気ヘッド接合用ガラス組成物と、 第2組成物 Bi 2O3、PbO,S io2.B203(7)4
成分を主成分とし、且つそれぞれを Bi2O3: 3〜30 (m01%)PbO: 1〜
30 (m01%) S i 02 : 30〜50 (m01%)B2O3
 : 1〜20 (m01%)の範囲内で、しかも B i 203 (mol%)+PbO(mol%)〉
20(mol%) Si02(moI%)十B2O3(mol%)〉45(
mol%) SiO2(mol%)/B2O3(mol%)〉2なる
関係式と満足するよう含有し、また残部にLi2O,N
a2O,ZnOのうち少なくとも1種をそれぞれ L i 20 : 1〜20 (mol%)Na 20
 : 1〜10 (mol%)ZnO:1〜7(111
01%) の範囲内で含有する磁気ヘッド接合用ガラス組成物を提
案する。
なお、上記第1組成物においてB i 203を13〜
30mo1%としたのは13mo1%より少なくすると
作業温度が700℃より高くなり、しかも化学的耐久性
が劣化するためであり、また30m、o1%より多くな
ると融着する際に結晶化し易くなるためである。またS
iO2を30〜50mo1%としたのは30mo1%よ
り少なくするとガラスが失透し易く耐久性が劣化するた
めで、また50mo1%より多くすると作業温度が70
0℃より高くなり、熱膨張係数が80X10  ℃ よ
り小さくなるためである。
更にB2O3を1〜20mo1%としたのは1mo1%
より少なくすると温度−粘度曲線の勾配が穏やかになり
作業温度が700℃より高(なるためで、また20mo
1%より多くすると耐候性が劣化し且つ熱膨張係数が8
0X10  ℃ より小さくなるためである。
ところで、ZnO及びL i 20.Na 20.に2
0のうち少な(とも1成分を含有させるのは作業温度を
低くするためであり、特にLi2O,Na2O,に20
成分を複合させれば、いわゆる混合アルカリ効果が起こ
り融点を低下させると共に化学的耐久性を向上させるこ
とができるからである。
また、上記第2組成物において、PbOを1〜30mo
1%としたのは融点を低下させるためで、30mo1%
より多くすると化学的耐久性が劣化するためである。B
 i 203+Pbo>20mo1%とじたのは20m
o1%より少なくすると作業温度が700℃より高くな
るためである。それ以外の成分は先に述べた第1組成物
における理由と同様の理由からである。
作  用 上記組成とすることにより、本発明の磁気ヘッド接合用
ガラス組成物は、フェライトあるいはセラミック等との
濡れ性及びマツチング性が良好で、且つ耐久性に優れた
ものとなる。
実施例 以下、本発明の一実施例について説明する。
先ず、ガラスの作製においては高純度アルミナルツボを
用いて850〜1000℃で約30分溶解撹拌しガラス
を得た。
(以下、余白) 第1表の試料No、■〜[相]に本発明の範囲内に入る
ガラス組成及びその諸特性を示し、同表の試料No、■
〜@に比較例として本発明範囲外のガラス組成及びその
諸特性を示す。
第1表より、本実施例のガラスは、フェライト融着に適
切な熱膨張係数(90〜130xlO−7℃ )を有し
ているのがわかる。
ヘッドの作製においては、第1表において試料No、■
〜[相]に示した組成のガラスを用いて第1図に示した
M n −Z nフェライト(熱膨張係数=120xl
O−7℃−’、(25〜300℃の温度変化に於いて)
)である強磁性磁心、1及び2をつきあわせ、その頂部
3付近に棒状のガラス4を置き、接合熱処理温度は各ガ
ラスによって異なるが、ガラス粘度が約10’pois
eになる温度を選択した。また熱処理は窒素雰囲気中に
て行った。更に、ガラス中の気泡の発生を極力避けるた
めに昇温速度は20℃/分とし、保持時間も1゜分程度
と短くした。このような融着作業を行った後、強磁性磁
心の前面5を研削し、その後ラッピング加工を施し、第
2図に示すような非磁性間隙部6を作製した。
次に、本実施例によるガラス組成物の化学的耐久性を調
べるために60℃−相対湿度95?6の雰囲気中での2
40時間の耐湿試験を恒温槽を用いて行った。ここで、
耐湿試験の評価方法としては第2図の強磁性磁心1,2
と非磁性間隙部6を含む面7を鏡面仕上げし、触針式表
面形状測定器を用いて耐湿試験前後の非磁性間隙部6の
表面形状及び侵食量を調べた。また光学′R微荒を用い
てガラス表面6aの変色状況も観察した。
本発明によるガラス組成物と耐湿性を比較する目的で本
発明のガラス組成の範囲外である高鉛含有珪酸塩ガラス
(第1表の試料No、(fD、@)及び硼酸塩系ガラス
(第1表の試料No、@)についても同様に化学的耐久
性を調べた。
耐湿試験前後の表面形状状態について、本発明によるガ
ラス(第1表の試料No、■、■、■)のものを第3図
に、また本発明の範囲外のカラス(第1表の試料No、
@、@)のものを第4図に模写した。
第4図よりわかるように、高鉛含有珪酸塩ガラスの表面
形状は著しく粗くなっているのがわがる。その原因とし
ては、過剰酸化鉛がガラス表面上に水酸化化合物を形成
したことが考えられる。
おころで、前記したガラス表面上の荒れは摺動ノイズ、
記録媒体の損傷、磁気ヘッドの損傷等の原因になりかね
ないという危険性がある。
又、硼酸塩系カラス(第1表の試料No、@)の場合、
ガラス表面は青色の干渉色を示し、いわゆる「青やけ」
現象が起こり、外観不良となる。
それに対し本発明の一実施例によるガラス組成物は、第
3図に示すように耐湿試験後のガラス表面状、態は、試
験前の状態に比べてほとんど変化しておらず、ガラス表
面の変色も全くみられなかった。
発明の効果 上述したように本発明によるガラス組成物は、フェライ
トヘッド材に対し好適な融着を可能にし、信頼性の優れ
たヘッドを提供することができ、極めて有効なるらので
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本発明の一実施例による磁気ヘッド接
合用ガラス組成物を用いた磁気ヘッドの製造過程を説明
するための図、第3図は本発明の一実施例によるガラス
組成物のヘッドギャップ部の表面形状断面図で(a)は
耐湿試験前断面図、(b)は耐湿試験後断面図、第4図
は本発明の一実施例に対する比較例として実験した高鉛
含有珪酸塩ガラスのへラドキャップ部の表面形状断面図
で(a)は耐湿試験前断面図、(b)は耐湿試験後断面
図である。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか1名@1図 第3図 第4図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Bi_2O_3、SiO_2、B_2O_3の3
    成分を主成分とし、且つそれぞれを Bi_2O_3:13〜30(mol%) SiO_2:30〜50(mol%) B_2O_3:1〜20(mol%) の範囲内で、しかも SiO_2(mol%)+B_2O_3(mol%)>
    45(mol%) SiO_2(mol%)/B_2O_3(mol%)>
    2なる関係式を満足するよう含有し、また残部にLi_
    2O、Na_2O、K_2O、ZnOのうちの少なくと
    も1種をそれぞれ Li_2O:1〜20(mol%) Na_2:1〜18(mol%) K_2O:1〜10(mol%) ZnO:1〜7(mol%) の範囲内で含有してなる磁気ヘッド接合用ガラス組成物
  2. (2)Bi_2O_3、PbO、SiO_2、B_2O
    _3の4成分を主成分とし、且つそれぞれを Bi_2O_3:3〜30(mol%) PbO:1〜30(mol%) SiO_2:30〜50(mol%) B_2O_3:1〜20(mol%) の範囲内で、しかも Bi_2O_3(mol%)+PbO(mol%)>2
    0(mol%) SiO_2(mol%)+B_2O_3(mol%)>
    45(mol%) SiO_2(mol%)/B_2O_3(mol%)>
    2なる関係式を満足するよう含有し、また残部にLi_
    2O、Na_2O、K_2O、ZnOのうち少なくとも
    1種をそれぞれ Li_2O:1〜20(mol%) Na_2O:1〜18(mol%) K_2O:1〜10(mol%) ZnO:1〜7(mol%) の範囲内で含有してなる磁気ヘッド接合用ガラス組成物
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